华林科纳新一代槽式一体机——湿法刻蚀清洗一体机
DIW清洗:在刻蚀完成后,酸液回收冷却,槽内依然在一定的真空度下通过水洗喷淋、溢流、鼓泡、超声等方式,使用去离子水或其他清洗剂将芯片或晶圆表面的残留物、污染物等清洗干净。二、控制模式:手动控制模式、自动控制模式.三、功能配置:A、电气控制配置:1、彩色人员操作界面,Proface7”触摸屏,操作画面设计个...
...深度:至纯科技(603690):深耕高纯工艺系统,蓄力开拓湿法设备业务
根据国内外半导体设备厂商公开披露信息,设备成本构成中一般90%以上为原材料(即不同类型的精密零部件产品),考虑到国际半导体设备公司毛利率一般在40%-45%左右,因此全部精密零部件市场约为全球半导体设备市场规模的50%-55%,按照2024年全球半导体设备预计将达到1090亿美元计算,2024年精密零部件市场规模有望达到545亿美元以...
至纯科技:公司主要以湿法清洗设备的生产销售为主,向外延扩展至...
至纯科技(21.320,-0.26,-1.20%)(603690.SH)7月22日在投资者互动平台表示,公司主要以湿法清洗设备的生产销售为主,向外延扩展至涂胶显影设备,主要聚焦于6/8寸线领域,目前尚未量产,相关进展请关注公司后续公告。(记者蔡鼎)
华海清科:目前公司湿法设备包含清洗设备及供液系统,其中清洗设备...
公司回答表示,尊敬的投资者您好,目前公司湿法设备包含清洗设备及供液系统,其中清洗设备已批量用于公司晶圆再生生产,2023年,首台12英寸单片终端清洗机HSC-F3400机台出机发往国内大硅片龙头企业进行验证;应用于12英寸集成电路FEOL/BEOL晶圆正背面及边缘清洗的清洗机已完成装配;用于湿法工艺设备中研磨液、清洗液等化学品供...
芯源微:二季度新签订单情况良好 快速推进化学清洗机商业化进程
“公司生产的前道涂胶显影机、前道物理清洗机已经批量应用于国内多家28nm制程晶圆厂,近年来批量销售规模持续增长。截至2023年底,公司前道涂胶显影机28nm以下工艺技术正在验证中。”芯源微董事长、总裁宗润福介绍,2024年第二季度,公司新签订单情况良好。宗润福说,公司早在2017年便开始投入研发物理清洗机,经过持续的验证...
为什么等离子清洗技术比传统湿法技术更有优势?
作为一种先进的清洗设备,等离子清洗机已广泛应用于许多行业,其独特的清洗方法和高效的清洗效果备受好评(www.e993.com)2024年10月18日。本文将为您介绍等离子清洗机的清洗为什么等离子清洗技术比传统湿法技术更有优势?一、清洗过程控制等离子清洗工艺过程更容易控制,其清洗时间对工艺较为灵敏,通过高频电源放电产生的等离子体,它可以深入到物体的微细孔...
等离子清洗机可解决PECVD工艺石墨舟残留的氮化硅
面对“如何清除石墨舟上残留的氮化硅”这个问题,整个行业实现了从湿法清洗到干法清洗的选择的过程。传统的湿法清洗工艺存在清洗时间长、成本高、对人体及环境危害大等问题。而等离子清洗机则可以利用等离子技术,去除石墨舟表面的氮化硅镀层,提高硅片的转化效率和生产良率,同时不伤害石墨舟表面。此外,这种清洗方式还具有无...
【建设项目环境影响评价审批】拟审批公示(2024.5.20-5.22)阜4901...
根据建设项目环境影响评价审批程序的有关规定,经审议,我局拟对下列建设项目环境影响报告表作出批复决定。为保证此次审议工作的严肃性和公正性,现将建设项目环境影响报告表的基本情况予以公示。公示期为2024年5月20日--2024年5月22日(3个工作日)。联系电话:0994-2352652...
公司前线|芯源微题材要点调整更新
半导体专用设备公司主要从事半导体专用设备的研发,生产和销售,产品包含光刻工序涂胶显影设备(涂胶/显影机,喷胶机)和单片式湿法设备(清洗机,去胶机,湿法刻蚀机),产品可用于6英寸及以下单晶圆处理(如LED芯片制造环节)及8/12英寸单晶圆处理(如集成电路制造前道晶圆加工及后道先进封装环节)。自2008年我国启动实施“02...
上海理工大学湿法清洗台竞争性磋商
地址:上海市共和新路1301号D座2楼联系方式:沈思远、吴小晶、朱昌丽021-66272029、5357、9718ssy_111@126、crystal_wxjing@163、zhuchangliv@sina3.项目联系方式项目联系人:沈思远、吴小晶、朱昌丽电话:021-66272029、021-66275357、021-66279718...