重大突破!华科人攻克芯片光刻胶关键技术

团队在电子化学品领域深耕二十余载,立足于关键光刻胶底层技术研究,致力于半导体专用高端电子化学品原材料和光刻胶的开发,并以新技术路线为半导体制造开辟新型先进光刻制造技术,同时为材料的分析与验证提供全面的手段。团队负责人表示:“以光刻技术的分子基础研究和原材料的开发为起点,最终获得具有自主知识产权的配方技术...

8亿抄底半导体稀缺资产,光刻机+先进封装助力百傲化学打造第二曲线

但随着资本市场和投融资环境的变化,芯慧联主动调整了自身的经营策略,将短期内难以实现盈利的晶圆键合设备业务与其他原有业务的拆分,并加大了其他半导体设备业务的发展力度,且拓展新增了光刻机再制造及相关技术服务业务。拆分后,续存的芯慧联得以在晶圆键合设备以外的半导体设备方面放开手脚,光刻机再制造及相关技术服务...

国产KrF光刻胶通过量产验证,半导体行业迎来突破性进展

总体来看，国产KrF光刻胶的成功量产验证标志着我国在半导体制造材料领域迈出了重要的一步。尽管目前的自给率仍显不足，但随着技术的不断创新和发展，未来国产光刻胶有望在全球市场上占据一席之地。通过太紫微公司的不断努力和突破，期待能够为国内半导体产业的持续发展提供强有力的支撑。

光谷攻克芯片光刻胶关键技术

10月15日,中国光谷诞生重大科技成果:武汉太紫微光电科技有限公司在全国率先攻克合成光刻胶所需的原料和配方,我国芯片制造关键原材料取得瓶颈性突破。该公司新型光刻胶产品已通过半导体工艺量产验证,即将量产。太紫微公司成立于2024年5月,由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。团队主攻关键光刻胶底层技术研发,已...

荷兰光刻机限令刚出,中国卡点官宣新技术!落后ASML水平20年?

首先，光刻机是一项极为复杂的技术，涉及精密光学、机械制造、半导体工艺等多个高精尖领域。ASML经过数十年的研发积累，已经掌握了极其成熟的技术，而中国在这方面的起步较晚。其次，光刻机的研发不仅仅依赖于单一技术，还需要一个全球化的供应链支持。从光源到镜片，再到高精度的控制系统，任何一个环节的短板都可能...

极紫外光刻技术获突破:可大幅提高能源效率,降低半导体制造成本

8月2日,冲绳科学技术大学院大学(OIST)的教授新竹俊(TsumoruShintake)提出了一种极紫外(EUV)光刻技术(www.e993.com)2024年11月23日。基于这种设计的EUV光刻技术可以使用更小的EUV光源工作,从而降低成本,显著提高机器的可靠性和使用寿命。而在消耗电量上不到传统EUV光刻机的十分之一,有助于半导体行业变得更加环境可持续。

利和兴:全自动纳米压印技术在半导体芯片光刻机领域的应用前景

董秘您好,公司的全自动纳米压印技术主要是运用自动控制相关技术,结合纳米压印的模压技术与固化技术,把单机手工作业方式改变为全工序自动化方式,此技术可用于半导体芯片光刻机领域对吗?董秘回答(利和兴SZ301013):尊敬的投资者,您好!二代全自动纳米压印设备的技术研发目前处于工艺调试阶段,后续相关应用尚待验证。感谢您...

重大突破!国产光刻机7nm技术-icspec

极紫外光刻技术作为当前及未来半导体制造工艺的核心技术之一,其重要性不言而喻。上海微电子在光刻技术领域取得的这一发明专利——“极紫外辐射发生装置及光刻设备”,不仅解决了极紫外光刻设备中的一大技术难题,对于推动我国乃至全球半导体制造技术的进步具有重要意义。

光刻技术的过去、现在与未来

光刻技术作为一项精密的微纳米加工工艺,通过将设计好的微小图案转移到光敏感的材料表面,为各个领域的微细结构制造提供了技术支持。其核心在于利用光刻机,将精准的图案投射到光敏感材料上,从而实现微小结构的精确制造。在当今科技时代,光刻技术是推动半导体制造、光学器件、生物医学等领域发展的重要技术支撑。在半导体制...

光刻技术,有了新选择

去年10月中旬,佳能宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备,可制造5nm芯片。据佳能公司CEO透露,设备售价将“比ASML的EUV光刻机少一位数”。璞璘科技创始人葛海雄去年年底曾表示:从最近的报道来看,佳能公司的纳米压印各项技术指标已经与DUV的光刻技术持平,有一些指标甚至达到了EUV的光刻技术。