Rapidus宣布安装TWINSCAN NXE:3800E：日本首台EUV光刻机
2024-12-19 10:27:05 - 网易新闻
Rapidus宣布，在其位于日本北海道千岁市的创新集成制造工厂（IIM-1）交付并安装ASML的EUV（极紫外）光刻设备。EUV光刻技术是实现2nm工艺的关键技术之一，为了纪念这一时刻，Rapidus在新千岁机场的Portom会议厅举行了仪式。
Rapidus表示，这是日本半导体行业的一个重要里程碑，标志着EUV光刻工具将首次在当地大规模应用。除EUV光刻机外，Rapidus还将在其IIM-1工厂安装更多先进的半导体制造辅助设备以及全自动材料处理系统，以优化2nmGAA半导体工艺的制造。Rapidus计划2025年4月在IIM-1工厂启动试验生产线，同时将继续建设新的半导体代工服务，称为快速和统一制造服务（RUMS）。
ASML是唯一生产EUV光刻机的公司，这次Rapidus购入的是TWINSCANNXE:3800E系统。如果试产2nm芯片顺利，Rapidus可能会在接下来计划中的第二间工厂内采用1.4nm工艺，并加大EUV光刻机的购买量。为了支持Rapidus的运营，ASML在当地还设立了服务中心。
Rapidus是由索尼、丰田、NTT、三菱、NEC、铠侠和软银等八家日本企业于2022年成立的合资企业，旨在实现本地化先进半导体工艺的设计和制造。Rapidus在2022年底与IBM签署了技术授权协议，目标在2027年开始实现2nm工艺的批量生产。