石英股份获得实用新型专利授权:“一种用于四氟化硅制备白炭黑的...

装置包括具有中空内腔的腔室和安装于内腔中的过滤构件,该过滤构件将腔室的内腔分隔成第一腔和第二腔;该过滤构件可透气体和液体但不可透固体;该腔室还包括进气口、喷淋口和抽气口;该进气口连通第一腔,用于供四氟化硅气体与氨水雾化汽同步地通入第一腔并在第一腔内混合反应得到反应产物;该喷淋口连通第一腔,用于...

氟硅酸应用范围不断扩大,氢氟酸制取领域受到关注

无水氟硅酸外观为无色气体状,稳定性差,易分解。氟硅酸易溶于水,水溶液为无色透明状,是一种强酸,具有强腐蚀性,浓氟硅酸溶液为发烟液体,有刺激性气味,易挥发,受热易分解。氟硅酸可用作化工原料,用来生产氟硅酸盐,例如氟硅酸钠、氟硅酸钾、氟硅酸铵等,以及四氟化硅等化学品;可用作电镀添加剂,用于金属电镀领域...

氢氟酸如何腐蚀石头?原理、是否需包裹、自然性及处理方法全解析

保障通风良好,避免吸入有害气体。2.清洗表面:在清洗四氟化硅的表面时,应利用碱性物质,如氢氧化钠溶液。以10%-20%浓度的氢氧化钠溶液浸泡被腐蚀的区域,然后用温水冲洗。重复此过程多次,直到四氟化硅完全被清除。3.中和酸性物质:假使四氟化硅已经渗入到玉石或其他固体材料中,可采用碱性物质实行中和。可利用...

中芯国际、台积电供应商中宁硅业启动IPO辅导 中国信达、上汽集团...

高纯四氟化硅气体是半导体集成电路行业中的一种重要原料，目前工业化生产主要集中在美国和日本，国内长期依赖进口。2022年6月，中宁硅业完成了集成电路—高纯四氟化硅气体研发并全面投产，实现年产能300吨。据其副总经理郑安雄介绍，“目前，中宁硅业已经与中芯国际、京东方、台积电等泛集成电路行业领军企业建立了合作关系...

华特气体获220家机构调研:四氟化硅产品是公司今年研发的重点产品...

答:会区分是逻辑芯片还是存储芯片,在相同产能的情况下,存储芯片的气体用量比逻辑芯片的气体用量大2-3倍。问:13、公司在刻蚀类和CVD方面的气体发展情况?四氟化硅产品进展如何?答:公司氟碳类主要用在芯片刻蚀环节,公司在研项目中也主以芯片刻蚀类气体为主。CVD气体,像硅基类等,纯化的产品已有供应到下游,合成的...

...公司中宁硅业主要产品包括电子级硅烷、乙硅烷、电子级四氟化硅...

公司回答表示,您好,子公司中宁硅业主要产品包括电子级硅烷、乙硅烷、电子级四氟化硅等产品,高纯氟氮混合气产品现在进行客户端验证,预计明年年底要建成15种特用电子气体生产线(www.e993.com)2024年11月24日。产品供不应求,利润率较高,已经与京东方、台积电等集成电路行业领军企业建立了合作关系,感谢关注。

中船特气:特种气体“中国创造”

2019年,二期项目开始建设,主要产品为三氟化氮、六氟化钨、六氟丁二烯及氯化氢、氟化氢、四氟化硅等高纯气体。公司再次展示出“特气速度”,仅用6个月时间就完成了212台生产设备、750吨钢结构、2.5万米工艺管道、3万米电气电缆的工程量,建成全球单条产能最大的三氟化氮生产线。

半导体检测工业特种气体有哪些?

四氟化碳(CF4):作为等离子蚀刻工艺中常用的工作气体,是二氧化硅、氮化硅的等离子蚀刻剂。乙硼烷(B2H6):窒息臭味的剧毒气体。硼烷是气态杂质源、离子注入和硼掺杂氧化扩散的掺杂剂。四氟化硅(SiF4):遇水生成腐蚀性极强的氟硅酸。主要用于氮化硅(Si3N4)和硅化钽(TaSi2)的等离子蚀刻、外延沉积扩散的硅源和光导纤...

华特气体:有知名基金经理范妍参与的,共58家机构于4月29日调研我司,

答:公司今年重点要研发突破的产品以刻蚀环节应用的为主,像四氟化硅产品是公司今年研发的重点产品,目前已经完成小试进入投产阶段。问:在公司逐步突破国外垄断的过程中,国内厂商怎么强化自己的竞争行为?答:国产化的推动下,国产化的特种气体在半导体厂的份额提升明显,国内厂商也会不断地提升自己的产品竞争力和市占率...

四氟化硅需求不断增长 2022年我国电子级产品生产能力较弱

四氟化硅,分子式为SiF4,常压下外观为无色气体状,加压可液化,有刺激性臭味,有毒性,有腐蚀性,不燃烧,可溶于乙醇、硝酸、氢氟酸等,不溶于乙醚。四氟化硅吸湿性强,易潮解,在潮湿空气中可分解,分解产物为硅酸、氟化氢,遇水会缓慢水解,水解产物为硅酸、氢氟酸,硅酸与氢氟酸是弱酸,但氢氟酸可以与未水解的四氟化硅反应...