国产光刻机成功研发,全球科技格局面临大变革

最近，中国成功研发出国产光刻机，这个消息让全世界为之一震，国人自然兴奋不已。曾有人预言，当中国在光刻机领域取得突破，欧美科技公司的股价可能会遭遇大幅缩水。尤其是荷兰的“阿斯麦”（ASML），流言称其股价或将大跌，甚至可能需要重组。至于美国的英伟达、英特尔、美光和高通，也在这里被提上了黑名单。事实证明...

中国光刻机崛起!美国专家:怎么能绕过我们私自研发?

可中国这次不仅研发了自己的高端光刻机，还把大部分零部件都实现了国产化。这就好比你设计了一套无懈可击的锁，结果发现中国根本不用你的钥匙，自己造了门。美国智库专家的“义愤填膺”可以理解。毕竟在他们眼里，半导体就是美国的“金饭碗”。而现在，这个饭碗却被中国砸了个粉碎。中国的光刻机产业链完全自主，...

光刻机研发究竟有多难?看完你就懂为什么全球只有两个国家拥有

高端光刻机的制造难度,超乎常人想象。其核心在于极紫外光(EUV)技术,这种光波之短,仅为头发丝直径的万分之一,其产生与控制的精度要求,堪称极致。想象一下,每秒数万次的高能激光精准打击微小锡滴,瞬间激发出极紫外光,这一过程不仅需要极高的技术稳定性,更需对物理极限的精准把握。而光学系统的构建,则是另一大挑...

国产光刻机取得重大突破 深市产业链公司迎来发展新机遇

民生证券表示,海外半导体设备供给持续高增满足短期扩产需求,国产光刻机技术亦在持续突破,利好半导体设备自主可控的长期发展,继续看好国内晶圆厂的投资增长和国产半导体设备的国产化机遇。

中科大副院长:美国都造不出的光刻机,中国永远不可能造出来!

尽管光刻机的研发确实困难重重,但我们不应妄下中国永远无法自主研发的结论。历史一再证明,中国有能力克服各种技术障碍,实现自主创新。我们应该保持理性乐观的态度,既要认清当前的差距和挑战,也要对未来充满信心。相信在不久的将来,中国必将在科技领域取得更大的进步。我国的科研人员正在不懈努力,他们的智慧和汗水必将...

重大突破:自主研发的浸没式光刻机问世,引发荷兰担忧

未来展望3至5年内，中国芯片行业将迎来显著的增长态势(www.e993.com)2024年11月2日。尽管当前面临挑战，如光刻机技术尤其是极紫外光学难题短期内难以解决，这需要长期的研发投入和积累。然而，中国在多个科技领域已实现突破性进展，例如在福建舰电磁弹射技术、东风-17导弹的机动弹道模式及关键材料学等领域取得了重大成就。尽管光刻机技术存在瓶颈，但...

中国光刻机晚事:研发比ASML早20年,却落后这么久呢?

不曾想ASML又研发成功了,EUV光刻机研发出来后,ASML将蔡司等核心伙伴都捆绑在了自己的战车上,形成利益共同体,导致其它光刻机厂商,很难研发不出EUV光刻机了。打开网易新闻查看精彩图片由此可见,中国起步虽然比ASML早20年,但中间其实又耽搁了20来年,再加上各种原因,比如后来美国的打压限制,以及机遇,ASML设的坎等...

EUV光刻机突破中的科技与产业创新是如何融合的?

在美国,国家实验室是深度参与EUV光刻机研发的主要国立科研机构。1995年,当DOE所属3个国家实验室LLNL、LBNL、SNL开展深度合作时,考虑到各个国家实验室在科研方向和研发积累上各有专长,则设计了VNL项目组织模式——以100多名世界顶尖科学家为骨干开展交叉融合研究。其中,由研发体量最大的SNL负责新光源系统研发、记录材料...

华为副书记朱士尧:光刻机美国都造不出,中国永远不可能造出来!

光刻机的研发需要长期的技术积累和实践经验,而中国在这方面还有很长的路要走。最后是产业链不完善,虽然中国拥有世界上最大的半导体市场,但在高端芯片制造和关键材料生产等方面还存在短板。尽管如此,中国在光刻机研发方面仍然取得了很好的进展,国内众多科研机构和企业正全力以赴,加速推进光刻机相关技术的自主研发进程...

ASML光刻机是怎样一步步走上绝路的

因为波长再降低,反射角调整会导致光损失到难以承受,光路上反射镜如果增大很多倍会导致光刻机变成个难以生产和运输的大怪物。接下来,我们回顾一下,ASML光刻机是怎样一步步走上“绝路”的。一、光刻这个词,全名叫Photolithography,简称Lithography或者Litho。Litho原义是一种印刷方法,利用油和水不相容的原理,把文字和...