国产芯片突破5纳米,美芯巨头直接将订单延续至2026年

不仅仅是5纳米工艺，通富微电在7纳米工艺上的发展也取得了显著成效。虽然7纳米的技术相对5纳米略逊一筹，但依然是全球高性能芯片制造中的重要技术之一。在很多场景中，7纳米芯片依旧具有广泛的应用，尤其是在对计算能力要求较高的领域。因此，通富微电在这一领域的积累无疑为其未来的技术拓展奠定了坚实的基础。AMD...

国产芯片突破五纳米 订单延续至2026年

在当前全球科技竞争态势日益升温的背景下，芯片产业的自我突破显得尤为重要。2024年很可能成为中国芯片发展的一个重要转折点。随着国内在5纳米光刻机领域取得显著进展，尤其是在RISC-V架构的崛起下，中国正在重塑芯片产业的格局。在经济命脉和国家安全的双重考量下，这是一场不容忽视的技术革命。光刻机，这个芯片制造过...

“芯片荒”打不倒中国半导体,“28纳米”俱乐部又添新员

没错，那场让全球车企头疼不已的芯片短缺，罪魁祸首之一就是28纳米芯片。事实上，28纳米在半导体制造领域是承上启下的关键节点。它不像7纳米、5纳米那样追求极致性能，也不像微米级工艺那样成本高昂。28纳米以其适中的成本、卓越的性能和广泛的应用场景，被誉为半导体制造领域的“常青树”。这对于日渐崛起的中国新能...

日媒确认,中国芯片通过架构升级,将7纳米芯片做到5纳米性能

通过芯片架构升级也是提升芯片性能的途径,苹果就通过芯片架构研发,将ARM架构的性能推升到历史最高水平,苹果的M系芯片已接近Intel的酷睿系列芯片水平,国产龙芯也通过自研芯片架构以12纳米工艺生产达到Intel采用7纳米工艺生产的酷睿13代水平,如今国产5G芯片也取得进展,都说明芯片架构设计确实一条提升芯片性能的重要途径。这...

4nm突围!2026年国产4nm手机芯片将量产,背后的逻辑和价值是什么?

根据内部人士FixedFocus透露,紫光展锐4纳米芯片已经通过了投产前最终设计阶段(Taped-Out阶段),算力可与高通骁龙888相媲美。预计该处理器发布时间为2026年,当然目前还没有更多官方的细节。同时根据数码达人“定焦数码”的消息,紫光展锐4nm工艺芯片已经流片,这款芯片采用X1大核,A78中核,A55小核,GPU采用MaliG715...

硅基芯片走到尽头?国产芯片“换道超车”,玻璃晶圆打孔技术公开

虽然纳米压印设备价格便宜,但缺点也很明显,那就是生产速度没有EUV技术快,目前佳能已经推出型号为FPA-1200NZ2C的纳米压印设备,能生产5nm级别的芯片,这对阿斯麦的EUV光刻机来说是不小的威胁(www.e993.com)2024年11月10日。免责声明:1、本号不对发布的任何信息的可用性、准确性、时效性、有效性或完整性作出声明或保证,并在此声明不承担信息...

从“差三代”到“全覆盖”!国产芯片制造核心装备实现新突破

今年年初,“中国电科实现国产离子注入机28纳米工艺全覆盖”入选“2023年度央企十大国之重器”。离子注入机调试现场。烁科中科信供图“孤勇出征”造出首台样机制造芯片时,由于纯净硅不具备导电性,需要掺入不同种类的元素改变其结构与电导率。这一过程要靠离子注入机来完成——通过电磁场控制高速运动的离子,按照...

首先得有,28nm/65nm突破为何被工信部列为“重大技术”

因此,尽管目前国产光刻机的套刻精度达到了8纳米,但这并不意味着可以直接生产8纳米制程的芯片,而是可能更适合于28纳米或更宽泛的应用范围。具体到芯片方面,以国际半导体技术路线图对套刻误差的要求为例,“套刻精度达到≤8nm”足以满足DRAM器件、Flash器件等存储相关芯片光刻环节的需要。

国产光刻机重大突破!28纳米芯片全流程国产化,龙头厂商梳理

想象一下,这台设备需要用极紫外光,将复杂的电路结构“刻”在芯片上,而每一道光都要精准到纳米级别,这对光源的稳定性和精度提出了极高要求。近年来,国产光刻机在光源系统上的突破,使得国内企业在高端设备制造上开始展现出新的实力。国产光刻机的未来展望...

“芯片荒”打不倒中国半导体,“28纳米”俱乐部又添新员

没错,那场让全球车企头疼不已的芯片短缺,罪魁祸首之一就是28纳米芯片。事实上,28纳米在半导体制造领域是承上启下的关键节点。它不像7纳米、5纳米那样追求极致性能,也不像微米级工艺那样成本高昂。28纳米以其适中的成本、卓越的性能和广泛的应用场景,被誉为半导体制造领域的“常青树”。