【产能】华虹公司:Q1产能利用率接近满载;江南新材IPO募资扩产必要...

其中,蓝宝石材料因其具备强度大、硬度高、耐腐蚀等特点,被广泛应用于LED衬底等领域,LED行业已成为蓝宝石材料的主要应用领域之一,目前大部分LED芯片以蓝宝石为衬底。6.直击股东大会丨坤恒顺维:星网业务预计下半年起量,紧抓两大机遇助推业绩增长5月15日,成都坤恒顺维科技股份有限公司(证券简称:坤恒顺维,证券代码:...

铝电解抛光液项目可行性研究报告

该抛光液通过电解作用,能够去除铝材表面的氧化膜和微观不平整,使铝材表面达到光亮、平滑的效果,从而提升铝材的美观度和耐腐蚀性。项目将涵盖抛光液配方的研发、生产工艺的优化、市场推广及售后服务等多个环节。市场分析市场规模与增长全球视角:全球氧化铝抛光液市场在过去几年中保持稳定增长。例如,2023年全球氧化铝抛...

2024年中国CMP抛光液行业发展现状、竞争格局及趋势预测

CMP抛光液中发挥主要作用的是固体粒子研磨剂和氧化剂,固体粒子研磨剂一般为纳米级,发挥研磨作用,氧化剂发挥腐蚀溶解作用。抛光液浓度、研磨剂种类和大小、酸碱性、流速等对抛光速度和加工质量均有影响,抛光液的技术难点在于需根据不同的材料调整配方组合,以改善抛光速度和效果。CMP抛光液产业链上游主要为研磨颗粒、PH...

安集科技申请化学机械抛光液专利,能够有效改善钴表面的腐蚀情况...

专利摘要显示,本发明提供了一种化学机械抛光液,包括研磨颗粒、腐蚀抑制剂、络合剂、表面活性剂、氧化剂、pH调节剂和水。本发明中的化学机械抛光液通过添加合适的炔二醇类非离子表面活性剂,能够有效改善钴表面的腐蚀情况,提高钴的去除速率,显著降低钴的静态腐蚀速率,同时不影响钴的去除速率,满足实际抛光应用需求。本文...

安集科技申请化学机械抛光液专利,可以显著减少钨静态腐蚀速率

金融界2024年6月25日消息,天眼查知识产权信息显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光液“,公开号CN202211664038.X,申请日期为2022年12月。专利摘要显示,本发明提供了一种化学机械抛光液,包括水,研磨颗粒,钨抛光促进剂、稳定剂、过氧化物、第一腐蚀抑制剂、第二腐蚀抑制剂。本发明中...

翡翠抛光表面有坑坑洼洼正常吗,翡翠抛光后出现坑洼,是正常的吗?

2.利用化学方法进行清洁(www.e993.com)2024年11月9日。有时,麻点小坑是由于矿物质的腐蚀或氧化造成的,这种情况下可以使用一些化学清洁剂来去除。选择一种适合翡翠材质的无腐蚀性清洁剂,将其涂抹在麻点小坑处,用软布轻轻擦拭并擦干。这种方法可以在不损坏翡翠表面的情况下去除麻点小坑。

安集科技涨1.30%,短期趋势看,该股当前无连续增减仓现象,主力趋势...

资料显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司位于上海市浦东新区华东路5001号金桥综合保税区T6-5幢,成立日期2006年2月7日,上市日期2019年7月22日,公司主营业务涉及关键半导体材料的研发和产业化。最新年报主营业务收入构成为:化学机械抛光液84.39%,功能性湿电子化学品14.78%,其他0.83%。

安集科技跌2.90%,成交额1.53亿元,后市是否有机会?

资料显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司位于上海市浦东新区华东路5001号金桥综合保税区T6-5幢,成立日期2006年2月7日,上市日期2019年7月22日,公司主营业务涉及关键半导体材料的研发和产业化。最新年报主营业务收入构成为:化学机械抛光液84.39%,功能性湿电子化学品14.78%,其他0.83%。

【技术沙龙】超洁净磁悬浮无轴承泵在微电子领域的应用

抛光液对抛光效果、效率及最终的表面质量起决定性作用。抛光液通常由去离子水、氧化剂、腐蚀抑制剂、pH调节剂、分散剂和纳米级磨料颗粒等成分组成。每种成分在抛光过程中均发挥着重要作用。然而,抛光液中的磨料颗粒及其他化学成分在输送过程中容易发生沉降、团聚等现象,导致抛光液成分分布不均,进而影响抛光效果。此外,...

安集科技申请一种化学机械抛光液专利,能显著改善铜表面的粗糙度

金融界2024年7月2日消息,天眼查知识产权信息显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光液“,公开号CN202211711773.1,申请日期为2022年12月。专利摘要显示,本发明揭示了一种用于铜抛光的化学机械抛光液,该抛光液包括研磨颗粒,含氮杂环类腐蚀抑制剂、络合剂、非离子表面活性剂以及氧化剂,...