荷兰光刻机限令刚出,中国发布氟化氩光刻机,能突破8纳米限制吗

01中国自主研发的氟化氩光刻机顺利问世,套刻精度达到≤8nm,性能接近全球最先进水平。02该成果打破了荷兰阿斯麦公司的技术垄断,对美荷两国在光刻机领域的“技术封锁”策略构成有力回击。03由于此突破,荷兰政府开始担忧失去我国市场的潜在危机,光刻机市场的变局从依赖到自主掌控。04此外,我国在光刻机领域的突破对...

里程碑突破:国产大芯片光刻机首度交付,挑战国际巨头ASML

近期，科技界的焦点聚集在了国产28纳米光刻机的成功交付使用。这一事件对于国内半导体产业而言，无疑是划时代的里程碑，标志着首台国产大芯片光刻机的诞生。光刻机，作为集成电路制造的核心设备，其技术水平直接决定了芯片的性能和生产效率。过去，高端光刻机市场长期被国外巨头垄断，这一局面如今得到了改变。国产28纳...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

此次推出的65纳米光刻机，虽然与全球最顶尖的7纳米光刻机仍有差距，但已经能够满足大部分工业芯片的生产需求。尤其是在汽车制造、家电智能化等领域，28纳米及以上的芯片需求庞大，而中国自主研发的光刻机正好填补了这一市场空白。更重要的是，随着国产光刻机的不断改进，中国芯片产业逐步摆脱了对外技术的依赖。这不...

350纳米!俄罗斯发布国产光刻机,荷兰ASML最不愿看到的局面出现

不过有人认为,350纳米的光刻机,距离赶超欧美还是不太现实。事实上也确实如此,毕竟当前最先进的光刻机,已经可以生产5纳米制程的芯片。与俄罗斯的350纳米相比,领先了有70倍,远远地将俄罗斯甩在身后。当前,半导体领域正在向着更精密的方向发展,芯片也从7纳米演变到5纳米,如今更是进化到了3纳米。但这不代表着350...

重大突破!俄罗斯研造出首台光刻机,350纳米到底啥水平?

那就是他们国内第一台光刻机已经成功制造了出来,这一台光刻机能够生产的芯片,是350纳米工艺的,现在已经对其进行测试了,当这台光刻机出来后没多久,俄罗斯又把自己接下来的举动给公布了出来,那就是想要把130纳米工艺的光刻机给制造出来,现在很多国家都已经研究五纳米的光刻机了,为何俄罗斯研究的光刻机和其他国家...

3纳米制程芯片为什么需要EUV光刻机和多重曝光技术?

图:EUV光刻机第二步:引入EUV技术(www.e993.com)2024年11月23日。EUV(极紫外光刻)使用13.5纳米的波长,可以更好地刻蚀出精细的图案。EUV技术有助于缩小芯片尺寸并提高密度。然而,即便是EUV,也面临着分辨率和准确性的问题,尤其是当我们试图在3纳米制程中实现更小的特征尺寸时。图:EUV光刻机原理...

ASML High-NA EUV光刻机取得重大突破:成功印刷10纳米线宽图案

IT之家4月18日消息,荷兰阿斯麦(ASML)公司宣布,其首台采用0.55数值孔径(NA)投影光学系统的高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻机已经成功印刷出首批图案,这标志着ASML公司以及整个高数值孔径EUV光刻技术领域的一项重大里程碑。

荷兰光刻机限令刚出,中国卡点官宣新技术!落后ASML水平20年?

中国突然公布自主研发光刻机的消息后，各国网络瞬间沸腾，许多国外网友纷纷借机挑衅。他们认为，中国目前在光刻机上的套刻精度还不到8纳米，这一技术水平根本无法与荷兰相提并论，毕竟荷兰的ASML公司早在20年前就已经达到这一技术标准，他们认为中国此举完全是自我陶醉。实际上，要评估一个国家在特定领域的技术水平，...

全世界只有两个国家掌握,比原子弹更稀有,高端光刻机到底有多难

高端光刻机的制造究竟有多难?高端光刻机背后的复杂程度远超普通人的理解,甚至可以说,这玩意儿就是科技界的“珠穆朗玛峰”。让咱们来简单讲讲。首先,光刻机最核心的技术是极紫外光(EUV)技术。这种光波长短得离谱,只有13.5纳米,远远小于头发丝的万分之一。要产生这种光,需要用高能激光打到一滴小小的锡上,瞬...

首先得有,28nm/65nm突破为何被工信部列为“重大技术”

目前NA最大为1.35(ASML的湿法DUV),EUV光刻机正在从0.33NA向0.55NA突破。<span></F2(157nm),且系统升级更便捷,浸没式DUV脱颖而出。目前NA最大为1.35(ASML的湿法DUV),EUV光刻机正在从0.33NA向0.55NA突破。浸没式光刻技术原理简析DUV光刻机想要生产更先进制程芯片,除了浸没式外,就必须突破多重曝光技术的...