台积电申请EUV光刻掩模专利,可实现通过焦耳加热处理对纳米管层执行
2023-12-05 22:50:14 - 金融界网站
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金融界2023年12月5日消息,据国家知识产权局公告,台湾积体电路制造股份有限公司申请一项名为“用于EUV光刻掩模的薄膜及其制造方法“,公开号CN117170178A,申请日期为2023年5月。
专利摘要显示,本公开涉及用于EUV光刻掩模的薄膜及其制造方法。在一种制造用于极紫外(EUV)光掩模的薄膜的方法中,形成包括多个碳纳米管的纳米管层;将纳米管层附接到薄膜框架;以及通过施加电流经过纳米管层来对纳米管层执行焦耳加热处理。