中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

西方媒体的舆论阵地果然没有底线，从中国不可能自主研发出先进的光刻机，到中国不可能摆脱西方供应链，再到中国不可能完成光刻机整个生产线。如今随着我国成功制造出65纳米光刻机，西媒的话术又变成了中国不可能生产出28纳米的芯片。他们完全看不到，中国已经成为全球唯一一个拥有光刻机完整生产线的国家。自中美贸易...

国产芯突破5纳米,美芯巨头直接将订单给到2026年,倪光南说对了

另一位自称是半导体行业从业者的网友"Silicon_Valley"则分享了自己的见解："我在这个行业混了十多年了，说实话，通富微电能在这么短时间内突破5纳米工艺，确实让人刮目相看。不过大家也别高兴得太早，技术突破只是第一步，能不能持续量产、良品率如何，这些才是真正考验一家企业实力的地方。"也有一些网友对此持...

中国光刻机技术实现重大突破,美国的制裁不灵了

假如我国持续在光刻机领域发力,实现类似极紫外光刻机技术的突破,每年单单光刻机和芯片进口就能节省超过2万多亿元人民币的花费。而且这还只是自我花费的节约,有了先进的光刻机,我们还可以进行光刻机和芯片的出口。这样里外里怕不是能够为国家产出3万亿人民币的财富,换算成美元,可以排到世界各国GDP排名的第30位。...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

中国终于有了自己的7nm光刻机,可以造出自己的7nm芯片,不怕再被卡脖子了。可是,还有人说:别激动。只是误会。那个“8nm”不是重点,它上面那个“65nm”才是。国产芯片还只在65nm的水平,努努力最多也就能够到28nm,离7nm还远得很。两种声音,两种节奏。不知道,你听完是什么感觉?“造出7nm芯片”,到底是个什...

首先得有,28nm/65nm突破为何被工信部列为“重大技术”

从0到1,国产光刻机寻光之旅民众热切期盼国产光刻机技术取得突破,这一愿望源于对国产芯片摆脱外部制约的强烈渴望。对于这一现代半导体工业集大成的领域,国产光刻机究竟走到哪一步了?“在西方技术层层封锁下,国产8纳米光刻机横空出世!”“工信部官宣14nm国产光刻机,距离ASML的EUV光刻机还有多远?”...

国产套刻8nm光刻机引争议,我们追赶对象真的是ASML吗?

日前,工信部印发的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》(以下简称“目录”)中显示,中国已攻克氟化氩光刻机,其中该目录中,公开可见的与光刻机代际水平和性能等密切相关的光源193纳米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm指标引发了业内的关注(www.e993.com)2024年11月11日。几乎是与此同时,上海微电子披露了一项名为“极紫外辐射发生装置及...

ASML:中国举国之力也造不出EUV光刻机,公开图纸也没人能造出

即便公开精密的图纸，中国真的能独自复制出光刻机吗？答案并非肯定。因为那不仅仅是一个技术的问题，更是一个资源的问题。中国是一个科技巨人的觉醒，但她的成长路上仍然面临着无法轻易跨越的障碍。欧美，作为全球科技的主导者，他们的帮助无疑是中国发展过程中的关键。然而，顶尖的设备零件如同稀缺的资源，欧美会...

中国芯片加速5纳米量产,以现有设备实现先进工艺的突破

如今这项多重曝光技术得到中国芯片行业的青睐,则在于中国芯片行业难以得到EUV光刻机,选择多重曝光技术实属无奈,但是如果采用这项技术实现5纳米工艺,对于中国芯片行业来说则是重大突破。由于众所周知的因素所影响,中国的手机芯片、AI芯片等等都无法由台积电以先进的5纳米工艺生产,这对中国芯片行业影响巨大,毕竟更先进的...

正式确认,国内的光刻机完全可以生产5纳米,先进工艺不再是桎梏

不过由于国外的芯片企业没有采用浸润式DUV光刻机生产5纳米工艺的先例,这让业界人士担忧中国芯片是否真的有能力以现有的DUV光刻机生产5纳米工艺。近期海外有实验室对此进行尝试,他们已证明了以浸润式DUV光刻机确实可以生产5纳米工艺,通过多重曝光技术以及其他技术的辅助,甚至可以生产出比台积电的5纳米更先进的工艺。

俄罗斯首台光刻机,真的制造成功了

时隔两年,俄罗斯所说的真的实现了——首台光刻机正式制造成功并进入测试。有实际意义的突破据塔斯社报道,俄罗斯第一台能够生产最大350nm(行业一般说0.35μm)尺寸芯片的光刻机已经创建并正在测试中。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里·什帕克(VasilyShpak)在CIPR期间向塔斯社报告了这一点。