新“国九条”后科创板IPO首秀!高性能溅射靶材投资价值几何?
招股书显示,欧莱新材在高性能溅射靶材领域深耕多年,主要产品包括多种尺寸形态的铜靶、铝靶、钼及钼合金靶和ITO靶等,广泛应用于半导体显示、触控屏、建筑玻璃、装饰镀膜、集成电路封装和太阳能(4.190,0.01,0.24%)电池等领域,代表性客户涵盖了京东方、华星光电、惠科、越亚半导体、SK海力士等显示面板和半导体知名企业。
磁控溅射镀膜实验报告 磁控溅射镀膜检测机构
磁控溅射镀膜实验报告磁控溅射镀膜检测机构磁控溅射镀膜是指将涂层材料做为靶阴极,利用氩离子轰击靶材,产生阴极溅射,把靶材原子溅射到工件上形成沉积层的一种镀膜技术。磁控溅射镀膜检测项目外观质量、厚度检测、表面质量检测、均匀性测试、附着力评级、失效分析、测量分光曲线、盐雾测试、耐腐蚀性、高温高湿测试、光...
中金:玻璃基板新材料,孕育TGV设备需求|玻璃通孔技术研究进展_新浪...
根据HarborSemi,溅射镀膜主要是在靶材表面形成等离子体,并且利用等离子体中荷能粒子轰击靶表面,使被溅射出来的粒子在基体表面形成镀层,即利用溅射现象而成膜的方法。近年来,磁控溅射技术在增加金属电离、提高靶材利用率、提高沉积速率和避免反应溅射中的靶材中毒等方面不断发展。湿法电镀:工艺简便精细磁控溅射后,玻璃...
欧莱新材:6月28日接受机构调研,广发证券、天风证券等多家机构参与
(2)公司将通过实施本次募集资金投资项目,建设半导体集成电路用溅射靶材试制基地,对半导体集成电路用溅射靶材进行技术研发、产品试制,拓展溅射靶材在半导体集成电路领域的应用。随着半导体集成电路用溅射靶材研制成功,公司将与更多半导体集成电路行业的知名头部客户建立合作关系,半导体业务的占比也将随之提升。2、面板业务方面...
凯泽金属谈磁控溅射钛靶材的应用现状与发展趋势
使之具有更好的导电性。除ITO靶材外。平面显示器产业溅射用靶材主要还有Al、Y2o,MgO、W、Mo、Ni、Cu、Cr等靶材。2.4光学薄膜行业磁控溅射是目前制备幕墙玻璃最好的方法,但由于射频电源、溅射靶的材料和制作价格昂贵,磁控溅射的成本是比较高的。玻璃镀膜采用的靶材主要有:In2O3、SnO2、Co-Cr、Ni-Cr、Cu...
河南院士成功研制“中国靶”实现我国显示技术用ITO靶材自主供给
ITO是氧化铟锡材料的简称,先制成标准尺寸的陶瓷靶材,由磁控溅射机将其溅镀到显示玻璃上,最后制成显示屏(www.e993.com)2024年9月10日。你知道吗?ITO靶材核心技术长期把持在日韩大企业手里,我国ITO靶材每年消耗量超过1000吨,高端部分全部依赖进口,这与我国铟资源大国地位和平板显示产业产能世界第一极不相称。如今,我们终于拥有了“中国靶”...
孔伟华:将企业打造成中国溅射靶材的名片
在西北稀有金属材料研究院,孔伟华团队突破钽靶、铌靶、铜靶、湿法ITO纳米粉体、ITO靶材、靶材铟焊接技术的国外技术封锁,首先将ITO溅射靶材产品和制造技术实现国产化和商业化应用。这些技术至今还被国内靶材制造企业借鉴使用,同时也为国内靶材研发制造领域培养了最早的一批骨干力量。
磁控溅射工艺概述
在磁控溅射机台使用了永磁体,这些磁铁放置在靶材后面以产生磁场。由于离子比电子重,因此离子几乎不受磁场的直接影响。但是磁场导致电子在做螺旋运动,延长了它们在基板附近的等离子体中的停留时间。从而产生更多的离子,并且使这些离子有更高的能量,从而增强了溅射效率...
多功能磁控溅射镀膜机技术方案
多功能磁控溅射仪(磁控溅射镀膜机)是用磁控溅射的方法,制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等;适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜系及合金膜;可镀制磁性材料和非磁性材料。设备关键技术特点秉承设备为工艺实现提供实现手段的理念,我们做了如下设计和工程实现,实际运行效果良好,为...
如何用物理的方法制作一个千层蛋糕
磁控溅射是指在磁场中,利用电子碰撞电离出的Ar离子以高速轰击靶材,从而溅射出大量靶材原子沉积到衬底表面。磁控溅射设备来源:[6]分子束外延则是通过加热蒸发裂解或电子束轰击的方式激发靶材,使固体材料变成气态原子或分子,沉积在衬底上。激光分子束外延的方法就是在真空环境中,采用脉冲激光打击靶材料,靶材吸收激...