27亿一台!台积电大手笔购买最先进光刻机,目标直指1nm芯片!

而这台光刻机呢，它的精度和性能都达到了前所未有的高度。它能够制造出1纳米级别的芯片，这是目前世界上最先进的芯片工艺之一。想象一下，1纳米是多小啊！咱们平时用的头发丝直径都有好几十纳米呢！这光刻机得有多精密，才能制造出这么细小的芯片啊！四、台积电为啥剑指1nm芯片？再来说说台积电为啥剑指1nm芯片。

EUV光刻机是吃电怪兽?台积电年用电270亿度,台湾都受不了

一台最新规格的EUV耗电1.2MW，目前的EUV机种，耗电是传统浸润式微影机台的7倍。而为了即将量产的2纳米制程，台积今、明两年合计进货70台EUV，再加上之前的上百台EUV光刻机，这些光刻机一开动，需要多少电量？另外整个EUV光刻系统使用的电量，也比之前DUV光刻系统用的电多得多，所以才会让台积电的用电量节节上升。

台积电用旧光刻机生产1.6纳米,中国成ASML先进光刻机的救命稻草

然而如今台积电却宣布采用原有的EUV光刻机生产1.6纳米,这就让ASML难受了,台积电为全球最大的芯片代工厂,如果台积电不买,ASML的2纳米EUV光刻机就失去了一个巨大的客户,这显然是ASML不愿看到的。台积电如此做在于2纳米光刻机实在太贵了,而台积电原来买入的EUV光刻机可是有过百台,那是数百亿美元的投资,台积电当然...

EUV光刻的王者,台积电在2纳米芯片采取保守策略

然而,作为7纳米EUV光刻机的大赢家,台积电在进入3纳米以下制程时,出人意料的采取了非常保守的策略:第一,比三星更晚导入下一代芯片构架;第二,比英特尔更晚导入2纳米EUV光刻机。英特尔已经在2023年第四季度率先接受了第一台2纳米EUV光刻机(试产型号),比台积电快了3个季度。台积电会因为2纳米节点的保守策略而失去...

正式确认,国内的光刻机完全可以生产5纳米,先进工艺不再是桎梏

一直以来,国产芯片研发先进工艺都存在不小的争议,因为ASML没有将先进的EUV光刻机卖给中国芯片企业,中国芯片企业之前买下的最先进光刻机也是2000i,台积电曾以这款光刻机生产7纳米。为了打破芯片工艺对国产芯片的限制,国内芯片制造企业一直在尝试以现有的浸润式DUV光刻机开发7纳米乃至5纳米工艺,其中的一项重要技术是多...

纳米压印能否打破EUV光刻机垄断?佳能需要先兑现今年量产的诺言

ASML生产的EUV光刻机是全世界唯一能量产7纳米以下先进制程芯片的设备(www.e993.com)2024年11月23日。今年1月,其又向外界首次公开展示了制造2纳米芯片的最新一代HighNAEUV光刻机。佳能希望纳米压印设备能够做到与其“共存”。而这一切的前提,都建立在佳能能否兑现量产诺言,真正将纳米压印技术推广至行业规模化生产芯片。

台积电不用新一代EUV光刻机!2030年的1nm再说

台积电不用新一代EUV光刻机!2030年的1nm再说Intel已开始接收ASML提供的新一代高数值孔径(High-NA)极紫外光(EUV)光刻机,预计该技术将在Intel18A工艺节点之后得到应用。这表示它将用于制造小于1.8纳米的芯片,预计时间框架为2026至2027年。Intel首席执行官基辛格透露了其中一个新节点可能相当于1.5纳米工艺水平,...

中国芯的好消息:EUV光刻机没有下一代,芯片工艺达到极限

近日,媒体报道称,台积电计划在1.6nm芯片工艺时,继续使用目前标准的EUV光刻机,也就是数值孔径=0.33NA的光刻机,而不是最新的HighNAEUV。台积电说是因为其太贵了,一台要3.5亿欧元,接近30亿人民币,不划算。另外,也因为ASML的这种HighNAEUV产量有限,一年才几台,或10来台左右,已经被intel预订了大部分产能,...

V观财报|3连板京华激光:子公司研发的光刻机非用于半导体领域

制版科技公司主要从事光刻机的研发工作,所研发的光刻机主要用于光学制版,非用于半导体领域,与芯片光刻机在精准度、复杂度等方面存在较大的差异,如公司光刻机属于微米级,芯片光刻机属于纳米级,精度相差1000倍,并且不具备通过技术改进升级为芯片光刻机的可能性,故公司在光刻机领域的布局主要集中在光学制版用光刻机...

京华激光:控股子公司所研发的光刻机主要用于光学制版,非用于...

制版科技公司主要从事光刻机的研发工作,所研发的光刻机主要用于光学制版,非用于半导体领域,与芯片光刻机在精准度、复杂度等方面存在较大的差异,如公司光刻机属于微米级,芯片光刻机属于纳米级,精度相差1000倍,并且不具备通过技术改进升级为芯片光刻机的可能性,故公司在光刻机领域的布局主要集中在光学制版用光刻机...