传台积电、三星接连断供7纳米芯片,国产光刻机要加速了

功夫不负有心人，在各方力量的努力下，我们顺利实现了28纳米光刻机的自研突破，虽然它和全球顶尖的3纳米光刻技术相比还存在不小的差距，但已经开启了中国半导体产业历史上的新篇章。从市场应用前景来看，28纳米光刻机已经能够满足许多主流芯片的需求，特别是在汽车、物联网等领域，这一技术已经非常实用且有着巨大的...

重大喜讯!中国自主研发芯片光刻机,已顺利投入使用!

而能够自主研发出28纳米光刻机，意味着中国在这些关键技术上已经积累了丰富的“技术积累”。自主光刻机：不仅推动“芯片制造”的转折这台28纳米光刻机的出现，不仅为中国芯片产业带来了“技术跨越”，更为国内相关行业提供了“战略安全保障”。当前国际局势复杂多变，一旦海外供应链出现“断供”风险，国内的芯片制造...

美国封锁之下,国产光刻机逆境突围,荷兰媒体也坐不住了!

但华为已跳过了EUV光刻机，直接就能生产7纳米芯片，这就是华为的多重曝光工艺专利，也就是用传统的DUV光刻机，通过数次曝光和刻蚀，在更精密的芯片上雕刻，愣是能造出7纳米及以下的高端芯片！这可是半导体领域的革命性突破啊！就连老美这么多年，都在研究如何利用中低端光刻机制造精密芯片的技术，没想到直接被华...

台积电用旧光刻机生产1.6纳米,中国成ASML先进光刻机的救命稻草

可以说台积电舍弃2纳米EUV光刻机生产1.6纳米工艺影响巨大,ASML得赶快寻求与中国的合作,不然ASML收入下降将是大概率的,中国以外的诸多芯片代工厂的光刻机早已得到满足,只有中国市场仍然需要大规模采购光刻机,中国市场是ASML不可忽视的救命稻草。

厉害了!俄罗斯首台光刻机制造完成,可生产350纳米工艺的芯片

目前,我国可以生产7纳米芯片,但仍有很多人指出远远落后于欧美国家。其实,14纳米的芯片可以满足70%的生产需要。更高端的5纳米目前绝大部分用于手机和其他对体积要求较高的移动智能设备!如今,俄罗斯生产出首台350纳米光刻机,就感到非常满足和自豪。因为这样可以满足他们最重要的能源和电信行业的需求。

国产套刻8nm光刻机引争议,我们追赶对象真的是ASML吗?

日前,工信部印发的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》(以下简称“目录”)中显示,中国已攻克氟化氩光刻机,其中该目录中,公开可见的与光刻机代际水平和性能等密切相关的光源193纳米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm指标引发了业内的关注(www.e993.com)2024年11月23日。几乎是与此同时,上海微电子披露了一项名为“极紫外辐射发生装置及...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

“此次官宣的国产光刻机,是一个套刻≤8nm,分辨率65nm,干式,波长193nm,DUV光刻机。”句子不算长,没有一个生僻字。但,如果不是对这行有了解的专业人士,有多少人能看懂?又能看懂多少个词?或许,要真的对这件事有概念,不被轻易带节奏,至少得先了解10件事。

国产光刻机入选工信部推广目录 产业链这些上市公司“有料”

而指导目录中更为先进的氟化氩光刻机,其照明波长为193mm,分辨率≤65nm;套刻≤8nm。这一数据与ASML旗下TWINSCANXT:1460K最为接近。该型号照明波长为193mm,分辨率≤65nm。此外,该系统可以在偏振照明下实现低至57nm的生产分辨率。相比之下,ASML浸润式光刻机TWINSCANNXT1980Fi分辨率≤38nm。据民生证券研报,该型号...

俄罗斯成功造出光刻机:落后西方25年,吃光了老本,只能拥抱东方

中国的光刻机技术,远远领先于俄罗斯“百业凋零”的俄罗斯,对中国越来越依赖俄罗斯造出光刻机,可量产350纳米芯片5月22日,根据媒体报道,俄罗斯企业终于能成功造出,可以生产350纳米级芯片的光刻机。盲目相信西方、依赖所谓的全球化产业链有什么后果?俄罗斯就是最好的反面教材。

让中国光刻机成废铁?ASML官宣惊人决定,我国院士:放弃幻想

EUV光刻机更是被誉为“工业皇冠上的明珠”,它采用13.5纳米波长的光源,能够在硅片上雕刻出比人类头发直径还要细上千倍的线条,这样的精密操作对于制造高性能处理器、存储器等高端芯片至关重要。然而,这项尖端技术并非轻易可得。全球范围内,荷兰的ASML公司几乎垄断了高端光刻机市场,尤其是EUV光刻机领域,其市场份额高达...