终于破冰!氟化氩光刻机有多牛?8纳米工艺可以量产了?

在荷兰宣布扩大光刻机出口管制范围后不久，中国工信部发布的《首台重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》中，氟化氩光刻机的出现，无疑是中国芯片产业自主创新的又一里程碑。这款光刻机以其先进的深紫外光源技术，实现了对8纳米及以下芯片的制造能力，标志着中国在高端光刻机领域取得了重大突破。氟化氩光刻机...

重大喜讯!中国自主研发芯片光刻机,已顺利投入使用!

而能够自主研发出28纳米光刻机，意味着中国在这些关键技术上已经积累了丰富的“技术积累”。自主光刻机：不仅推动“芯片制造”的转折这台28纳米光刻机的出现，不仅为中国芯片产业带来了“技术跨越”，更为国内相关行业提供了“战略安全保障”。当前国际局势复杂多变，一旦海外供应链出现“断供”风险，国内的芯片制造...

运营商财经网康钊:光刻机巨头阿斯麦给中国芯片业泼冷水?

据国外科技网站Wccftech的文章,近日ASML(即阿斯麦)首席执行官表示,中国或许能够设法生产一些3纳米或者5纳米芯片,但是由于只能利用较旧的DUV技术,无论良品率还是产能都会受到限制。这句话的似乎在说中国光刻机技术依旧落后,其实也是在给中国芯片业敲警钟。阿斯麦对中国光刻机技术的评论可能源于华为手机芯片,去年华为...

全球仅两个国家掌握,比原子弹还稀有,高端光刻机究竟有多难?

第一是光源问题,因为光刻机的原理是用紫外光刻画在晶体上,这就对紫外光的光源产生了极其高的要求。目前世界上最先进的光刻机可以研制出直径3纳米的芯片,而我们的头发丝大概是50微米,也就意味着这种光刻机可以刻画出只有头发丝直径1/5000的线条。只是听这个描述就知道了这对光源的要求有多高,稍有偏差就差之千里。

美卖力施压,中国造出来了,德媒中国突破7纳米芯片光刻机技术

尤其是离子注入机技术有了突破，这就直接冲破了国外的技术垄断，让芯片国产化的速度变快了。而且28纳米这个制程在芯片应用里覆盖范围是最广的，咱们平时用的电子产品，大部分用的都是这个型号的芯片。更让人兴奋的是，2024年9月的时候，工信部发布消息说，中国研制出了两台新光刻机呢。氟化氩光刻机里比较先进的...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

此次推出的65纳米光刻机,虽然与全球最顶尖的7纳米光刻机仍有差距,但已经能够满足大部分工业芯片的生产需求(www.e993.com)2024年11月24日。尤其是在汽车制造、家电智能化等领域,28纳米及以上的芯片需求庞大,而中国自主研发的光刻机正好填补了这一市场空白。更重要的是,随着国产光刻机的不断改进,中国芯片产业逐步摆脱了对外技术的依赖。

台积电用旧光刻机生产1.6纳米,中国成ASML先进光刻机的救命稻草

可以说台积电舍弃2纳米EUV光刻机生产1.6纳米工艺影响巨大,ASML得赶快寻求与中国的合作,不然ASML收入下降将是大概率的,中国以外的诸多芯片代工厂的光刻机早已得到满足,只有中国市场仍然需要大规模采购光刻机,中国市场是ASML不可忽视的救命稻草。

正式确认,国内的光刻机完全可以生产5纳米,先进工艺不再是桎梏

海外的相关人士也指出,虽然用这种方式可以生产出5纳米工艺,但是后果是良率偏低、成本很高,对于海外的芯片制造企业来说,他们能买到EUV光刻机,用EUV光刻机生产5纳米工艺可以达到更加的经济成本,这种技术对于海外的芯片制造企业来说没多大意义。对于中国芯片行业来说,用现有的DUV光刻机生产5纳米工艺则具有重要意义,如今...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

我的感觉是,或许,可以先晚点再“感觉”。因为,对于大部分人来说,造芯片这件事,太陌生了。比如,随便看一句新闻:“此次官宣的国产光刻机,是一个套刻≤8nm,分辨率65nm,干式,波长193nm,DUV光刻机。”句子不算长,没有一个生僻字。但,如果不是对这行有了解的专业人士,有多少人能看懂?又能看懂多少个词?

比原子弹还稀有,全世界就两个国家掌握,为何光刻机如此难造?

第二个就是精度问题,目前荷兰最先进的光刻机可以把精度缩小到5纳米,这样的说法可能不够直观,我们举例说明。一根头发的直径是六万纳米左右,荷兰这款高端光刻机至少可以在一根头发上切出一万两千多刀,而中国目前的光刻机精度只能保证在28纳米左右,精度误差几乎是荷兰的六倍,想要提升精度就需要大量运算,并且找到技术跟进...