光刻机:国产氟化氩光刻机研制成功,我国在该领域取得了重大进展

光刻机：国产氟化氩光刻机研制成功，我国在该领域取得了重大进展近日，由中国科学院光电技术研究所牵头研制的“高均匀性大视场深紫外（DUV）光刻机曝光光学系统”（简称：氟化氩光刻机），成功列入《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录》。该设备具有高达65纳米的分辨率和低于8纳米的套刻精度。这一成果标志着...

中科大副院长:美国都造不出的光刻机,中国永远不可能造出来!

我坚信，随着国家科研技术的不断进步，我国终将成功研制出光刻机。届时，我们将以事实为证，打破所有质疑！

EUV光刻机突破中的科技与产业创新是如何融合的?

EUV光刻机创新历程,是从松散式的科学原理探索研究,逐步形成面向未来产业愿景和产学研用多方协同攻关创新态势,不断打通产业链、创新链上的“断点”“堵点”,成功实现集科学新发现、技术新轨道和产业新方向于一体的“大纵深”整体突破。EUV光刻技术路线验证与商业成功的历史进程,是面向产业发展需求重大科技问题的共同凝练,...

俄罗斯造出第一台光刻机,可生产 350纳米的芯片,意味着什么?

1981年,中国科学院半导体所就成功研制出JK-1型半自动接近式光刻机,这是中国第一台能生产纳米级的光刻机。还有更早的玩意,1971年清华大学徐端颐教授研制成功“中国第一台光刻机”,要是按这台光刻机来算,俄罗斯第一台光刻机比中国晚了62年。2,350纳米够俄罗斯用的了。现在台积电和三星用ASML的EUV光刻技术...

中国造不出光刻机?中科大副院长:美国都造不出,中国永远不可能

所以对于自研光刻机,我国科研人员可谓是势在必行,经过研究,也不断有好消息传出,更是有消息称中国光刻机已经研制成功。就在我国人民高兴不已的时候,一位国内的顶尖专家却给了我们“当头一棒”。中国造不出光刻机?朱士尧作为中国科学技术大学研究生院的副院长,物理学教授,可以说是我国顶尖的科研人员,曾出版多...

自力更生,“从0到1”---科技自立自强之路

中国人自己的硅平面工艺晶体管,研制成功了(www.e993.com)2024年11月26日。硅平面晶体管的成功振奋了国内产业界。国产光刻胶、器件封装材料、扩散炉、光刻机、压焊机、真空镀膜设备、晶体管测量仪等材料设备如雨后春笋般涌现出来,为硅产业服务的材料和设备制造业随之兴起。1964年4月,半导体所提交的5种硅平面器件通过鉴定顺利验收。1967年7月,已...

自力更生,“从0到1” ——中国第一块集成电路诞生记

中国人自己的硅平面工艺晶体管,研制成功了。硅平面晶体管的成功振奋了国内产业界。国产光刻胶、器件封装材料、扩散炉、光刻机、压焊机、真空镀膜设备、晶体管测量仪等材料设备如雨后春笋般涌现出来,为硅产业服务的材料和设备制造业随之兴起。1964年4月,半导体所提交的5种硅平面器件通过鉴定顺利验收。1967年7月,已...

国产进入新一轮研发潮:电子束曝光机市场与企业盘点

电子束曝光是由高能量电子束和光刻胶相互作用,使胶由长(短)链变成断(长)链,实现曝光,相比于光刻机具有更高的分辨率,主要用于制作光刻掩模版、硅片直写和纳米科学技术研究。目前,活跃在科研和产业界的电子束光刻设备主要是高斯束、变形束和多束电子束,其中高斯束设备相对门槛较低,能够灵活曝光任意图形,被广泛...

【中国科学报】自力更生,“从0到1”

中国人自己的硅平面工艺晶体管,研制成功了。硅平面晶体管的成功振奋了国内产业界。国产光刻胶、器件封装材料、扩散炉、光刻机、压焊机、真空镀膜设备、晶体管测量仪等材料设备如雨后春笋般涌现出来,为硅产业服务的材料和设备制造业随之兴起。1964年4月,半导体所提交的5种硅平面器件通过鉴定顺利验收。1967年7月,已...

刷屏的“国产光刻机”是真牛还是吹牛?

29日,大家的朋友圈被”国产光刻机“刷屏,不明所以的吃瓜群众从一开始的“厉害了,我的国”,迅速反转到指责中国科学院光电技术研究所(以下称光电所)骗经费。那么,这台自主研发的超分辨光刻装备到底是真牛逼还是吹牛逼?本文引用地址:httpseepw/article/201812/395216.htm...