重大喜讯!中国自主研发芯片光刻机,已顺利投入使用!

而能够自主研发出28纳米光刻机，意味着中国在这些关键技术上已经积累了丰富的“技术积累”。自主光刻机：不仅推动“芯片制造”的转折这台28纳米光刻机的出现，不仅为中国芯片产业带来了“技术跨越”，更为国内相关行业提供了“战略安全保障”。当前国际局势复杂多变，一旦海外供应链出现“断供”风险，国内的芯片制造...

中国不买了,三大光刻机企业都降低预期,后悔莫及

对于日本两家光刻机企业来说，他们生产的主要是干式光刻机，只能用于成熟工艺，而在中国以外的市场大多已不再扩张成熟工艺产能，对日本的光刻机需求不大；尼康开发出可用于5纳米的NIL工艺，但是成本、良率仍然与光刻机生产芯片有差距，而且生产5纳米工艺的三星和台积电都再扩张5纳米工艺产能，这就导致日本的光刻机企...

荷兰光刻机限令刚出,中国发布氟化氩光刻机,能突破8纳米限制吗

01中国自主研发的氟化氩光刻机顺利问世,套刻精度达到≤8nm,性能接近全球最先进水平。02该成果打破了荷兰阿斯麦公司的技术垄断,对美荷两国在光刻机领域的“技术封锁”策略构成有力回击。03由于此突破,荷兰政府开始担忧失去我国市场的潜在危机,光刻机市场的变局从依赖到自主掌控。04此外,我国在光刻机领域的突破对...

美卖力施压,中国造出来了,德媒中国突破7纳米芯片光刻机技术

美国使劲儿施压，结果中国还是造出来了。德国媒体称：中国在7纳米芯片光刻机技术上取得了突破。

国产光刻机终于来了!官方已正式发消息,不过

最近呀,工业和信息化部公布的《2024版重大技术装备推广应用指导目录》里,氟化氩光刻机的那些具体技术指标特别显眼地在那儿呢,这消息一下子就在国际上掀起了好多波澜。这不但意味着中国在低端光刻机这块已经完成了国产化的大跨越,还能看出中国有批量生产28纳米以及更厉中国在高科技这一块儿呀,这些年一直在努力找...

光刻机无望?美国都造不来,中国永远都不能造出来?为什么这样说

光刻机的制造需要用到特殊的材料,例如光刻机的镜片材料要特别均匀,打磨工艺加工精度可以达到0.001纳米(www.e993.com)2024年11月24日。这种镜片通常由德国蔡司的工人手工打磨出来,而且制造光刻掩模的成本可能高达几百万美元,其材料也需要极其昂贵且具备高精度的特性。光刻机的研发和制造也是需要大量的资金投入,以极紫外光刻机为例,其研发过程需...

艰苦奋斗、自力更生,俄罗斯国产350纳米光刻机问世,正在测试

目前这两家工厂现在都已经不再提供350纳米芯片的制造服务,尽管如此,Angstrem和Mikron未来仍然极有可能会装备这种俄罗斯国产的350纳米光刻机,用于制造某些芯片。俄罗斯的总体规划是:2027年实现可制造28纳米的芯片,2030年可制造14纳米的芯片。整体来看,目前俄罗斯国内相关产业和技术的实际发展进度大幅低于之前的计划和预期,非...

正式确认,国内的光刻机完全可以生产5纳米,先进工艺不再是桎梏

一直以来,国产芯片研发先进工艺都存在不小的争议,因为ASML没有将先进的EUV光刻机卖给中国芯片企业,中国芯片企业之前买下的最先进光刻机也是2000i,台积电曾以这款光刻机生产7纳米。为了打破芯片工艺对国产芯片的限制,国内芯片制造企业一直在尝试以现有的浸润式DUV光刻机开发7纳米乃至5纳米工艺,其中的一项重要技术是多...

工信部公开推广两款国产DUV光刻机!最小套刻≤8nm!多只光刻机概念...

9月9日,工信微报微信公众号发文披露《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》。其中,在电子专用设备一栏,氟化氪光刻机、氟化氩光刻机位列其中。该资料显示,氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度。据东兴证券研报,光刻机可分为直写光刻机与掩膜光刻机,市场主流有i-Iine(汞...

俄罗斯成功造出光刻机:落后西方25年,吃光了老本,只能拥抱东方

根据官方公开的信息可知,中国上海微电子公司已经量产了90纳米分辨率的SSX600系列光刻机,28纳米分辨率光刻机大概率也会在2024年取得突破。而28纳米级芯片,正是目前制造业需求量最大的,毕竟5纳米、3纳米级芯片目前还存在成本高、良品率较低等问题,不适合在全社会铺开,家电、汽车、雷达、飞机使用28纳米级芯片已经完全...