冠石科技光掩模版项目进展,2024光掩模版与光刻胶技术与市场论坛将...

据了解,公司本次交付的电子束掩膜版光刻机设备是光掩膜版40纳米技术节点量产及28纳米技术节点研发的重点设备,这意味着该项目进展迈出了关键一步。公司表示,后续将继续按照已有的建设工作计划,持续稳定地推进各项工作。半年报显示,该项目预计将分别于2025年实现45纳米光掩膜版的量产,2028年实现28纳米光掩膜版的量产,...

冠石科技上半年产销双增长 首台电子束掩膜版光刻机进场

上证报中国证券网讯8月29日晚间,冠石科技发布半年报,报告显示公司实现了产量和销量的双增长,上半年实现营业收入约6.57亿元,同比增长57.59%,显示出强劲的市场拓展能力和增长动力。值得注意的是,报告期内,首台电子束掩膜版光刻机顺利交付,该设备是光掩膜版40纳米技术节点量产及28纳米技术节点研发的重点设备。公告显示,...

冠石科技:2024年7月引入首台电子束掩膜版光刻机

公司回答表示：公司半导体光掩膜版项目涉及的关键设备全部为进口设备，设备交付时间18-48个月不等。2024年7月宁波冠石引入了首台电子束掩膜版光刻机。本文源自：金融界AI电报作者：公告君

中科大教授:美国造不出光刻机,中国有机会吗?我国选择另开赛道

按照研发人员的说法，他们可以利用电子束，将芯片的纳米设计图，刻印在晶圆厂上。而且这种刻蚀方法的耗能，比EUV光刻机还要少10%。可见，即便没有EUV光刻机，芯片也能被打造出来。在此期间，各大IT巨头甚至还想到了“拼凑法则”，来打造高端芯片。比如苹果，就将两枚5nm的MAmax芯片粘合在一起，以打造一款“组合...

冠石半导体入场首台先进电子束掩模版光刻机

证券时报e公司讯，宁波前湾新区管理委员会官网消息，近日，宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点，企业引入首台电子束掩模版光刻机。据悉，该设备是光掩模版40纳米技术节点量产及28纳米技术节点研发的重点设备。作为半导体产业链上游重要的原材料之一，光掩模版是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。目前，我国高...

泽攸科技自主研制的电子束光刻机实现关键突破,有望打破国外技术壁垒

近日,据知情人士透露,国内微纳技术领军企业泽攸科技联合松山湖材料实验室,在全自主研发的电子束光刻机整机开发与产业化项目上取得重大进展(www.e993.com)2024年11月25日。他们成功研制出电子束光刻系统,实现了电子束光刻机整机的自主可控。这标志着国产电子束光刻机研发与产业化迈出关键一步。

龙图光罩:深圳拥有7台光刻机正常运行,珠海高端半导体芯片掩模版...

龙图光罩:深圳拥有7台光刻机正常运行,珠海高端半导体芯片掩模版制造基地项目将有多台新光刻机投入使用,模版,光刻机,电子束,深圳市,珠海市,龙图光罩,半导体芯片

龙图光罩(688721.SH):目前在深圳有7台光刻机,均处于正常使用状态

龙图光罩(688721.SH):目前在深圳有7台光刻机,均处于正常使用状态,httpsm.jrj/madapter/finance/2024/09/06155943076884.shtml

冠石科技:上半年营收增长57.59%,掩膜版光刻机设备成功交付

据了解,公司本次交付的电子束掩膜版光刻机设备是光掩膜版40纳米技术节点量产及28纳米技术节点研发的重点设备,这意味着该项目进展迈出了关键一步。公司表示,后续将继续按照已有的建设工作计划,持续稳定地推进各项工作。半年报显示,该项目预计将分别于2025年实现45纳米光掩膜版的量产,2028年实现28纳米光掩膜版的量产,...

替代EUV光刻机光源,日本方案详解

如果曝光能量不足,晶圆上会出现随机图案缺陷。为了抑制在很高产能吞吐量的情况下的EUV随机效应,需要很高的EUV功率。对于未来光刻机的最大产能吞吐量,需要估算出减轻随机效应所需的EUV功率。3nm节点所需的EUV功率大于1.5kW,2nm节点所需的EUV功率大于2.8kW。因此,未来EUV光刻技术将需要更强大的EUV光源。