美国要慌了!国产65nm光刻机实现量产,可多重曝光制造8nm芯片
可以说,实现65纳米光刻机,意味着军事独立中国军事上用的芯片,可以不用进口和走私,在整个西方国家封锁的条件下,在西太平洋战胜美国。实现28纳米光刻机,意味着工业独立。中国的空调洗衣机汽车等各类工业品,可以在西方国家脱钩断链技术制裁的情况,自主生产销售。实现7纳米光刻机,意味着中国电子产业独立。绝大部分的...
光刻机永远不会有“官宣”
我知道台湾特务们下面要论证,工信部目录中这个光刻机,不是真正的光刻机,或者不是真正能够做出8纳米芯片的光刻机,也会去论证,这个光刻机的产品良率不高。这些台湾特务,从来没见过什么是光刻机,他们还想真了解光科技的进展?5.光刻机只是一台设备,没有什么大不了的,中国真正发力这个领域,不过是2020年之...
中科大领导表态,美无法制造的光刻机,中国同样面临挑战引发争论
光刻机:芯片制造的"神器"光刻机,这玩意儿有一个集装箱那么大,里面塞满了各种高精尖的零部件。堪称是芯片制造界的"印钞机",能把一块硅片上刻出无数细如发丝的电路。没有它,咱们用的手机、电脑啥的就都歇菜了。目前,全世界最先进的光刻机都是荷兰ASML公司的"独门绝技"。这家公司生产的EUV光刻机售价高达...
国产芯片找到提升芯片性能的办法,无需依赖ASML的先进光刻机了
光刻机呀,那可真是国产芯片的心头大痛!到现在,ASML都没被允许向咱中国出售EUV光刻机,给咱中国芯片的发展带来老大影响啦!不过呢,近日中国芯片有好消息传来,靠着核心架构的研究开发,还有自主搞出来的指令集,用成熟的工艺造出了性能先进的芯片。龙芯宣称新弄出来的芯片3B6600是用国产熟透了的工艺造...
不用光刻机,如何制造5nm芯片?
佳能搞出了个新的芯片制造设备,不用光刻技术,就能造5nm的芯片。而且说是再优化优化,2nm制程也不是啥大问题。这可先把一众网友们搞懵圈儿了,佳能怎么不好好造相机,跑出来搞造芯片的机器了?并且一出手就是5nm、2nm的。而这,差评君就不得不先帮佳能找补几句了,其实一直以来,佳能在芯片制...
没有EUV光刻机,怎么做5nm芯片?
使用浸润式DUV光刻机+多重曝光技术生产5nm芯片完全可行,不计代价的情况下甚至能做到3nm(www.e993.com)2024年9月19日。尽管理论上可行,且在7nm节点上已被部分晶圆厂验证过,但这需要诸多条件同时满足,比如多重曝光中关键的“套刻精度”——多次曝光之间图形对准的精度。此外,也涉及到许许多多的制程手段,比如相移光罩、模型光学临近效应修正、过...
开启芯片时代 光刻机的前世今生
然而,“浸没式”光刻机仍不足以实现芯片上最精细化的处理,此时的光刻机需要波长更小的光源——极紫外光。而阿斯麦经年累月的技术投入恰好有了成效。早在1990年,美国就集结了包括国立实验室、大学、公司在内的50多个单位,展开了对极紫外光源的研发。但由于技术难度高,研发周期长,只有阿斯麦公司能够持续投入时间和...
美日都做不到的高端光刻机,荷兰为何可以?它远比你想象的还要牛
而能够生产制造高端光刻机的公司非常少,其中最强大的则是荷兰的ASML公司。这家公司在全球高端光刻机市场可以说是霸主一般的存在,尤其是在最精密的EUV光刻机领域,ASML基本实现了垄断。就连日本这个曾经技术领先的光刻机制造商也被荷兰甩在了身后。即便是芯片强国美国,也不得不依赖荷兰的光刻机。
光刻技术的过去、现在与未来
极紫外光刻等先进技术的出现推动了芯片制造技术的前沿,实现了更高精度和更小尺寸的微细结构制造。20世纪光刻技术的里程碑事件,从最初的实验研究到工业化应用,为现代半导体工业的发展奠定了坚实的基础。这些重要突破推动了光刻技术的不断发展,将其打造成为微纳米制造中不可或缺的关键技术之一。
吴梓豪:工信部指导目录中的光刻机到底是怎么一回事?
我们可以不用制造出全世界只有蔡司一家能制造且天价的EUV物镜系统,也可以不用研发全世界都发愁的EUV光源。只要我们的半导体工程师用聪明才智与创造力,将k1降下来,而这k1就是DUV光刻机能否制作比其物理分辨率更低CD线宽芯片的重要关键。根据林本坚博士的讲座介绍,我们可以知道降低k1首先是“防震动”,就好像拍照开防...