加强半导体基础能力建设 点亮半导体自立自强发展的“灯塔”

当前,绝大部分高端芯片都使用了相同的FinFET晶体管制造技术;在上万件FinFET晶体管专利中,相当大一部分核心专利来自半导体物理基础研究成果,而且这些成果不依赖EUV光刻机等最先进的半导体制造设备。通过大力加强半导体基础研究,围绕下一代晶体管的材料、器件、工艺等在欧洲和美国布局大量专利,就可以在芯片制造这个全球半导...

全球光刻机市场竞争加剧,ASML财报引发关注...

尼康近两年不断加强研发,加速迭代其光刻设备。今年1月,尼康正式发布ArF浸没式光刻机NSR-S636E,这种光刻机使用氟化氩激光器来生产芯片。尼康称,作为半导体生产过程中关键层的曝光系统,NSR-S636E具有尼康历史上更高的生产效率,并具有高水准的套刻精度和生产速度,可为尖端半导体器件中的3D等器件结构多样化的挑战提供解...

最具潜力:半导体 + 光刻机 + 医药 + 军工 + 华为

如果说半导体是现代科技的心脏，那么光刻机就是制造心脏的关键工具。荷兰ASML公司在光刻机高端市场几乎处于垄断地位，它能让芯片变得更小、更强大。我国在光刻机技术方面起步较晚，面临着巨大的挑战。然而，近年来国内不少企业开始自主研发光刻机技术，尽管路途艰辛，但每一步都意义重大。光刻机技术的研发背景是我...

芯片股暴雷!光刻机巨头ASML提前公布三季度财报逊预期,股价创26年...

在逻辑芯片领域,由于晶圆代工厂之间的竞争态势,部分客户的新技术节点发展态势放缓,导致某些晶圆厂计划推迟并影响了对光刻设备的需求时间节点,尤其是对EUV光刻机的需求。在存储芯片领域,我们看到新增产能有限,该领域的发展重点依然是技术转型,以满足对人工智能相关的高带宽内存(HBM)和第五代双倍数据速率随机存取存储器(DD...

10.16研选:国产光刻胶重大突破

国产半导体专用光刻胶实现重大突破据武汉东湖新技术开发区管理委员会（中国光谷）消息，武汉太紫微光电科技有限公司在半导体专用光刻胶领域实现重大突破，其推出的T150A光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计，有望开创国内半导体光刻制造新局面。晶瑞电材(300655)、南大光电(300346)第二届全国低空...

突破重围:中国EUV光刻机专利悄然出击,全球半导体格局或将重塑

无论如何，上海微电子在EUV光刻机领域的突破，对全球半导体产业的影响都是深远的(www.e993.com)2024年11月23日。首先，这标志着中国在芯片制造领域向自主可控的目标迈出了坚实的一步。一旦EUV光刻机实现国产化，中国将大幅度减少对外国技术的依赖，在全球芯片产业链中占据更有利的位置。其次，这对全球光刻机市场格局将产生巨大冲击。长期以来，...

...双方重点就光刻机输华和加强半导体产业合作等议题深入交换意见。

中荷商务部门负责人就光刻机输华等议题交换意见记者28日从商务部了解到,3月27日,商务部部长王文涛在京会见来访的荷兰外贸与发展合作大臣范吕文。双方重点就光刻机输华和加强半导体产业合作等议题深入交换意见。王文涛表示,今年是中荷建立开放务实的全面合作伙伴关系十周年。在两国领导人战略引领下,中荷经贸关系稳...

光刻巨人倒下,他如何带领阿斯麦称霸半导体?

20世纪70年代末和80年代初,半导体制造技术的规模和复杂性的快速增长,推动了这一行业价值链的分工,专业设备供应商对于开发复杂的光刻系统变得尤为重要。在此背景下,飞利浦开始研发自己的晶圆步进机,用于对硅晶圆进行图案化。自1978年起,飞利浦科学与工业(S&I)部门以PAS2000(飞利浦自动晶圆步进机)的名义推动了商...

昇典半导体研发量子点光刻胶:实现小于 2μm 高精度 LED 颗粒,解决...

紫外光照射下,昇典半导体的量子点光刻胶产品色彩越发饱满鲜艳昇典半导体高精度量子点光刻胶新材料项目主要建设高精度量子点光刻胶中试生产线及配套服务中心。自今年1月份以来,淄博高新区新材料产业发展中心等相关部门积极为企业寻找办公场所,提供资料准备、流程指导、现场注册等服务,帮助企业如期获得营业执照,及时解决企...

A股午评:创业板指半日涨1.79% 光刻机、半导体板块集体走强

10:09上证指数涨幅扩大至1%,深证成指涨1.69%,创业板指涨1.63%。光刻机、半导体、液冷服务器涨幅居前,两市超5000只个股上涨。10:116G概念震荡拉升,大恒科技(600288)、三维通信(002115)双双涨停,硕贝德(300322)、通宇通讯、华力创通(300045)、烽火通信(600498)等纷纷冲高。