【华金电子孙远峰团队-半导体材料快报】日本主导半导体材料市场...

彤程新材:公司是国内深紫外KrF光刻胶最大量产供应商,半导体光刻胶产品种类涵盖国内14nm以上大部分工艺需求。24H1公司半导体光刻胶业务实现营收1.28亿元,同比增长54.43%;其中KrF光刻胶增长率超60%;化学放大型I线光刻胶得益于存储行业的飞速发展,增长率超500%,ArF光刻胶已开始连续接单量产并产生营收。鼎龙股份:公...

中国光刻胶企业暴露了,美国知道后,正敦促日本对华进行遏制

光刻胶的种类繁多,按照曝光波长不同,可分为g-line(436nm)、i-line(365nm)、KrF(248nm)、ArF(193nm)等光刻胶。不同种类的光刻胶就像不同功能的画笔,适用于不同精度要求的芯片制造。例如,对于精度要求更高的先进芯片制造,ArF光刻胶就成了不二之选。而中国的光刻胶企业在研发和生产这些光刻胶的过程...

西子清洁能源装备制造股份有限公司回购报告书

1、西子清洁能源装备制造股份有限公司(以下简称“公司”或“西子洁能”)拟以集中竞价交易方式回购公司部分发行的社会公众股份用于注销以减少注册资本。本次回购资金总额不低于人民币5,000万元(含5,000万元),且不超过人民币10,000万元(含10,000万元),回购价格不超过14.5元/股(含),具体回购股份的数量以回...

容大感光(SZ300576):光刻胶产品应用广泛,公司专注感光电子化学品...

请问公司主要生产哪些种类的光刻胶董秘回答(容大感光SZ300576):您好,公司的光刻胶产品主要包括PCB光刻胶、显示用光刻胶、半导体用光刻胶等,公司自设立以来,一直致力于感光电子化学品的研发、生产和销售,感谢您的关注。查看更多董秘问答>>免责声明:本信息由新浪财经从公开信息中摘录,不构成任何投资建议;...

...课题组Angew Chem:可水显影的二氧化碳基深紫外化学放大光刻胶

图4.PPhCXC化学放大光刻胶在254nm曝光条件下的光刻图案以PPhCXC光刻胶树脂为研究对象,作者随后进行了光刻胶配方(分子量、光致产酸剂种类及添加量)和光刻工艺条件(前/后烘条件)的优化。结果表明使用分子量为5.9kDa的PPhCXC聚合物作为成膜树脂、添加5wt%三氟甲磺酸三苯基锍作为光致产酸剂为最优光刻胶...

彤程新材2023年年度董事会经营评述

2023年中国大陆半导体光刻胶市场规模5.42亿美元,较上年同期下降8.6%,其中G/I线光刻胶占比17.71%,市场规模较上年同期下降6.8%;KrF光刻胶占比37.08%,市场规模较上年同期下降16.6%;ArF光刻胶占比44.28%,是2023年国内唯一增长的光刻胶种类,市场规模较上年同期增长0.42%,ArF光刻胶市场的增长以及在整体光刻胶市场...

艾森股份:电镀液产品与配套试剂、光刻胶与配套试剂可搭配使用,无...

艾森股份：电镀液产品与配套试剂、光刻胶与配套试剂可搭配使用，无捆绑销售，目前量产产品种类超过400种金融界12月20日消息，艾森股份披露投资者关系活动记录表显示，公司电镀液产品与配套试剂、光刻胶与配套试剂之间可搭配使用，但不存在“捆绑销售”，下游客户可以根据需求选择组合购买或单独下单购买某类产品，但公司...

我国光刻胶处于由中低端向中高端过渡阶段 国产化有很大提升空间

光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。按曝光光源和辐射源的不同，分为紫外光刻胶（包括紫外正、负性光刻胶）、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。按曝光光源波长划分，可分为g线光刻胶（436nm）、i线光刻胶（365nm）、KrF光刻胶（248nm）、ArF光刻胶（193nm）和EUV...

瑞联新材(688550.SH):开发出多款半导体用光刻胶单体产品,部分产品...

近期的重点在OLED和电子材料方面,OLED面板可以实现更好的显示效果、满足更多的应用场景,具有更广阔的发展空间,与液晶面板相比较预计仍将保持高速发展;电子材料方面公司多点布局,开发出多款半导体用光刻胶单体产品,部分产品已经量产,TFT平坦层光刻胶的验证工作也在积极推动中。

ACAIC 2024主题论坛:半导体材料/器件高质量发展与下一代分析仪器...

光刻胶作为其中的重要组成部分,包含有机试剂与添加剂等成分,随着制程从30纳米不断演进至几纳米,对于其中金属杂质的要求也从小于0.1ppm(即10个ppb)大幅提升至需控制在0.1个ppb。电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)是进行定量分析,特别是液体定量分析的一种行之有效的方法。当下存在多种仪器类型,诸如...