给中国图纸也造不出来?5年后最强的中国芯片反击战开始!

在过去的5年里,我国芯片产业高歌猛进,2020年自主研发的90纳米光刻机交付,2023年华为的7纳米级麒麟9000芯片问世。今年9月份,工信部更是亮相首台子部件国产化的氟化氩光刻机,虽说和EUV光刻机相比仍有一些差距,但已解决我国常规芯片的生产需求,彻底打破西方设备和技术的依赖。更令人振奋的是,我国正在全力突破芯片的...

阿斯麦CEO:中国没有EUV光刻技术,所以不能造出5纳米以下芯片

网友二，可以肯定的说，不到十年，3纳米甚至1纳米，中国都有能力自己制造出来。网友三，之前说中国只能造38纳米的光刻机，现在说造不出5纳米以下的，估计这是最后一次了吧。网友四，我就喜欢这些人说我们造不出，这样更能激发我国的科技人员的研发动力，不出五年，保证这些人要打自己的嘴巴，哈哈。网友五，刚开始...

重大喜讯!中国自主研发芯片光刻机,已顺利投入使用!

中国芯片制造业迎来了一个历史性的重要时刻——“我国首台自主研发的28纳米光刻机顺利交付”。这一消息传出后，立即在科技界和产业界引发了广泛的讨论。长久以来，光刻机作为芯片制造的关键技术，一直被荷兰ASML公司所垄断，而中国此次成功自主研发出28纳米光刻机，无疑打破了这一垄断局面，标志着中国半导体产业迈上...

能耗据称只要十分之一!佳能交付首台新一代纳米压印光刻机

能耗据称只要十分之一!佳能交付首台新一代纳米压印光刻机财联社9月27日讯(编辑史正丞)全球光刻机产业终于迎来了一个有些“不一样”的新产品——日本佳能公司本周宣布,成功交付首台新一代纳米压印光刻机。(来源:佳能公司官网)这里首先需要解释一下,佳能的纳米压印光刻(NIL)系统,与阿斯麦的光刻技术有什么...

首台纳米压印光刻机,佳能出货了

纳米压印光刻机真的来了。佳能宣布,向总部位于美国得克萨斯州的半导体联盟得克萨斯电子研究所(TIE)交付佳能最先进的纳米压印光刻NIL系统FPA-1200NZ2C。这台纳米压印光刻机将交付给德克萨斯电子研究所,该研究所是德克萨斯大学奥斯汀分校支持的联盟,成员包括英特尔和其他芯片公司以及公共部门和学术组织。该设备将供...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

中国自己的7nm光刻机,是不是真的造出来了?起因,是9月9日国家工信部发布的一个通知:《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024版)》(www.e993.com)2024年11月13日。有人发现,《目录》里有2行,不对劲。很不对劲。看图。这两行,是什么意思?是连一个形容词都没有,就突然静悄悄地官宣了中国自己的新光刻机吗?

国产光刻机终于来了!官方已正式发消息,不过

这不但意味着中国在低端光刻机这块已经完成了国产化的大跨越,还能看出中国有批量生产28纳米以及更厉中国在高科技这一块儿呀,这些年一直在努力找突破呢。碰到美欧的封锁,那中国可真是展现出了超级大的决心和毅力,发誓一定要在被限制的技术上搞出大成绩。这可不单单是为了国家的尊严和独立,更是要在可能出现的...

国产套刻8nm光刻机引争议,我们追赶对象真的是ASML吗?-钛媒体官方...

日前,工信部印发的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》(以下简称“目录”)中显示,中国已攻克氟化氩光刻机,其中该目录中,公开可见的与光刻机代际水平和性能等密切相关的光源193纳米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm指标引发了业内的关注。几乎是与此同时,上海微电子披露了一项名为“极紫外辐射发生装置及...

首台大芯片光刻机成功交付!中企传来重大喜讯,ASML“破防”了

近日，国产的28纳米光刻机终于成功交付使用了！这可是个大新闻，国内半导体产业终于迎来了一个里程碑式的突破——首台国产大芯片光刻机。这也意味着咱们中国人在芯片制造领域终于迈出了自主可控的关键一步，结束了在高端芯片制造上长期受制于人的局面。不过，事情真有表面上那么简单吗？这背后还有那些鲜为人知的故事...

正式确认,国内的光刻机完全可以生产5纳米,先进工艺不再是桎梏

不过由于国外的芯片企业没有采用浸润式DUV光刻机生产5纳米工艺的先例,这让业界人士担忧中国芯片是否真的有能力以现有的DUV光刻机生产5纳米工艺。近期海外有实验室对此进行尝试,他们已证明了以浸润式DUV光刻机确实可以生产5纳米工艺,通过多重曝光技术以及其他技术的辅助,甚至可以生产出比台积电的5纳米更先进的工艺。