打造国产高端直写光刻平台,业绩5年10倍:光刻不该只有ASML!

2024-07-11 18:11:29 - 新浪财经头条

来源:市值风云

业界少数几家掌握高端直写光刻技术的企业之一。

打造国产高端直写光刻平台,业绩5年10倍:光刻不该只有ASML!

打造国产高端直写光刻平台,业绩5年10倍:光刻不该只有ASML!

作者 | 木鱼

编辑| 小白

光刻,是制造PCB与泛半导体的重要工艺。

光刻工艺应用于PCB内层图形、外层图形和阻焊层的制造,对应设备为曝光设备,有传统曝光和直接成像两类,区别为是否使用底片。目前,直接成像是PCB曝光设备的主流技术。

与之类似,泛半导体光刻也有直写光刻和掩膜光刻两类,区别在于是否使用掩膜版,不同的是掩膜光刻相对来说更为主流。

关于掩膜光刻机,风云君过去曾在多篇研报中有过深度分析。

特别声明:以上内容仅代表作者本人的观点或立场,不代表新浪财经头条的观点或立场。如因作品内容、版权或其他问题需要与新浪财经头条联系的,请于上述内容发布后的30天内进行。

今日热搜