捷佳伟创申请SAMs成膜方法专利，可以有效减少工艺时间，减少有机溶剂废液
2024-06-21 08:05:20 - 金融界网站
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金融界2024年6月21日消息，天眼查知识产权信息显示，深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司申请一项名为“一种单分子层SAMs的成膜方法“，公开号CN202410190780.4，申请日期为2024年2月。
专利摘要显示，本发明公开了一种单分子层SAMs的成膜方法，属于一种单分子层SAMs的成膜方法领域，包括以下步骤：基片送入ALD镀膜设备的镀膜腔中；预加热基片；SAMs溶液加热成SAMs气体；镀膜腔内通入SAMs气体吹扫基片，通入的SAMs气体的载气量为20sccm‑70sccm，通入时间为4s‑8s；镀膜腔内通入惰性气体吹扫基片，通入的惰性气体的载气量为50sccm，通入时间为26s‑52s；基片从ALD镀膜设备的镀膜腔中输出。本发明利用ALD镀膜设备实现SAMs薄膜的沉积，能够有效减少工艺时间，可以减少有机溶剂废液。