能效激增万倍!中国新研光学晶体,光刻机技术大步向前!
科研人员研发出了一种超薄的光学晶体,能够将激光能量的转换效率提升到100倍甚至1万倍!这听起来是不是特别震撼?你没听错,这个新发现不仅打破了以往的技术瓶颈,还为未来的激光技术发展开辟了全新的道路。很多人可能不知道,传统的光学晶体在激光能量转换上一直存在着效率低的问题。这项新技术的出现,彻底颠覆了人们...
美国也被封锁了?中国这一技术全球领先,老美追赶15年也难以超越
它的应用范围超广,从半导体制造、激光技术、国防、医学,甚至是环境监测,KBBF晶体都得心应手。深紫外光,某种程度上,决定了一个国家的技术高度。所以,KBBF晶体不仅仅是一个实验室里的产物,它早已成为中国的战略资源。我们回到半导体这个大背景下,大家都知道,半导体技术是一国科技水平的体现,而深紫外光刻机则是制...
英诺激光:半导体光刻机领域的激光器应用及技术介绍
请介绍下公司在半导体光刻机领域的研发布局,有哪些技术可以应用到该领域?董秘回答(英诺激光SZ301021):尊敬的投资者,您好!目前公司在半导体领域提供的主要产品为碳化硅退火制程的激光器,亦有少量应用在硅基半导体检测等关键制程的紫外和深紫外等激光器,客户以国外知名半导体装备公司为主。感谢您的关注!查看更多董秘...
我国EUV光刻机光源实现突破,7nm关键技术已掌握
这表明我国在高端光刻机技术链方面越发强大,许多核心技术持续突破。现有技术的进展,加上清华大学已解决的光刻机双工作台技术,意味着EUV光刻机的三大核心技术中,只剩下投影物镜部分未见详细报道,这部分技术非常关键,一般不对外公开,但据了解,我国在光学投影物镜方面已有重要进展,具体细节暂未对外透露。综上所述...
关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事
前段时间,突然听到有很多人在问:中国自己的7nm光刻机,是不是真的造出来了?起因,是9月9日国家工信部发布的一个通知:《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024版)》。有人发现,《目录》里有2行,不对劲。很不对劲。看图。这两行,是什么意思?是连一个形容词都
有史以来最亮的半导体激光器
凭借这种极高亮度,PCSEL可以取代体积巨大、耗电较高的二氧化碳激光器,用于产生极紫外光刻机所需的等离子脉冲,从而大大提高芯片制造效率(www.e993.com)2024年10月20日。同样,它们还有助于实现核聚变,这一过程包括向豌豆大小的燃料胶囊发射数万亿瓦特的激光功率。超高亮度的激光还给太空飞行带来了光推进的可能性。由光推动的探测器不用花几千年的时间...
中科大副院长:美国都造不出的光刻机,中国永远不可能造出来!
EUV光刻机作为当前最先进的光刻技术,面临着特殊的技术难点。首先是光源问题,EUV光源需要通过高功率激光轰击锡滴来产生,这个过程极其复杂且能量效率低下。其次是光学系统,EUV光被大多数物质吸收,因此需要使用特殊的多层反射镜,这些反射镜的制造难度极高。
中国氟化氩光刻机成功问世,西方技术封锁将不攻自破!
从网上的消息来看,氟化氩光刻机是由我国上海微电子装备和中微半导体设备两家公司联刻研发,该型光刻机技术不仅十分先进,而且所采用的光刻工艺与西方国家有着明显的不同。相比较荷兰的极紫外光刻机来说,氟化氩光刻机的工作原理主要就是通过高能粒子的轰击,氟化氩准分子激光器就可以作为光源,紧接着,氟化氩气体...
海目星:中红外飞秒激光技术可激发极紫外光 但光刻机技术难度较高
您好,董秘,请问下成果中第7条产生极紫外辐射,是否可用于生产极紫外线光刻机董秘回答(海目星(35.080,4.59,15.05%)SH688559):您好。中红外飞秒激光技术为平台型技术,理论上可以激发极紫外光,但光刻机的极紫外光源的技术难度相对较高,目前我们的激光技术距离专业光源尚有差距。感谢关注。
英诺激光接待11家机构调研,包括华创证券、格林基金、梧桐基金等
答:尊敬的投资者,您好!在半导体领域,大能量、高重频超快激光是支撑EUV光源预脉冲的核心技术。目前公司已立项“高功率薄片超快激光器关键技术与产业化”项目,努力推进大能量、窄脉宽、高重复频率、高峰值功率和高平均功率的激光技术落地。目前公司产品未应用于EUV光刻机,感谢您的关注!