光刻机巨头ASML:在合规合法情况下,持续为中国客户提供服务和支持

观察者网注意到，这次进博会上，日本企业尼康也搭建了展台，并且着重介绍了自家半导体光刻机业务，比如ArF（氟化氩）液浸式扫描光刻机等设备，现场工作人员称这种设备可以生产7nm芯片。尼康和佳能曾在1990年代之前主导光刻机市场，但在EUV光刻机的开发竞争中败给了ASML。EUV在2010年后半期商业化，目前只有ASML能够生...

“光刻机”第一真龙,沉睡三年,有望从17元涨到69元

它不仅在光刻工艺中占据核心地位,还在整个芯片制造过程中起到至关重要的作用。作为微电子和半导体工艺中的核心组件,光刻机被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”,其重要性不言而喻。光刻机是一种利用光刻技术进行微纳米加工的精密设备。其工作原理类似于传统照片冲印,通过光学投影系统将掩模上的电路图案精确地转移到半导...

8家半导体公司披露IPO最新进展!

KrF光刻胶今年上半年产品增长率超过60%;此外南大光电、华懋科技等也已具备ArF产品量产能力;晶瑞电材ArF光刻胶部分样品已开展客户送样验证工作,KrF光刻胶已量产并供应;上海新阳、鼎龙股份等ArF产品也处于验证阶段。

350套H100取代4万CPU!台积电应用英伟达平台,加速计算掀起半导体...

它涉及电磁物理、光化学、计算几何、迭代优化和分布式计算这些复杂的计算，是整个半导体设计和制造过程中计算最密集的工作负载。晶圆代工厂通常会专门为这些计算设立大型数据中心。而现在先进芯片的尺寸越来越小，降至3nm及以下，需要计算光刻更加精准，计算光刻所需的时间也越来越多。没有更强大的计算光刻很难实现复杂的...

港媒:国产光刻机公布重大技术突破,但半导体自给之路仍任重道远

近日,香港知名国际媒体《南华早报》刊载文章称,根据中国工业和信息化部(MIIT)的消息,中国近期推出了两种国产的半导体光刻机械,这些设备在深超紫外(DUV)光刻技术上取得了重大的技术突破,并且拥有自主知识产权。这两种机械尚未有过公开的市场表现,但据可靠消息称,其中一种能够在193纳米(nm)波长下工作,分辨率低于65nm,重...

极紫外光刻技术获突破:可大幅提高能源效率,降低半导体制造成本

8月2日,冲绳科学技术大学院大学(OIST)的教授新竹俊(TsumoruShintake)提出了一种极紫外(EUV)光刻技术(www.e993.com)2024年11月23日。基于这种设计的EUV光刻技术可以使用更小的EUV光源工作,从而降低成本,显著提高机器的可靠性和使用寿命。而在消耗电量上不到传统EUV光刻机的十分之一,有助于半导体行业变得更加环境可持续。

光刻巨人倒下,他如何带领阿斯麦称霸半导体?

作为半导体行业的核心设备制造商,阿斯麦在芯片行业内有着无可替代的地位:在光刻机领域,阿斯麦不仅是全球最大的制造商,占据了高达80%的高端光刻机市场份额,也是唯一的极紫外光刻机供应商,其旗下公司所生产的EUV光刻设备被誉为现代工业皇冠上的明珠,全球芯片厂商最先进制程芯片所需的EUV光刻设备,全部都来自阿斯麦。

ASML可远程锁死光刻机,我国如何关上半导体制造“后门”

光刻机是半导体制造的核心设备,直接决定了半导体制程的先进程度。光刻、刻蚀、薄膜沉积被视为半导体制造的三大核心设备,其中,光刻是核心,集成电路更新迭代很大程度上直接依赖于光刻设备的进步;光刻机极为精密,对设备本身及各子系统的精密度要求极高,制造难度大,稀缺性极强。

在晶圆厂工作,是怎么样的体验?

为了提升半导体的良率和产量,上述工序均需要在清洁的环境下进行,且温度等条件也需要严格管控。此外,为了提升生产效率,半导体工厂均实行24小时工作制。02半导体工厂的工作内容光罩(PhotoMask)的制作工序如下。半导体厂家基于一种名为“光刻(PhotoLithography)”的图形转移技术,利用光罩(PhotoMask)将线路转移至半导...

光刻技术的过去、现在与未来

光刻技术的崛起对现代芯片制造起到了至关重要的作用。它的高精度、高效率和可控性,使得它成为了制造先进微电子器件的关键工艺之一。光刻技术在芯片制造中的广泛应用,促进了半导体工业的快速发展,并为现代科技的进步奠定了坚实的基础。2.光刻技术的关键原理与工作流程...