上海邦芯半导体取得一种CCP和ICP结合的反应腔结构装置专利

金融界2024年10月19日消息,国家知识产权局信息显示,上海邦芯半导体科技有限公司取得一项名为“一种CCP和ICP结合的反应腔结构装置”的专利,授权公告号CN118471781B,申请日期为2024年7月。本文源自:金融界作者:情报员

2024半导体设备系列报告之刻蚀设备:制程微缩叠加3D趋势,刻蚀设备...

-国内企业-北方华创:布局刻蚀、薄膜沉积、清洗、热处理四大应用领域,ICP/CCP刻蚀设备已累计出货超3200腔/100腔,TSV刻蚀设备市占率领先。-中微公司:刻蚀设备分为CCP和ICP两大类,可涵盖国内近95%的刻蚀应用需求,在逻辑集成电路和3DNAND芯片制造环节均有重要应用。5.行业发展趋势展望-技术创新驱动发展:...

半导体设备第一季第五集死磕技术|电容|极板|硅片|等离子体_网易订阅

ICP较CCP技术要求更高,相比电容性放电,电感能够在低压下产生更高密度、更均匀的等离子体,对『masahiko-w}|aomaike}晶圆的伤害较小,不仅能够刻蚀介质,更能够刻蚀难度最高的硅材料目前,国内仅有两家能够生产出ICP设备,一个是北方华创的NMC612D,另一个就是中微半导体的Primona『ts-n-tax}ζblo...

半导体刻蚀设备行业研究:半导体制造核心设备,国产化之典范

中微公司是国内半导体刻蚀设备最具代表性的公司,在CCP、ICP设备领域均拥有强大的产品实力,部分产品已经进入海外产线,批量应用于5nm及以下先进制程生产线。中微公司刻蚀设备发展历程总结如下:2007年,中微首台CCP刻蚀设备研制成功;2011年,中微45nm介质刻蚀设备研制成功;2013年,中微22nm介质刻蚀设备研制成功;2015年,美国...

zycgr21071302等离子体刻蚀机(8寸 ICP+CCP)公开招标公告

等离子体刻蚀机(8寸ICP+CCP)招标项目的潜在投标人应在上海市共和新路1301号D座2楼,上海中招招标有限公司。获取招标文件,并于2024年07月29日09点30分(北京时间)前递交投标文件。一、项目基本情况项目编号:STC24A290项目名称:等离子体刻蚀机(8寸ICP+CCP)...

2024年9月19日FIFA最新一期国家队排名公布…

国足上期排名世界第87亚洲第13,9月世预赛国足客场0-7日本,主场1-2不敌沙特(www.e993.com)2024年11月18日。国足排名跌至91是近8年的新低,国足上次排名低于90还是在2016年,当时国足跌至96。亚洲前15:1-日本(16)2-伊朗(19)3-韩国(23)4-澳大利亚(25)5-卡塔尔(44)6-伊拉克(55)...

北方华创:ICP刻蚀、CCP刻蚀、TSV刻蚀设备可满足多种技术代的存储...

北方华创：ICP刻蚀、CCP刻蚀、TSV刻蚀设备可满足多种技术代的存储芯片制造金融界2月28日消息，有投资者在互动平台向北方华创提问：您好，请问公司的刻蚀设备、TSV设备目前及未来是否可以应用于DRAM、HBM等存储芯片制造中吗？公司回答表示：公司的ICP刻蚀、CCP刻蚀、TSV刻蚀设备可以满足多种技术代的存储芯片制造。本文...

绍兴积极推广CCP智控集成改革应用

本报讯记者王正心发自浙江近日,浙江省绍兴市CCP智控集成改革应用推广现场会在绍兴越城浙江资溪面包有限公司召开。浙江省市场监管局食品生产处副处长毛林燕、绍兴市市场监管局副局长周峰、越城区市场监管局副局长廖连生,以及绍兴市食品安全工作联合会、绍兴市食品行业协会、各区、县(市)市场监管局食品生产科负责人和...

北方华创:公司的ICP刻蚀、CCP刻蚀、TSV刻蚀设备可以满足多种技术...

同花顺(300033)金融研究中心02月28日讯,有投资者向北方华创(002371)提问,您好,请问公司的刻蚀设备、TSV设备目前及未来是否可以应用于DRAM、HBM等存储芯片制造中吗?公司回答表示,您好,公司的ICP刻蚀、CCP刻蚀、TSV刻蚀设备可以满足多种技术代的存储芯片制造。感谢关注!点击进入互动平台查看更多回复信息...

半导体刻蚀设备行业报告:制程微缩叠加3D趋势,市场空间持续拓宽

CCP受益3D发展趋势，制程微缩推动ICP需求增长。3DNAND：堆叠层数竞赛开启，高深宽比刻蚀/多堆栈堆叠技术齐发展3DNAND简介随着制程持续微缩，平面2DNAND的栅极结构和氧化层逐渐减小与变薄，进而导致器件可靠性降低，难以满足高速、大容量的产品需求，NAND发展开始转向三维空间，即3DNAND。3DNAND是将二维...