终于破冰!氟化氩光刻机有多牛?8纳米工艺可以量产了?

氟化氩光刻机采用193纳米波长的光源，通过特殊的光学系统和精密的机械结构，实现了对芯片表面微小结构的精确刻蚀。其分辨率小于或等于65纳米，足以满足当前及未来一段时间内，对于7纳米及以上制程节点芯片的生产需求。这一技术的突破，不仅极大地提升了中国芯片制造的能力，更为中国在全球半导体产业链中争取到了更多的话语...

中国光刻机再创辉煌:从436纳米到7纳米,国产技术直逼阿斯麦

中国光刻机的重大突破：从436纳米到7纳米，国产光刻技术力追阿斯麦尔近日，工信部发布的相关文件提到了氟化氩和氟化氪两款光刻机的精度能够达到8纳米以下。为了更直观地理解这一进展，可以将其与荷兰ASML公司推出的DUV光刻机——NXE:1980Di进行对比，其官方称其套刻精度为3.5纳米。由此可见，虽然我国新推出的DUV...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

如今随着我国成功制造出65纳米光刻机,西媒的话术又变成了中国不可能生产出28纳米的芯片。他们完全看不到,中国已经成为全球唯一一个拥有光刻机完整生产线的国家。自中美贸易战爆发以来,光刻机这一高端制造设备成为了全球技术封锁的焦点。光刻机被称为芯片制造的“皇冠”,其复杂的工艺和精密的设计使得它成为制造...

李渊回:国产光刻机获重大突破!华为麒麟芯片要涅槃归来?

第一：28纳米节点，国产设备全面突破。第二：这个机器不止可以做28纳米的芯片，还可以做14纳米的芯片，14纳米的话无非是良品率高低的问题。14纳米相当于什么水平呢？就是麒麟710的那个水平。这个芯片目前主要用在华为畅享系列手机上，之前华为的部分平板好像也曾用过这个芯片。第三：官方公布这个消息意味着28纳米设备...

350纳米!俄罗斯发布国产光刻机,荷兰ASML最不愿看到的局面出现

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350纳米!发布国产光刻机-俄罗斯| 国科院研·科技成果转化

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正式确认,国内的光刻机完全可以生产5纳米,先进工艺不再是桎梏

一直以来,国产芯片研发先进工艺都存在不小的争议,因为ASML没有将先进的EUV光刻机卖给中国芯片企业,中国芯片企业之前买下的最先进光刻机也是2000i,台积电曾以这款光刻机生产7纳米。为了打破芯片工艺对国产芯片的限制,国内芯片制造企业一直在尝试以现有的浸润式DUV光刻机开发7纳米乃至5纳米工艺,其中的一项重要技术是多...

中国不买就没人买了,2纳米光刻机也救不了ASML

对于ASML来说,其实全球仅剩下的大市场就是中国市场,中国芯片企业对第一代EUV光刻机和2纳米EUV光刻机都有很强的购买欲望,然而美国不许,甚至连可用于7纳米的DUV光刻机也时不时被限制,导致ASML的业绩不断变动。2018年中国一家芯片企业就已预付了1.2亿美元货款订购EUV光刻机,但是由于美国的阻挠,一直都没有交付;20...

纳米压印能否打破EUV光刻机垄断?佳能需要先兑现今年量产的诺言

今年1月,据《金融时报》报道,日本佳能高管接受专访表示,公司最早将在今年量产自家的纳米压印半导体设备FPA-1200NZ2C。这款产品在去年10月首次亮相,对标的是ASML旗下制造7纳米以下先进制程芯片的EUV(极紫外光刻)光刻机。据公司介绍,其已经可以用来制造5纳米芯片,预计到2026年可实现2纳米。

工信部首台套光刻机,到底是几纳米的

00:00/00:00倍速当前设备不支持播放你可以刷新试试70017001.199-f5eb9a15ba4745c17b7a5dd6c9cd17a8工信部首台套光刻机,到底是几纳米的2024-09-1607:00发布于北京|21万观看72564123514手机看雷哥聊工业粉丝1.3万|关注0+关注...