直击股东大会|技术不如国内同行 路维光电投建高端半导体掩膜版...

根据SEMI数据,在全球半导体掩模版市场,晶圆厂自行配套的掩模版工厂规模占比65%,独立第三方掩模厂商规模占比35%,其中独立第三方掩模版市场主要被美国Photronics、日本Toppan和日本DNP三家公司所控制,三者共占八成以上的市场规模,市场集中度较高。在晶圆制造用掩膜版领域,国内掩膜版厂商与国际领先企业有着较为明显的...

清溢光电、路维光电4家掩膜版相关企业第三季财报

清溢光电生产的掩膜版产品根据基板材质的不同主要可分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他(包含凸版、菲林)。产品主要应用于平板显示、半导体芯片、触控、电路板等行业,是下游行业产品制程中的关键工具。清溢光电平板显示行业掩膜版包括薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)掩膜版含阵列(Array)掩膜版(a-Si/LTPS技术)及彩色...

广立微:能增加光掩膜版的利用效率方案具体是指利用公司的IP及核心...

公司回答表示,尊敬的投资者您好,该方案具体是指利用公司的IP及核心技术,可以在相同掩模面积中放置更多测试结构,换言之,同样数量的测试结构占用的掩模面积更小,该技术与测试芯片版图设计及集成电路良率提升技术相关,与光刻过程中的曝光模式无直接关联。感谢您的关注!点击进入交易所官方互动平台查看更多...

芯传科和新毅东申请一种掩膜版转运系统专利,大大降低了掩膜版在...

以将储存机构内的掩膜版转运至预对准机构中;预对准机构具有与掩膜版校准后重合的基准位面,预对准机构能够对掩膜版进行位置调校以使掩膜版与基准位面重合;转运机构还设置于预对准机构和掩膜台之间,以将预对准机构中经位置调校的掩膜版转运至掩膜台上该掩膜

无掩膜光刻,中国团队发布新方案

无掩膜光刻,中国团队发布新方案如果您希望可以时常见面,欢迎标星收藏哦~来源:内容来自phys,谢谢。中国科学技术大学SunHaiding教授团队研发出垂直集成微尺度发光二极管(micro-LED)阵列,并首次应用于深紫外(DUV)无掩模光刻系统。该项研究成果发表在《激光与光子学评论》上。

中国科大在无掩膜深紫外光刻技术研究中取得新进展

近日,中国科学技术大学微电子学院特任教授孙海定iGaNLab课题组开发了一种具有光能量自监测、自校准、自适应能力的三维垂直集成深紫外发光器件阵列,并将它们成功应用于新型无掩膜深紫外光刻技术中(www.e993.com)2024年11月8日。该研究首次提出将深紫外微型发光二极管(micro-LED)阵列作为光源应用于无掩膜深紫外光刻技术。在被广泛应用于集成电路芯片制造...

广立微:IP及核心技术可在相同掩模面积中放置更多测试结构

广立微：IP及核心技术可在相同掩模面积中放置更多测试结构金融界9月27日消息，有投资者在互动平台向广立微提问：公司半年报提到能增加光掩膜版的利用效率，该技术是否可用于四种曝光，公司是否和海思在多重曝光方面有合作。公司回答表示：该方案具体是指利用公司的IP及核心技术，可以在相同掩模面积中放置更多测试结构...

广立微:公司半年报披露光掩膜版利用效率提升技术,是否可用于四种...

公司半年报提到能增加光掩膜版的利用效率,该技术是否可用于四种曝光,公司是否和海思在多重曝光方面有合作董秘回答(广立微SZ301095):尊敬的投资者您好,该方案具体是指利用公司的IP及核心技术,可以在相同掩模面积中放置更多测试结构,换言之,同样数量的测试结构占用的掩模面积更小,该技术与测试芯片版图设计及集成电...

冠石科技:公司的光掩模项目建成后,将具备年产逾1.25万片半导体光...

公司的光掩模项目建成后,将具备年产逾1.25万片半导体光掩膜版的生产能力,产品制程覆盖350-28nm(其中以45-28nm成熟制程为主),可广泛应用于高性能计算、人工智能、移动通信、智能电网、高速轨道交通、新能源汽车、消费类电子等众多产业涉及的集成电路半导体领域,能够满足多类晶圆设计、晶圆代工企业的采购需求,以及先进...

2024年全球掩膜版市场规模及重点企业预测分析(图)

中商情报网讯：掩模版（Photomask）又称光罩、光掩模、光刻掩模版、掩膜版、掩膜板等，是光刻工艺中关键部件之一，是下游行业产品制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。市场规模掩膜版是微电子制造过程中的图形转移母版，是平板显示、半导体、触控、电路板等...