中国光刻机再创辉煌:从436纳米到7纳米,国产技术直逼阿斯麦

中国光刻机的重大突破：从436纳米到7纳米，国产光刻技术力追阿斯麦尔近日，工信部发布的相关文件提到了氟化氩和氟化氪两款光刻机的精度能够达到8纳米以下。为了更直观地理解这一进展，可以将其与荷兰ASML公司推出的DUV光刻机——NXE:1980Di进行对比，其官方称其套刻精度为3.5纳米。由此可见，虽然我国新推出的DUV...

荷兰光刻机限令刚出,中国发布氟化氩光刻机,能突破8纳米限制吗

我国自主研发的氟化氩光刻机,套刻精度达到≤8nm,性能接近全球最先进水平,且是全球首款完全依赖自主技术完成的产品。这不仅打破了荷兰的技术垄断,更是对美荷两国在光刻机领域的“技术封锁”策略的有力回击。荷兰的忧虑:失去我国市场的潜在危机在光刻机技术上,美国与荷兰的合作由来已久。作为全球半导体产业链的重...

特大喜讯!中国第一台芯片光刻机成功交付使用!

综合来看，28纳米光刻机的研发成功是一步重要的战略布局。它的意义不仅仅在于技术上的突破，更在于对国内外市场的深远影响。虽然道路仍然漫长且充满挑战，但这一步确实为中国半导体产业的自强之路加油助力。在全球科技竞争日益激烈的今天，这样的突破无疑为中国赢得了更多谈判的筹码和未来的发展潜力。以上内容资料均来源...

国产光刻机终于来了!官方已正式发消息,不过

这不但意味着中国在低端光刻机这块已经完成了国产化的大跨越,还能看出中国有批量生产28纳米以及更厉cxrrl害的成熟芯片的本事呢,给市场打了一针强心剂。不过这才wofis刚开头呢。中国光刻机技术要是取得突破,能不能让咱摆脱对aanf外界的依赖呀?回想阿斯麦(ASML)不给中国卖光刻机的corumreplicainfo....

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

如今随着我国成功制造出65纳米光刻机,西媒的话术又变成了中国不可能生产出28纳米的芯片。他们完全看不到,中国已经成为全球唯一一个拥有光刻机完整生产线的国家。自中美贸易战爆发以来,光刻机这一高端制造设备成为了全球技术封锁的焦点。光刻机被称为芯片制造的“皇冠”,其复杂的工艺和精密的设计使得它成为制造...

国产芯片突破五纳米 订单延续至2026年

光刻机，这个芯片制造过程中的核心设备，被誉为“皇冠上的明珠”(www.e993.com)2024年11月23日。过去，我们在这一领域一直受制于荷兰ASML和美国企业，这无疑让我们的生产能力和市场竞争力深陷困境。然而，现在我们终于研发出了自己的5纳米光刻机。这项技术虽然艰辛，但却为国内半导体产业带来了巨大的希望。通过浸润式DUV光刻技术的应用，中国的光...

投资者提问:请问2023年成功采购到货了多少台光刻机,主要是几纳米...

投资者提问:请问2023年成功采购到货了多少台光刻机,主要是几纳米的,感谢投资者提问:请问2023年成功采购到货了多少台光刻机,主要是几纳米的,感谢董秘回答(华虹公司SH688347):尊敬的投资者,您好!如涉及需披露事项,公司将及时履行信息披露义务。感谢您的关注与支持!

光刻机板块仅一家,掌握全球少数纳米光刻技术,腰斩后量能放大4倍

今天财报翻译官将深入分析一家深耕光刻工艺10多年,在国内率先实现MEMS光刻工艺产业化应用的企业,它就是泰晶科技。公司是全球少数几家掌握晶体微纳米MEMS光刻技术的企业,并在国内率先实现了国产替代。目前,这家企业已经大幅回撤了72%,并于近期量能开始放大。在本周四,公司的成交金额只有7275万元。而在周五,这家企业...

专家解读65纳米光刻机的分辨率 技术瓶颈与多重曝光潜力

该研究指出,对于0.93数值孔径的65纳米光刻机,单次曝光要求的套刻精度为8纳米,而在双重曝光模式下,要求进一步提高到5.6纳米。这意味着,即便是8纳米套刻精度,在双重曝光至40纳米分辨率的需求面前也显得不够。况且,40纳米仅是浸没式光刻机单次曝光的水平。

重大突破!俄罗斯研造出首台光刻机,350纳米到底啥水平?

那就是他们国内第一台光刻机已经成功制造了出来,这一台光刻机能够生产的芯片,是350纳米工艺的,现在已经对其进行测试了,当这台光刻机出来后没多久,俄罗斯又把自己接下来的举动给公布了出来,那就是想要把130纳米工艺的光刻机给制造出来,现在很多国家都已经研究五纳米的光刻机了,为何俄罗斯研究的光刻机和其他国家...