中国当下面临最紧急的“卡脖子”技术有哪些?

芯片制造需要高纯度的硅片、光刻胶、掩膜版，这些关键材料我们也依赖进口，稍微被断供，整个产业链就卡壳。操作系统：看似风光，其实有短板再来说说操作系统。别看咱们用的国产手机系统安卓味十足，背后核心技术却是Google的。PC领域更不用说，Windows一家独大，MacOS锦上添花，国产操作系统几乎没有话语权。特别是在...

半导体板块探底回升 光刻机方向领涨

半导体板块探底回升光刻机方向领涨茂莱光学、台基股份、士兰微涨停，国民技术、晶华微涨超10%，明微电子、艾森股份、慧智微等涨超5%。消息面上，广东印发加快推动光芯片产业创新发展行动方案(2024—2030年)，其中提出，大力推动刻蚀机、键合机、外延生长设备及光矢量参数网络测试仪等光芯片关键装备研发和国产化替代。

这项ALD技术 牵引国产半导体设备攻克难关

ALD技术全称为原子层沉积技术,在半导体、光伏、新型显示、柔性电子、新能源等领域具有多种应用,是非常关键的核心工艺之一。微导纳米董事会秘书龙文介绍,它通过交替输入不同的气体,使得这些气体在基底上形成原子级厚度的薄膜。由于沉积是在原子层级进行的,所以制备出来的薄膜具有非常好的覆盖率和均匀性,可以在复杂...

“半导体”第一龙头沉睡6年,拟10转30派8获批,有望从9元到59元

国内领先的智能安全芯片、特种集成电路、存储器芯片研制企业,公司聚焦高压超结产品主力产品,持续推动产品技术升级,完成Gen3系列化,并推出N系列的Multi-EPI新品;同时,加快第三代半导体布局,GaNHEMT和SiCMOSFET产品的开发工作有序开展。7、江化微国内湿电子化学品龙头,超净高纯试剂、光刻胶及光刻胶配...

光刻胶:半导体高壁垒关键材料,产业链龙头厂商全梳理

那么，光刻胶的未来会怎样呢？从目前的趋势来看，半导体光刻胶将继续引领行业发展。特别是EUV光刻胶，这可是当前最先进的光刻技术所需要的材料。谁能在EUV光刻胶领域取得突破，谁就可能成为下一个行业霸主。不过，机遇总是与挑战并存的。随着芯片制程不断缩小，对光刻胶的要求也越来越高。这就需要企业不断加大...

...引发剂(PAC)及半导体集成电路光刻 胶光引发剂(PAG)的生产技术...

目前公司控股子公司彩晶光电已掌握TFT液晶面板正性光刻胶核心原材料光引发剂(PAC)及半导体集成电路光刻胶光引发剂(PAG)的生产技术及工艺,多个产品在目标客户处进行了性能测试(www.e993.com)2024年11月23日。PAC主要用于线性酚醛树脂体系光刻胶中,如FPD和IC的g/i线光刻胶;PAG主要用于在化学放大型光刻胶中,包括部分IC光刻胶。终端应用...

港媒:国产光刻机公布重大技术突破,但半导体自给之路仍任重道远

近日,香港知名国际媒体《南华早报》刊载文章称,根据中国工业和信息化部(MIIT)的消息,中国近期推出了两种国产的半导体光刻机械,这些设备在深超紫外(DUV)光刻技术上取得了重大的技术突破,并且拥有自主知识产权。这两种机械尚未有过公开的市场表现,但据可靠消息称,其中一种能够在193纳米(nm)波长下工作,分辨率低于65nm,重...

光刻技术,有了新选择

璞璘科技创始人葛海雄去年年底曾表示:从最近的报道来看,佳能公司的纳米压印各项技术指标已经与DUV的光刻技术持平,有一些指标甚至达到了EUV的光刻技术。关于纳米压印技术的未来,葛海雄表示,依据佳能提供的技术参数、指标,纳米压印有可能为半导体领域创造一些有益的补充,因为ASML、尼康的半导体光刻设备已经在产线上被广泛采...

AFM:钙钛矿量子点/有机半导体异质结的光学显微光刻技术在神经形态...

AFM:钙钛矿量子点/有机半导体异质结的光学显微光刻技术在神经形态光电传感器中的应用,钛矿,阵列,光敏,光刻技术,有机半导体,光电传感器

全面禁光刻机和先进技术!美国联手荷兰扩大对华芯片出口限制,今年...

随着美国政府联手其他国家收紧出口管制政策,中国企业进口光刻机等半导体设备正面临越来越大的困难。当地时间9月5日,美国商务部下属的工业与安全局(BIS)发布公告,出于“国家安全和外交政策”的考虑,更新量子计算、半导体制造和其他先进技术的管制政策清单,共计133页,这进一步加强了美国对华量子计算、半导体制造等科技出口...