美媒:能让阿斯麦瘫痪台积电光刻机,结果阿斯麦一天蒸发600亿

M国这一招可谓是直指中国芯片产业的软肋。要知道，光刻机可是芯片制造的核心装备，没有先进光刻机，想要生产7纳米以下的高端芯片几乎是不可能的。一时间，中国芯片业仿佛陷入了"寒冬"。台积电、中芯国际等芯片代工厂纷纷推迟了先进制程的量产计划。有分析师甚至预测，中国芯片产业至少要落后国际先进水平5-10年。但是...

美怕中国自己生产EUV光刻机,开始施压高校不许接收中国留学生

据观察者网2024年7月17日发文，随着美国持续打压中国半导体发展、扰乱产业秩序，就连与荷兰光刻机巨头阿斯麦开展校企合作的高校也被卷入所谓“中美芯片战”的漩涡。彭博社15日披露，美国近来多次敲打荷兰埃因霍温理工大学减少接收中国留学生，令后者从课题研究到就业等都面临诸多限制。去年美国驻荷兰大使杜加尔就曾向他提出...

台积电用旧光刻机生产1.6纳米,中国成ASML先进光刻机的救命稻草

然而如今台积电却宣布采用原有的EUV光刻机生产1.6纳米,这就让ASML难受了,台积电为全球最大的芯片代工厂,如果台积电不买,ASML的2纳米EUV光刻机就失去了一个巨大的客户,这显然是ASML不愿看到的。台积电如此做在于2纳米光刻机实在太贵了,而台积电原来买入的EUV光刻机可是有过百台,那是数百亿美元的投资,台积电当然...

台积电掀桌子,用旧光刻机也能生产2nm芯片,不花冤枉钱

所以,台积电一直在想办法,让旧光刻机能够生产更为先进的芯片。比如之前第一代7nm芯片,台积电就没有采用EUV光刻机,而是采用旧的DUV光刻机,这样来节省成本。直到第二代7nm芯片,台积电才切换为EUV光刻机。而近日传出,2nm工艺以及之后的1.6nm工艺下,台积电也没打算换成High-NAEUV,台积电要继续使用旧的EUV光刻...

正式确认,国内的光刻机完全可以生产5纳米,先进工艺不再是桎梏

近期海外有实验室对此进行尝试,他们已证明了以浸润式DUV光刻机确实可以生产5纳米工艺,通过多重曝光技术以及其他技术的辅助,甚至可以生产出比台积电的5纳米更先进的工艺。海外的相关人士也指出,虽然用这种方式可以生产出5纳米工艺,但是后果是良率偏低、成本很高,对于海外的芯片制造企业来说,他们能买到EUV光刻机,用EUV...

随时毁台?“阿斯麦称可远程瘫痪台积电光刻机”

台积电是阿斯麦的重要客户,世界上最先进的芯片约有90%产自中国台湾(www.e993.com)2024年11月24日。阿斯麦网站展示的由该公司生产的光刻机消息人士称,EUV需要频繁维护,如果没有阿斯麦提供的备件,这些机器很快就会停止工作。EUV的现场维护要求很高,它们被安置在无尘室内,需要工程师穿着特殊的套装以避免污染。

台积电狂买EUV光刻机

台积电狂买EUV光刻机台积电2纳米先进制程产能将于2025年量产,设备厂正如火如荼交机,尤以先进制程所用之EUV(极紫外光曝光机)至为关键,今明两年共将交付超过60台EUV,总投资金额上看超过4,000亿元。在产能持续扩充之下,ASML在2025年交付数量成长将超过3成。

ASML远程关闭台积电的光刻机,技术上可行么?

答案是不能,key被破解有可能,找到会维修的工程师问题也不大,最大的问题就是设备原厂的核心零部件。除了无法取得零部件,光刻机还有个问题,那就是需要定期进行光路校正,这需要ASML的算法与特殊工具,如果无法获得定期校正,光刻机很快会成为废铁。那我们可以自己搞出核心零部件跟校正的特殊工具吗?我想这些能搞定我们...

台积电CEO秘访ASML,High-NA EUV光刻机竞赛提前打响?

相比于激进的英特尔,台积电却依旧“淡定”,公开表示其现拥有的低噪点EUV光刻机阵容可以支持生产到2026年。在前不久台积电举办的2024年北美技术论坛,台积电首次公布了A16制程工艺,并透露A16制程工艺不需要采用下一代High-NAEUV光刻机。台积电让现有EUV发挥“余热”,通过提高生产效率的多重掩模和先进的基于纳米片的晶...

台积电或2030年才采用High-NA EUV光刻机,用于制造1nm芯片

据DigiTimes报道,来自于晶圆厂工具制造商的消息证实,台积电要等到1nm制程节点才会使用High-NAEUV光刻机,可能是出于对成本的考虑。根据台积电之前公布的路线图,1.4nm级A14工艺的推出时间大概在2027年至2028年之间,而1nm级A10工艺的开发预计会在2030年前完成。