光刻机唯一掌握EUV光刻机技术,供货华为,中科院强势抢筹

但咱们中国人向来有志气，有劲头。早在2002年，中科院就开始研究EUV光刻技术了。这二十多年来，默默攻关，专利一个接一个。就在前不久，中科院上海光机所传出好消息，在光源技术、反射镜等核心领域都有了突破性进展。这个突破可不是小打小闹。要知道，EUV光刻机涉及的技术门类特别多，光学、机械、电子，样样都...

【误导】因“光刻机”误导投资者,证监会对苏大维格处以百万罚款...

10月8日,苏大维格披露《关于对深圳证券交易所关注函的回复公告》称,公司互动易回复直接使用了“光刻机”“龙头芯片公司”等可能引起误解的表述,未能充分考虑到部分投资者可能对光刻机的技术路线、相关技术的具体应用领域等情况不了解,未详细说明公司光刻设备的具体类型、主要的应用领域、与行业龙头企业的差距,以及客户...

想要解决国产EUV光刻机卡脖子情况,必须要攻克两个核心难点

首先，我们来探讨EUV光源技术。光刻机依赖反射镜来引导光线，但极紫外光的反射效率极低，通常需要经过十多次反射才能将光源导入到晶圆上。当光源最终到达晶圆后，其整体能量已不足2%，因此无法进行晶圆制造，这就要求一个非常强大的光源。极紫外线技术最初由英特尔提出，美国政府随后成立了一个名为EUVLLC的技术联盟。

上海微电子突破极紫外光刻技术,中国半导体崛起国际舞台

上海微电子的最新行动在半导体领域引发了无数热议。该公司选择在德国申请了6项极紫外光刻机(EUV)关键专利，立即成为全球焦点。这无疑透露出一个信号：中国在高端半导体设备上的技术水平和市场地位，正在迅速崛起。这一事件背后，包含了中国企业在国际舞台上力争上游的决心和策略。半导体行业一直被视为高科技领域的皇冠。

上海光机所:EUV和软x射线结构涡旋光调控技术新突破

上海光机所突破EUV和软X射线领域,实现结构涡旋光调控,为未来光刻技术研发和应用开启新可能。快讯正文上海光机所首次实现结构涡旋光调控中国科学院上海光学精密机械研究所与哈尔滨工业大学、上海理工大学的联合实验室近日取得重大突破,在全球首次完成极紫外(EUV)和软X射线的结构涡旋光调控实验,为极紫外波段的结构...

重大突破!国产光刻机7nm技术-icspec

上海微电子这个专利对我国光刻技术的发展具有重要意义,但这并不意味着我国就此突破了7纳米光刻技术(www.e993.com)2024年11月24日。据悉,该专利是光源的一个结构设计方案,光源是光刻机的一个子系统,其他子系统一样需要无数专利来完善,最终才有整机。目前,我国光源主要部件的攻关单位是中科院下属的几个研究所及孵化的企业,如中科院光电技术研究所...

双光束超分辨光刻技术的发展和未来 | 科技导报

表1光刻机技术迭代历程及分辨率变化接触式光刻机是第1代光刻机,其工作原理是将掩模(mask)和光刻胶(photoresist)直接接触,通过紫外线曝光、显影等步骤,将掩模上的图案转移至光刻胶上,形成所需的图案结构。需要注意的是,接触式光刻机的分辨率受到掩模和光刻胶接触力的限制,而且在多次使用中,掩模和光刻胶的磨...

上海用5到8年等一批“未来”?不用这么久,光量子芯片生物医药光刻...

“撼动黄仁勋?可能十年后。”当记者逮住图灵量子创始人金贤敏,求教光子芯片和量子计算是否有望颠覆英伟达的高性能芯片时,他选择说得保守些。光量子芯片属于上海五大未来产业中的“未来智能”,光信号以每秒30万公里的速度在指甲盖大小的线路中奔跑,量子计算又使算力呈指数级增加,技术前沿充满变数。

东海研究 | 深度:光刻机:国产设备发展任重道远,零组件企业或将...

在海外不断修改半导体贸易规则的外部环境下,我国半导体产业要发展进步,光刻机不可或缺,光刻技术壁垒极高,长期不断积累才能构建企业长期核心竞争力,国产光刻机整机与零组件企业已经逐步形成一定规模,在自主可控势在必行的长期形势下,国产企业有望迎来较大市场机遇。建议关注:光刻机整机龙头厂商上海微电子(未上市)、...

国内首台大芯片先进封装专用光刻机交付入厂

据广州产投、越海集成官微消息,4月16日,由广东微技术工业研究院(广东微技术研发中心有限公司,简称“广东工研院”)组织的“曝光时刻——3D异构芯片封装技术研讨会”暨国内首台大芯片先进封装专用光刻机交付入厂仪式在广州市增城区广东越海集成技术有限公司举行。