ASML掀开台积电的老底,28纳米以后的芯片工艺升级都是假的!

ASML指出在28纳米以上工艺的时候,芯片制造工艺的栅极间距都低于芯片工艺的名字,即是65纳米,芯片的栅极间距低于65纳米,但是在28纳米以下工艺,芯片的栅极间距难以迅速缩短,芯片制造企业的命名已是脱离了这样的命名规则。ASML表示3纳米工艺的栅极间距为23纳米,2纳米、1.4纳米工艺的栅极间距分别为22纳米、21纳米,预计1纳米...

中芯国际遭台积电减持背后:业绩承压,14纳米技术量产待考

在高端消费电子方面,相对于40纳米工艺制程可应用于手机基带及应用处理器和平板电脑多媒体应用处理器,28纳米工艺制程可直接应用于智能手机、平板电脑。但中信建投在研报中表示,华为麒麟960/970/980制程分别为16/10/7纳米,中芯国际14纳米工艺处于960-970之间,在当前手机性能过剩的情况下,其工艺只可满足中低档手机需求。

台积电和三星电子的16/14纳米之争

另外，三星电子28纳米P型芯片电极的硅锗化合物，在结构特征上更接近于台积电的菱形，与IBM的圆盘U形“完全不同”。而且，双方刚刚量产的16/14纳米FinFET产品更为相似，“单纯依靠结构分析可能分辨不出产品来自三星公司还是来自台积电公司”。报告认定，台积电几项“如指纹般独特且难以模仿的技术特征”皆遭三星电子模仿...

中国现在能做几nm芯片

14纳米和28纳米：中芯国际和华虹半导体是中国领先的芯片制造企业，目前能够稳定量产14纳米工艺的芯片。华虹半导体也在2022年实现了14纳米制程工艺的全线贯通，成为国内第二家能够制造14纳米芯片的厂商。28纳米工艺在中国已经相对成熟，多家企业能够稳定生产28纳米及以上的芯片。7纳米：有消息称，中国在7纳米工艺上已经开始...

专家访谈汇总:铜线取代PCB?

而对于需要28纳米、14纳米甚至7纳米工艺的芯片制程则需结合晶圆厂的工艺,其中EUV光刻机的高NA版本已经实现交付,对应的理论精度达到8纳米。为什么14纳米、28纳米的主流设备是光刻机?在半导体制造中,14纳米、28纳米的主流设备采用光刻机的原因在于其基本原理涉及到多重曝光。光刻过程包括在被刻蚀的介质层上先铺一...

国产65nm光刻机公布,市场反应出乎意料!

28纳米：成本优势与市场定位咱们来聊聊生产成本和好货比例，跟那些高大上的8纳米、14纳米比起来，28纳米的芯片制造成本低得不是一星半点(www.e993.com)2024年11月23日。用一台65纳米的光刻机来做28纳米的芯片，既能控制成本，又能提高合格产品的比例。换个说法，用这台65纳米的光刻机做芯片，既划算又实惠，还能让国产光刻机顺利进入稳定的...

富乐德(301297.SZ):目前已经掌握了成熟的28/14纳米制程PVD部件...

国内半导体洗净再生技术大多停留在28纳米以上制程,28纳米以下洗净再生技术大多被日韩和欧美国家垄断;公司28/14纳米制程PVD部件洗净再生工艺的开发技术较为先进,目前已经掌握了成熟的28/14纳米制程PVD部件清洗再生技术,成功打破了日韩和欧美国家技术垄断。海量资讯、精准解读,尽在新浪财经APP...

至纯科技:公司湿法设备已可覆盖28纳米各工序段,并在14纳米以下已...

公司回答表示,您好,公司在湿法设备方面沿袭与DNS一致的日系技术路线,公司湿法设备已可覆盖28纳米各工序段,并在14纳米以下已有四台设备交付,是国内目前唯一可提供14纳米以下先进制程湿法设备的国产厂商。公司时刻关注湿法领域的先进技术并持续投入研发,希望成为技术覆盖度更广、技术深度更精深的专注于湿法领域的供应商。

覆盖28-14纳米,华虹六厂建设运营取得新突破

根据公开信息,华虹六厂为909工程二次升级改造项目,位于上海康桥基地,2016年11月启动建设、2018年10月建成投片,工艺技术覆盖28-14纳米节点,设计月产能4万片12英寸晶圆,2020年初华虹集团总工程师赵宇航曾在行业活动中透露,集团14纳米FinFET工艺已实现全线贯通。(校对/Aileen)...

7纳米、14纳米、28纳米芯片制造工艺市场价值对比

根据《集成电路设计业的发展思路和政策建议》中的数据,14nm工艺开发成本远远超过28nm工艺。如果从成本角度看,使用了FinFET的14nm工艺在成本方面体现出了明显的劣势。更何况不是所有的芯片都像CPU、GPU那样需要极高的性能,很多芯片只是能够实现特定的功能就可以了,由此看来28纳米工艺是一款极具“性价比”的工艺。如果...