迈为股份取得曝光装置专利，能够自动测量获取掩膜版距离承载组件的高度
2024-06-17 22:00:25 - 金融界网站
转自：金融界
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金融界2024年6月14日消息，天眼查知识产权信息显示，苏州迈为科技股份有限公司取得一项名为“一种曝光装置“，授权公告号CN221149141U，申请日期为2023年9月。
专利摘要显示，本实用新型涉及光伏电池片加工技术领域，尤其涉及一种曝光装置。该曝光装置包括升降驱动组件、承载组件及高度测量组件，升降驱动组件用于驱动掩膜版升降移动，承载组件位于掩膜版的下方，承载组件用于吸附固定产品基片，高度测量组件与升降驱动组件信号连接，高度测量组件包括第一测量件和第二测量件，第一测量件位于掩膜版的下方，第二测量件位于承载组件的下方，第一测量件能测量掩膜版距离预设基准面的高度，第二测量件能测量承载组件距离预设基准面的高度，以获取掩膜版距离承载组件的高度。该曝光装置能够自动测量获取掩膜版距离承载组件的高度，保证不同的掩膜版距离产品基片的高度均处于所需的高度处，并且检测精准，检测更加便捷。