中科大副院长:光刻机美国都造不出,中国永远不可能造出来!

中微公司的头儿尹志尧，根据他在圈里的摸爬滚打，估摸着咱们中国的芯片技术，还得再奋斗个5到10年，才能和国际上的大佬们肩并肩。这话一出，咱们立马就明白了，咱们在光刻机这块儿，确实还有点儿“短板”。但话说回来，这也给咱们指了条明路，告诉咱们以后该往哪儿使劲儿。中国半导体行业协会的头儿陈南翔，他站...

【突破】工信部推广国产重大技术装备突破,套刻精度≤8nm的光刻机...

1.工信部推广国产重大技术装备突破,套刻精度≤8nm的光刻机在列为促进首台(套)重大技术装备创新发展和推广应用,加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同,工信部于9月9日印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》(以下简称《目录》)通知,在文件列表包含国产氟化氪光刻机(110nm),和氟化...

ASML:我们能让光刻机远程瘫痪!台积电在其威胁下,如何活命?

据了解,国际上45纳米以下的光刻机设备当中,几乎有八成以上的产品都与阿斯麦有着直接的关系。2020年时,世界上唯一的7纳米精度光刻机,也是由阿斯麦成功制造出来的。至少在光刻机领域,阿斯麦好像确实拥有无与伦比的话语权。然而,阿斯麦虽然对光刻机的掌控力很高,但这并不意味着他们就必须对我国保持针对态度。他们...

国产芯突破5纳米,美芯巨头直接将订单给到2026年,倪光南说对了

国产芯片技术突飞猛进，通富微电在5纳米工艺上取得重大突破。这家低调的中国企业不仅技术实力惊人，还赢得了全球半导体巨头AMD的青睐，获得了长达数年的大量订单。事件经过2024年初，半导体行业传出一个令人震惊的消息：中国一家名不见经传的企业通富微电在5纳米芯片制造工艺上取得了突破性进展。这个消息一经传出...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

西方媒体的舆论阵地果然没有底线,从中国不可能自主研发出先进的光刻机,到中国不可能摆脱西方供应链,再到中国不可能完成光刻机整个生产线。如今随着我国成功制造出65纳米光刻机,西媒的话术又变成了中国不可能生产出28纳米的芯片。他们完全看不到,中国已经成为全球唯一一个拥有光刻机完整生产线的国家。

2天蒸发5300亿,光刻机之王的“现世报”来了

从2019年到现在,在美国的搅和下,阿斯麦先是对华限制出口最顶级的极紫外光刻机,后来直接把7纳米及以上的光刻机都给禁了(www.e993.com)2024年11月2日。到最后干脆脸都不要了,连我们之前买的那些设备的维修跟保养都不给做了!要知道,光刻机这种东西极其精密,如果不定时对它进行维护保养,那基本上就等同于一次性的了,一旦出现任何问题,那就是...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

很快,有人说:太好了。轻舟已过万重山,实锤了。中国终于有了自己的7nm光刻机,可以造出自己的7nm芯片,不怕再被卡脖子了。可是,还有人说:别激动。只是误会。那个“8nm”不是重点,它上面那个“65nm”才是。国产芯片还只在65nm的水平,努努力最多也就能够到28nm,离7nm还远得很。

专家访谈精华:国产光刻机突破65纳米

中国工业和信息化部(工信部)近日宣布在芯片制造设备的自主研发方面取得突破,特别是在激光浸没式光刻机技术上取得了显著进展。■建议的设备分辨率为65纳米或更高,相比此前最先进的国产设备(上海微电子的90纳米光刻机),实现了重大提升。■该公告虽未提及具体供应商,但包括氧化炉、干法刻蚀机等设备在内的多个国产...

国产光刻机“套刻≤8nm”意味着什么

日前,工信部的一份文件,再次把国产光刻机推入公众视野,甚至传出国产DUV光刻机突破8nm工艺的“重磅消息”。9月9日,工信部旗下微信公众号“工信微报”推送了工信部于9月2日签发的关于印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》的通知文件,通知文件中的“电子专用装备”的第一项即“集成电路生产...

国产套刻8nm光刻机引争议,我们追赶对象真的是ASML吗?

日前,工信部印发的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》(以下简称“目录”)中显示,中国已攻克氟化氩光刻机,其中该目录中,公开可见的与光刻机代际水平和性能等密切相关的光源193纳米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm指标引发了业内的关注。几乎是与此同时,上海微电子披露了一项名为“极紫外辐射发生装置及...