华海清科股份有限公司关于“集成电路化学机械抛光关键技术与装备”项目荣获2023年度国家技术发明奖一等奖的自愿性披露公告
2024-06-25 02:45:27 - 上海证券报
本公司董事会及全体董事保证本公告内容不存在任何虚假记载、误导性陈述或者重大遗漏，并对其内容的真实性、准确性和完整性依法承担法律责任。
近日，华海清科股份有限公司（以下简称“公司”）和清华大学共同完成的“集成电路化学机械抛光关键技术与装备”项目荣获2023年度国家技术发明奖一等奖，公司董事长、首席科学家路新春先生作为项目第一完成人获得2023年度国家技术发明奖一等奖证书。
化学机械抛光（CMP）是先进集成电路制造前道工序、先进封装等环节必需的关键制程工艺，公司以清华大学科技成果转化的CMP技术成果为基础，进行CMP装备产业化应用的核心技术研发，率先推出国内首台拥有自主知识产权12英寸CMP装备，实现了国内市场CMP装备领域的国产替代。公司持续加大自主研发力度，推出多款CMP商业化机型，并依托稳定的性能和良好的售后服务优势，批量进入行业知名芯片制造企业，国内市场占有率达到较高水平。
国家技术发明奖是我国在科学技术领域的最高奖项之一。本次获奖，即是对公司核心研发团队在CMP领域技术创新成果的充分肯定，也是对公司长期推动CMP装备国产化的高度褒奖。
本次获奖对公司近期业绩暂无重大影响，敬请广大投资者注意投资风险。
特此公告
华海清科股份有限公司
董事会
2024年6月25日
证券代码：688120证券简称：华海清科公告编号：2024-041
华海清科股份有限公司
关于“集成电路化学机械抛光关键技术与装备”项目荣获2023年度国家技术发明奖一等奖的自愿性披露公告