传台积电、三星接连断供7纳米芯片,国产光刻机要加速了

从市场应用前景来看，28纳米光刻机已经能够满足许多主流芯片的需求，特别是在汽车、物联网等领域，这一技术已经非常实用且有着巨大的市场前景。从长远来看，随着台积电、三星接连断供。可以预见，特朗普上台后，对我国芯片产业的打压力度会持续增强。我国半导体行业为了提升自身的技术能力和创新水平，更需要加大在基础研究...

终于破冰!氟化氩光刻机有多牛?8纳米工艺可以量产了?

氟化氩光刻机采用193纳米波长的光源，通过特殊的光学系统和精密的机械结构，实现了对芯片表面微小结构的精确刻蚀。其分辨率小于或等于65纳米，足以满足当前及未来一段时间内，对于7纳米及以上制程节点芯片的生产需求。这一技术的突破，不仅极大地提升了中国芯片制造的能力，更为中国在全球半导体产业链中争取到了更多的话语...

荷兰光刻机限令刚出,中国发布氟化氩光刻机,能突破8纳米限制吗

我国自主研发的氟化氩光刻机,套刻精度达到≤8nm,性能接近全球最先进水平,且是全球首款完全依赖自主技术完成的产品。这不仅打破了荷兰的技术垄断,更是对美荷两国在光刻机领域的“技术封锁”策略的有力回击。荷兰的忧虑:失去我国市场的潜在危机在光刻机技术上,美国与荷兰的合作由来已久。作为全球半导体产业链的重...

中国研发光刻机,比ASML早20年,为什么还被美国卡脖子?

据《半导体产业协会》（SEMI）的报告显示，ASML的EUV光刻机已经在7纳米及以下节点的芯片制造中广泛应用，而中国在这方面显然还有很长的路要走。不过，中国自研光刻机何时能赶超国际水平，这并不是今天文章探讨的焦点。中国的光刻机研发始于上世纪60年代，比ASML成立的时间早近20年，这意味着，在光刻机的研发与发展...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

没有先进光刻机的支持,我国的芯片制造业一直难以突破28纳米制程的限制,更不用说7纳米或更小的制程技术。因此,国际舆论普遍认为中国将长期依赖于国外进口设备,而光刻机自主研发几乎不可能实现。外国的质疑与唱衰:中国光刻机“无望”?伴随着科技战的升温,西方媒体对于中国光刻机发展的质疑愈发强烈。

重大突破!俄罗斯研造出首台光刻机,350纳米到底啥水平?

那就是他们国内第一台光刻机已经成功制造了出来,这一台光刻机能够生产的芯片,是350纳米工艺的,现在已经对其进行测试了,当这台光刻机出来后没多久,俄罗斯又把自己接下来的举动给公布了出来,那就是想要把130纳米工艺的光刻机给制造出来,现在很多国家都已经研究五纳米的光刻机了,为何俄罗斯研究的光刻机和其他国家...

台积电用旧光刻机生产1.6纳米,中国成ASML先进光刻机的救命稻草

EUV光刻机难卖,ASML就寄望于刚刚研发成功的2纳米EUV光刻机,2纳米EUV光刻机售价高达3.8亿美元,第一代EUV光刻机售价1.2亿美元,ASML期待着台积电、三星和Intel争抢2纳米EUV光刻机,如此将确保它的业绩增长。然而如今台积电却宣布采用原有的EUV光刻机生产1.6纳米,这就让ASML难受了,台积电为全球最大的芯片代工厂,如...

俄罗斯首台光刻机问世,可生产350纳米芯片

据塔斯社报道,俄罗斯首台光刻机已经制造完成并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里-什帕克(VasilyShpak)指出,该设备可确保生产350纳米的芯片。什帕克告诉媒体:“我们组装并制造了第一台国产光刻机。作为泽廖诺格勒技术生产线的一部分,目前正在对其进行测试。”...

俄罗斯成功研发350纳米工艺光刻机,对芯片制造业有重要意义。

2.俄罗斯这款350纳米工艺的光刻机已经能满足其大部分需求。虽然台积电和三星使用ASML的EUV光刻技术可以生产出极其精细的3纳米甚至2纳米芯片,但这并不意味着俄罗斯的技术落后。350纳米工艺的光刻机对于制造许多类型的芯片已经足够,特别是在汽车安全气囊系统、制动系统、中控显示、车灯调节控制、发动机控制、LED环境灯光、...

ASML High-NA EUV光刻机取得重大突破:成功印刷10纳米线宽图案

IT之家4月18日消息,荷兰阿斯麦(ASML)公司宣布,其首台采用0.55数值孔径(NA)投影光学系统的高数值孔径(High-NA)极紫外(EUV)光刻机已经成功印刷出首批图案,这标志着ASML公司以及整个高数值孔径EUV光刻技术领域的一项重大里程碑。