这家有170年历史的公司持续以玻璃推动半导体创新!

在先进的半导体制造过程中，尤其是极紫外光刻（EUV）技术中，氟化钙被用作光刻系统中的反射镜材料。由于其出色的低膨胀系数和高透过率，氟化钙能够在高能量紫外光下保持稳定，并减少光损耗，帮助提高半导体制造的精度和效率。此外，氟化钙晶体还可用于半导体制造设备中的光学窗口和聚焦透镜，这些设备通常需要在极端环境中工...

国外紫外级氟化钙晶体技术领先 国内企业正积极建设生产线

其中,紫外级氟化钙晶体(CaF2晶体)是指应用波长在190nm~400nm的氟化钙晶体(CaF2晶体),其属于一种高性能光学晶体材料,拥有优异的紫外光透过性能,硬度高,抗机械和热冲击能力强,主要应用于紫外光纤通信、紫外光传感器、紫外激光、紫外光刻技术等领域,用来生产高精密光学仪器设备、超大望远镜、高功率激光器、光刻机等。新...

东海研究 | 深度:光刻机:国产设备发展任重道远,零组件企业或将...

目前光刻机国产化率仅为2.5%,整机技术与海外差距较大,短期5-10年内一方面重点发展90、28nm光刻机的研发量产较为关键,一方面重点布局国内半导体零组件发展。根据中国国际招标网信息,半导体设备招标中,刻蚀、沉积等核心设备的国产化率获得了较大的提升,核心在于技术上我国相关企业已经逐步追赶上海外企业;但光刻机作为核...

入选十大案例!嘉定院所专利技术实现产业化

光刻机是集成电路制造中最复杂、难度最高、价格最昂贵的核心设备，对芯片的工艺制程起着决定性作用。在芯片的制造过程中，光刻约占整体制造成本的35%，而紫外级氟化钙晶体是光刻机的核心光学材料。上海硅酸盐所大力整合所内外产学研资源、攻克技术难题，将八英寸紫外级氟化钙晶体成套制备专利技术进行产业化，与地方企业...

《2024年上海市专利转化运用十大典型案例》公布

上海硅酸盐所将持有的八英寸紫外级氟化钙晶体成套制备技术相关专利6项及其配套技术共作价3000万元实现技术转化,与半导体企业联合共建“氟化物晶体联合实验室”,打通院所与企业的技术需求的堵点,不断提高晶体产品紫外品质,推动技术的国产替代步伐。通过三年中试开发验证,已助力企业建立标准化氟化钙晶体生长模式和批量化制备平台...

2024年中国战略性新兴产业之——高性能材料产业全景图谱(附供需...

新型信息技术及产业的发展需要电子信息材料支撑(www.e993.com)2024年11月23日。集成电路对新材料的需求包括硅基集成电路芯片、MEMS(微型机电系统)器件封装玻璃粉、高性能氮化物陶瓷粉体及基板、光刻胶、氢化嫁单晶、光刻机用蓝外级氟化钙晶体、高纯石英玻璃及制品、大尺寸超高纯有色金属靶材、湿电子化学品等;而信息显示对新材料需求包括印刷OLED/QLED...

“芯片之母”,居然也离不开石英材料

其中，折射式投影物镜镜头的材料大多采用熔融石英，少量低端光刻机(汞灯g-线、i-线)镜头除了用熔融石英还会采用氟化钙和其他玻璃等材料。据悉，可以提供满足193nm光刻等级的熔融石英的厂家仅有德国Heraeus公司、Schott公司、美国Corning公司、德国蔡司公司。高纯石英玻璃：高精密电路图案的承载者据《中国半导体用石英材料...

助力突破中国光刻机技术瓶颈,港城大团队研发真空紫外非线性超构...

解决国内光刻机的技术瓶颈,是香港城市大学电机工程系教授蔡定平团队近期一项工作的研究初衷。其研发出一款新型真空紫外光超构透镜,可用于半导体制作、光化学、材料科学等,所产生的聚焦真空紫外光源,也能广泛用于微纳光刻等高端工业领域。未来延伸到更短波长之后,可用于光刻机。

光刻技术的历史与现状

半个世纪以来随着光刻技术的发展,特征尺寸随之减小。在196O年代,半导体芯片制造商主要使用可见光作为光源。到了1980年代,光刻主要应用高压放电汞灯产生的436纳米(G线)和365纳米(I线)作为光源。汞灯普遍应用于步进曝光机,从而实现0.35微米的特征尺寸。放电汞灯辐射250纳米紫外光的应用,首次实现了降低光刻光源波长的需求,...

光刻设备行业深度研究:半导体设备之巅,冰山峰顶待国产曙光

光刻机是光刻步骤的核心设备,也是技术难度和单价最高的半导体设备。荷兰ASML公司的光刻机供应链包括全球各地5000家供应商,应用到了光学、电磁学、材料学、流体力学、化学等领域最尖端的研究成果。同时,光刻机集成了精密自动化机械、高性能仿真软件、高灵敏度传感器、图像识别算法等多个子模块,光刻技术是集...