对话纳米压印技术发明人周郁:用变革性的新技术突破光刻瓶颈!

纳米压印技术(NanoimprintLithography,NIL)是一种新型的微纳加工技术。它的工作原理与传统的光刻技术完全不同。传统的光刻技术用辐射(光或电子)曝光光刻胶和用化学冲洗来形成图案。而纳米压印用机械变形-压印来形成图案。纳米压印将预先图形化的模具压进与涂布好的纳米压印胶,从而在纳米压印胶上复制出模具上的结...

大连榕树光学取得纳米压印夹持装置专利,有利于在压印制程中保障...

因此软模具的张力控制尤其为重要，可由于软模具的张力控制较为困难，无法在压印制程中保障纳米压印的效果的技术问题，包括支撑框，所述支撑框内四侧面均等距开设有多个腔槽，且多个腔槽内共同滑动设置有用于对软模具进行张紧的张紧组件，所述张紧组件包括用于对软模具的四侧面进行固定的框架组件以及等距设置于...

青岛天仁微纳总部项目奠基,聚焦纳米压印光刻技术

据了解,青岛天仁微纳科技有限责任公司(简称:天仁微纳)成立于2015年,是微纳加工设备和解决方案提供商,专注于纳米加工领域,该公司致力于拓展纳米压印技术在创新产品领域的应用,例如发光二极管、微纳机电系统、虚拟现实和增强现实光波导、3D传感、生物芯片、显示以及太阳能等。其官方消息显示,公司为客户提供纳米压印光刻“...

纳米压印或取代光刻,国内行业发展迅速国产化率逐步提高

以璞璘科技为例,其在纳米压印技术的材料、设备和工艺等方面不断创新,形成了技术闭环,并成功交付了相关设备,为我国半导体产业的发展提供了有力支持。不过,纳米压印技术要完全取代光刻技术仍面临诸多难题。一方面,纳米压印设备中关键的高端对准模块尚未实现国产化;另一方面,纳米压印先天性的物理接触式结构复制过程存在缺陷...

纳米压印取代光刻,我国半导体制造不用再被卡脖子?

在配套压印材料方面主要产品应用包括:半导体、光学、力学、生物医学、新能源等;此外,辅助材料包括:软膜板胶、模板胶、防粘材料、增粘材料等。工艺上,团队发展了复合高分子模板技术、无残余层纳米压印工艺、曲面纳米压印工艺、双转移层纳米压印工艺、双腔室纳米压印工艺等,已成功在璞璘科技产业化,并申报了多项自主知识...

利和兴:二代全自动纳米压印设备技术研发目前处于工艺调试阶段...

金融界9月23日消息,有投资者在互动平台向利和兴提问:贵公司的二代全自动纳米压印设备技术研发可用于芯片,光刻机,固态电池,华为新技术,公司今年订单饱满,业绩同比去年大幅增加(www.e993.com)2024年11月10日。公司回答表示:二代全自动纳米压印设备的技术研发目前处于工艺调试阶段,后续相关应用尚待验证,公司将按照相关规定履行信息披露义务。

光刻技术替补!纳米压印“龙头”,任重道远

01纳米压印技术是一种能够在微观尺度上制造精细图形的加工技术,与光刻技术相提并论,但具有更高的生产效率和更低的成本。02然而,纳米压印技术目前面临模板要求高、成本高昂等问题,尚未成为光刻技术的替补。03晶方科技和苏大维格被视为纳米压印领域的龙头,但实际应用中仍面临诸多挑战。

10月31日股市必读:晶方科技(603005)董秘有最新回复

投资者对公司主营业务有信心,询问公司是否已学习新“国九条”。董秘回复称,公司高度重视并认真学习新“国九条”及相关法律法规,将继续切实履行自身责任,促进高质量、可持续性发展,提升信息披露和投资者交流工作质量,维护全体股东和投资者的合法权益。投资者询问公司纳米压印技术的发展阶段。董秘回复称,公司控股公司...

水晶技术之微纳光学系列 | 光学领域的革命性突破——超透镜

4、纳米压印技术(NIL)将具有纳米级尺寸图案的模板通过压印复制图案到高分子材料衬底上。成本低、工期短、产量高、分辨率高,适用于加工聚合物结构。纳米压印技术在有足够精度的掩膜版提供的前提下,是一种适合量产的光刻工艺。图7超透镜制备工艺图8超透镜微结构图片...

佳能挑战ASML 佳能纳米压印技术,芯片制造更省电省钱

业界专家们先前对佳能的纳米压印技术抱持怀疑态度，Gartner的分析师高拉夫??古普塔（GauravGupta）在佳能去年首次宣布这项技术时就表达了疑虑。他指出，在先进制程节点的研发和量产之间存在着巨大的差距。也就是说，在实验室里研发出来的技术，要实际应用到量产阶段，还有很多困难需要克服，例如生产效率、良率、成本控制...