传台积电、三星接连断供7纳米芯片,国产光刻机要加速了

就比如在芯片供应链中，高端芯片的生产离不开顶级光刻机的支持。就比如盖房子打地基一样，芯片需要精雕细琢，而光刻机就是关键的雕刻工具。纵观全球，唯有荷兰阿斯麦公司生产的高端光刻机，才能够雕刻出3纳米制程，制造出当今全球最先进的芯片。此前，阿斯麦公司一直与中国市场关系密切，然而，美国政府对荷兰政府施压...

终于破冰!氟化氩光刻机有多牛?8纳米工艺可以量产了?

氟化氩光刻机采用193纳米波长的光源，通过特殊的光学系统和精密的机械结构，实现了对芯片表面微小结构的精确刻蚀。其分辨率小于或等于65纳米，足以满足当前及未来一段时间内，对于7纳米及以上制程节点芯片的生产需求。这一技术的突破，不仅极大地提升了中国芯片制造的能力，更为中国在全球半导体产业链中争取到了更多的话语...

“光刻机”第一真龙,沉睡三年,有望从17元涨到69元

第一家:海立股份公司高层与微电子装备集团的负责人针对合作项目及产品配套方案进行了深入的讨论。双方同意以封装光刻机的冷却系统配套作为合作的起始点,旨在通过这一合作提升双方在供应链中的合作层次。未来,双方计划将合作范围从零部件级别的供应扩展到更为复杂的系统级供应,以此加深彼此的战略伙伴关系。第二家:张江...

项目副总师:超分辨光刻机将助力“中国芯”跨越发展

该光刻机在365纳米光源波长下,通过超衍射成像单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。结合双重曝光技术后,未来还可用于制造10纳米级别的芯片。胡松表示,每台光刻机的售价应该在1000万元到2000万元人民币之间,未来市场前景广阔,但是完全替代荷兰ASML公司垄断的尖端集成电路光刻机还有一段路要走。“我们自主研制的光刻设备...

佳能首次出货纳米压印光刻机

佳能(Canon)9月26日宣布,将首次供应半导体的下一代制造设备——“纳米压印”光刻机(NIL),这批设备将交付给美国“得克萨斯州电子研究所”。据了解,该设备在半导体制程中用于在晶圆上绘制电路图。目前,标准方法是使用强光来绘制电路。佳能的设备采用的方法是一种像盖章一样的,将纳米级别的图案刻在掩膜上,然后将...

台积电向中国大陆公司断供7纳米芯片,一场新的硬仗等着我们!

同样的道理，中国正史无前例地在芯片制造的全部领域进行天量投资与科技攻关，举国之力研发国产先进光刻机，并大力突破芯片生产所需要的全部核心材料，包括并不限于硅晶圆、特种气体、光刻胶、抛光材料、封装材料等等，以及不断改善制造工艺流程，让28纳米级别芯片能够发挥出7纳米级别芯片的能力(www.e993.com)2024年11月23日。所以，现在美国也只能在...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

光刻机被称为芯片制造的“皇冠”,其复杂的工艺和精密的设计使得它成为制造纳米级芯片的必备设备。而光刻机的研发与制造,不仅需要在光学、材料学和电子技术等领域达到全球顶尖水平,还需要整合跨国供应链中的核心技术。全球光刻机龙头企业荷兰ASML,几乎垄断了最先进的光刻机生产,并依赖多个国家的技术合作。

中国纳米级别的芯片背后技术积累和产业布局?国科院研究中心

在光刻技术方面,中国也在积极追赶国际先进水平。虽然目前国产光刻机在精度和稳定性上与国际顶尖产品仍有一定差距,但国内厂商正通过加大研发投入、加强国际合作等方式,不断提升自身技术实力。同时,国内还在积极探索新型光刻技术,如极紫外光刻(EUV)技术,以期在未来实现更精细的图案转移。

专家解读65纳米光刻机的分辨率 技术瓶颈与多重曝光潜力

该研究指出,对于0.93数值孔径的65纳米光刻机,单次曝光要求的套刻精度为8纳米,而在双重曝光模式下,要求进一步提高到5.6纳米。这意味着,即便是8纳米套刻精度,在双重曝光至40纳米分辨率的需求面前也显得不够。况且,40纳米仅是浸没式光刻机单次曝光的水平。

重大突破!俄罗斯研造出首台光刻机,350纳米到底啥水平?

所以自从1981年开始,我国科学院半导体,就已经开始研究半自动接近式的光刻机了,当时中国研究出来的光刻机,也是我国第一台能够生产纳米级别的光刻机,俄罗斯的这一台光刻机,比中国的第一台光刻机晚出现了好几十年的时间,既然俄罗斯在光刻机领域非常的被动,那为什么俄罗斯还要跑去研究?