国产芯片突破五纳米 订单延续至2026年

在当前全球科技竞争态势日益升温的背景下，芯片产业的自我突破显得尤为重要。2024年很可能成为中国芯片发展的一个重要转折点。随着国内在5纳米光刻机领域取得显著进展，尤其是在RISC-V架构的崛起下，中国正在重塑芯片产业的格局。在经济命脉和国家安全的双重考量下，这是一场不容忽视的技术革命。光刻机，这个芯片制造过...

投资百亿美金,五纳米芯片生产背后的技术与市场博弈′

以光刻机为例，当前最先进的极紫外光（EUV）光刻机是制造五纳米芯片的必备设备。荷兰的ASML公司是全球唯一能够生产EUV光刻机的公司，其设备价格高达一亿美金以上。由于这种设备的稀缺性和高技术壁垒，任何希望进入五纳米市场的企业都面临着巨大的资金压力。三、市场竞争的加剧在全球范围内，对高性能芯片的需求正在不...

国内五家受益!高端光刻机问世!荷兰阿斯麦后悔莫及

工信部宣布我们正式拥有高端光刻机。消息发出后,荷兰阿斯麦第一时间感觉无地自容,前脚刚刚配合老美禁止两款中高档光刻机NXT:2050i和NXT:2100i对中国的出口。而且禁止了英伟达中高档芯片对中国的出口,后脚,我们就宣布这光刻机实现自主。1970i、1980i,这两款光刻机在ASML产品序列中属于中低端产品。我们这款8...

光刻机产业链深度报告:国产路漫其修远,中国芯上下求索

光刻工艺可以理解为使用光刻技术进行某一类加工的一种工艺;而光刻技术是则指在光照作用下,借助光致抗蚀剂(即:光刻胶)将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。典型的光刻工艺流程包括衬底制备、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、腐蚀、去胶等。在光刻中主要使用工具及材料为光掩膜、光刻机及光刻胶。光刻机:通过光...

工信部公开推广两款国产DUV光刻机!最小套刻≤8nm!多只光刻机概念...

01工信部公开推广两款国产DUV光刻机,最小套刻≤8nm,多只光刻机概念股走强。02氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度,与ASML旗下TWINSCANXT:1460K性能相近。03目前光刻机国产化率仅为2.5%,核心原因在于零组件供应与整机技术与海外差距较大。

国产套刻8nm光刻机引争议,我们追赶对象真的是ASML吗?

对此,有业内称,NSR-S636E可以直接光刻加工量产型5nm制程芯片,这个说法尽管有些夸张,但足见其在浸润式DUV光刻机市场的潜在实力(www.e993.com)2024年11月2日。更为可贵的是,NSR-S636E是我们的企业和媒体经常挂在嘴边上的完全国产。例如其光源使用的是日本gigaphoton公司(注:它是日本最大工程机械企业小松旗下的半导体企业,在光刻设备的DUV光源...

美卖力施压,中国造出来了,德媒中国突破7纳米芯片光刻机技术

那就得在芯片这块儿有突破，达成全面国产化。中国和西方发达国家现在虽然还有一定差距，不过新光刻机的出现，让我们有了能追赶上去的希望。在高科技领域，芯片就是个代表，以后中国肯定能在这个领域占得一席之地。美国使劲儿施压，结果中国还是造出来了。德国媒体称：中国在7纳米芯片光刻机技术上取得了突破。

首先得有,28nm/65nm突破为何被工信部列为“重大技术”

国产氟化氩光刻机可参考ASML机型值得注意的是,尽管分辨率相近,但ASML的1460k光刻机在套刻精度上达到了5纳米,展现了更高的制造精度。而ASML的另一款干型光刻机1470,分辨率略为57纳米,所以新官宣的国产光刻机在第四世代中属于较为先进的范畴,与全球最顶尖的技术水平相比仍存在一定的差距。

重大突破!俄罗斯研造出首台光刻机,350纳米到底啥水平?

他们国内第一台光刻机已经成功制造了出来,这一台光刻机能够生产的芯片,是350纳米工艺的,现在已经对其进行测试了,当这台光刻机出来后没多久,俄罗斯又把自己接下来的举动给公布了出来,那就是想要把130纳米工艺的光刻机给制造出来,现在很多国家都已经研究五纳米的光刻机了,为何俄罗斯研究的光刻机和其他国家来说,...

俄罗斯制造出首台国产350nm芯片光刻机,并宣称2028年投产7nm芯片...

这一重要消息对于半导体行业甚至全球而言,有着重要意义。如果施帕克说法属实,就意味着,俄罗斯将成为继美国、荷兰、日本等国之后,第五个完全掌握光刻技术的国家,同时也是在美国制裁之下,今年最新制造出芯片光刻机的国家。实际上,早在2001年,全球首次生产出130纳米尺寸的芯片,而350-65nm拓扑结构的芯片应用于微控制器、...