光刻胶是什么材料?这种材料在高科技产业中有什么应用?

在集成电路制造中,光刻胶是实现芯片图形转移的关键材料。通过光刻工艺,将设计好的电路图案精确地复制到硅片上。为了更清晰地展示光刻胶在不同领域的应用,以下是一个简单的表格:在平板显示领域,光刻胶用于制造液晶显示器和OLED显示器中的像素图案,直接影响着显示的清晰度和色彩表现。在印刷电路板制造中,光刻...

芯片制作过程堪称科技界“微雕艺术”,而光刻胶就是这艺术品基础

芯片的制作过程真的堪称科技界的“微雕艺术”，而光刻胶就是这艺术品的基础。光刻机在加工芯片时，靠的是光刻胶来完成“雕刻”工作。简单来说，光源通过光掩膜照射在涂有光刻胶的晶圆上，被光照过的光刻胶会发生软化，再用溶剂洗掉软化部分，晶圆上的微小部分就会暴露出来。然后，腐蚀溶剂将暴露出的晶圆部分“咬...

...光电取得微纳光学器件制造方法专利,实现不同微纳结构的构造制作

专利摘要显示,本申请公开了一种微纳光学器件制造方法,该方法包括:利用半导体光刻和刻蚀工艺在晶圆上形成第一微纳结构;在晶圆上涂敷光刻胶;将第一区域中的光刻胶完全移除,以露出至少部分第一微纳结构,并对第二区域中的光刻胶进行灰度曝光,以在第二区域的光刻胶上形成第二微纳结构;以及将第一和第二微纳结构转印...

光刻胶,比光刻机更重要,或许会限制芯片制造发展

现阶段，中国在功率、重频、带宽和稳定性等方面已经取得了实质性的进展，中国光刻机和芯片都值得期待。尽管行业发展向好，但行业内专家仍然对光刻胶问题表示担忧，认为这可能是中国需要克服的真正瓶颈。虽然我们可以从国外引进光刻机，并且也在积极进行自主研发，但在光刻胶生产领域，我们还存在技术难题。这个行业的盈...

2纳米芯片必备的底层技术,国产厂商还真有储备

首先要老话重提,半导体是个非常庞大的产业,任何一家企业都不可能独立完成芯片制造,因为芯片制造所涉及的大量材料及设备,例如硅金属材料的开采、晶圆、光刻胶、光刻机等都来自全球各家企业。但是要从生产制造层面来看,芯片制造的关键其实就是“光刻工艺”,也就是用光刻技术在晶圆上制作微小电路图案的过程。

艾森股份获3家机构调研:PSPI(光敏聚酰亚胺)既起光刻作用又是介电...

公司亮点:1、电镀化学品市场空间广阔,直接受益于国产替代;2、先进封装用负性光刻胶、OLED阵列制作用正性光刻胶取得重要进展,为国内唯一量产供应商;3、整体方案(Turnkey)能力加深壁垒,深度绑定行业内优质客户;4、电镀液及配套试剂产品切入光伏、锂电等新能源领域,开拓新的业绩增长点(www.e993.com)2024年11月23日。公司战略规划:1、募投项目:...

光刻技术的过去、现在与未来

控制系统:控制系统是光刻机的大脑,负责管理整个光刻过程。它监控和调整光源的强度、曝光时间、光束的聚焦和掩模对准,确保图案的准确传输到光刻胶表面。掩模(Mask):掩模是一个透明介质,其表面带有所需的微细图案。通过曝光和投影,掩模上的图案被投射到光刻胶上,形成所需的模板,使光刻胶固化成所需的图案。

一万八干字详解半导体刻蚀工艺_腾讯新闻

工艺步骤:在光刻过程中,刻蚀工艺用于将光刻胶上的图形转移到基材上。这是通过选择性去除光刻胶未覆盖的区域来实现的。应用实例:在制造MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管)时,刻蚀用于形成源极和漏极的区域,以及栅极的结构。2.多层结构的形成:工艺步骤:刻蚀工艺用于在多层结构中逐层去除材料,以形成互连和通...

光刻机的故事(上):如何用极紫外光制造电路板?

完整的光刻系统包括曝光工具、mask制作、光刻胶和计量设备等,需要在各个子组件和功能上进行重大技术创新。经济因素在不同NGL技术的兴衰中起了关键作用,最终的工具需要能够长时间高吞吐量地进行晶圆曝光。1997年,SEMTEC确定XPL、EPL和离子投影光刻为最有可能的候选技术,而EUV排名第四。

晶圆级封装(WLP),五项基本工艺

之后涂覆光刻胶(Photoresist)以形成电镀层,并通过光刻工艺绘制图案,再利用电镀形成一层厚的金属层。电镀完成后,进行光刻胶去胶工艺,采用刻蚀工艺去除剩余的薄金属层。最后,电镀金属层就在晶圆表面制作完成了所需图案。这些图案可充当扇入型WLCSP的引线、重新分配层封装中的焊盘再分布,以及倒片封装中的凸点。下文将对...