天津理工大学原子层沉积系统采购项目 (项目编号:0615...

天津理工大学原子层沉积系统采购项目招标项目的潜在投标人应在天津国际招标有限公司(天津市河西区卫津南路19号405室)获取招标文件,并于2024年11月21日14点30分(北京时间)前递交投标文件。一、项目基本情况项目编号:0615-244124060717项目名称:天津理工大学原子层沉积系统采购项目预算金额:57.0万元最高限价:57.0...

上海积塔半导体申请原子层沉积控制专利,提升薄膜均匀性

金融界2024年10月26日消息,国家知识产权局信息显示,上海积塔半导体有限公司申请一项名为“原子层沉积控制方法以及控制设备、沉积设备”的专利,公开号CN118814144A,申请日期为2024年7月。专利摘要显示,本申请涉及一种原子层沉积控制方法以及控制设备、沉积设备,包括:用于控制工艺腔室执行N次目标工艺步骤对其内的晶圆表...

金刚石/GaN键合技术大解密!

目前,金刚石与GaN功率器件的集成通常从两方面进行,一是GaN顶部的器件层散热,主要应用金刚石钝化散热技术,金刚石钝化散热是直接在器件顶部沉积金刚石,提高热点顶部的热扩散,同时起到增大换热面积的作用;二是GaN底部金刚石衬底散热,主要有GaN底部异质外延金刚石、金刚石表面异质外延GaN和键合技术。键合技术是实现两者集成...

这项ALD技术 牵引国产半导体设备攻克难关

ALD技术全称为原子层沉积技术,在半导体、光伏、新型显示、柔性电子、新能源等领域具有多种应用,是非常关键的核心工艺之一。微导纳米董事会秘书龙文介绍,它通过交替输入不同的气体,使得这些气体在基底上形成原子级厚度的薄膜。由于沉积是在原子层级进行的,所以制备出来的薄膜具有非常好的覆盖率和均匀性,可以在复杂的形貌...

原子级制造,亟待“萌芽”破土

”该公司负责人透露，这款产品能够研发成功，很大原因在于其母公司的技术积累，并组建起一支包括电子光学、电子电路、电气控制、机械、软件等专业的强大技术队伍。不少细分领域已有初步积累。无锡的微导纳米公司是国际领先的原子层沉积加工企业，去年产值超过60亿元；南京的原磊纳米公司主攻应用于半导体制造的原子层沉积设备...

面向未来高性能电子器件的石墨烯纳米带

这种层间石墨烯纳米带的生长是通过纳米颗粒催化的化学气相沉积(CVD)实现的(www.e993.com)2024年11月1日。纳米带的催化生长过程如图6(a)所示:首先,催化剂纳米颗粒在高温作用下运动并附着在氮化硼的台阶处;通入气源后,甲烷分子会在金属颗粒的催化下裂解,释放出碳原子,碳原子随后会溶解到催化剂中;当催化剂颗粒中的碳含量达到一定的过饱和度后,...

研报

TSV薄膜沉积、背面金属沉积等二十余款产品成为国内主流芯片厂的优选机台;3)立式炉装备方面,中温氧化/退火炉、高温氧化/退火炉、低温合金炉,低压化学气相沉积炉、批式原子层沉积炉均已成为国内主流客户的量产设备,并持续获得重复订单;4)清洗装备方面,拥有单片清洗、槽式清洗两大技术平台,主要应用于12吋集成电路领域。

一文了解原子层沉积(ALD)技术的原理与特点

为了防止前驱体在表面以外的任何地方发生反应,从而导致化学气相沉积(CVD),必须通过氮气吹扫将各个步骤分开。Part03.原子层沉积技术的优点由于原子层沉积技术,与表面形成共价键,有时甚至渗透(聚合物),因此具有出色的附着力,具有低缺陷密度,增强了安全性,易于操作且可扩展,无需超高真空等特点,具有以下优点:...

山东省重大项目!思锐智能半导体先进装备研发制造中心项目封顶

据悉,青岛四方思锐智能技术有限公司成立于2018年,总部位于中国青岛,并在北京、上海设有研发中心。思锐智能主要聚焦关键半导体前道工艺设备的研发、生产和销售,提供具有自主可控的核心关键技术的系统装备产品和技术服务方案。该公司产品包括原子层沉积(ALD)设备及离子注入(IMP)设备,广泛应用于集成电路、第三代半导体、新能源...

拓荆科技:Q3扣非净利同比降近六成

拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务,主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备,已应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线,并已展开10nm及以下制程产品验证测试。