中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

光刻机被称为芯片制造的“皇冠”，其复杂的工艺和精密的设计使得它成为制造纳米级芯片的必备设备。而光刻机的研发与制造，不仅需要在光学、材料学和电子技术等领域达到全球顶尖水平，还需要整合跨国供应链中的核心技术。全球光刻机龙头企业荷兰ASML，几乎垄断了最先进的光刻机生产，并依赖多个国家的技术合作。这意味着...

魅族前高管李楠突破28nm芯片制造很牛,但高端芯片需要10-20年!

有网友表示，华为已经研发出7nm的芯片，这一成果是采用多重曝光技术实现的。而李楠则认为这绝对不是完全依赖国内光刻机，而是使用了美国阿斯麦公司的多重曝光技术。他认为高端光刻机的研发需要10到20年的时间，但其他博主则表示我们已经成功制造出首台光刻机。从0到1确实很困难，而从1到2则相对简单，因此不久之后...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

中国终于有了自己的7nm光刻机,可以造出自己的7nm芯片,不怕再被卡脖子了。可是,还有人说:别激动。只是误会。那个“8nm”不是重点,它上面那个“65nm”才是。国产芯片还只在65nm的水平,努努力最多也就能够到28nm,离7nm还远得很。两种声音,两种节奏。不知道,你听完是什么感觉?“造出7nm芯片”,到底是个什...

中国造不出光刻机?中科大副院长:美国造不出,中国永远都不可能

朱士尧的言论之所以如此引人注目,是因为光刻机在半导体制造中扮演着至关重要的角色。它就像是芯片制造的“印刷机”,负责将电路图案精确地“印刷”到硅晶圆上。没有光刻机,就无法生产出现代社会所依赖的各种电子设备中的核心部件——芯片。然而,中国在光刻机技术方面面临着严峻的挑战。目前,全球最先进的光刻...

34亿一台!台积电购买最先进光刻机,剑指1nm芯片!

简单来说，这个数值越大，光学系统的分辨率也就越小，从而能制造出更先进制程的芯片。同时，又能大幅降低多重曝光带来的成本，生产效率和良品率也变得更高。举个例子哈，之前可能每小时才能生产150片晶圆，但现在可以提高到300片，非常的夸张。据了解，这台光刻机目前支持2nm量产，到2029年可以支持1nm的量产。如果...

俄罗斯制造出首台国产350nm芯片光刻机,并宣称2028年投产7nm芯片设备

目前在半导体制造行业,DUV(深紫外)光刻机可以用于制造7nm及以上制程的芯片,涵盖了大部分数字芯片和几乎所有的模拟芯片,随着制程向5nm、3nm进化,EUV(极紫外光)设备成为未来光刻技术和先进制程的核心(www.e993.com)2024年11月9日。而用于7nm及以下先进芯片制造工艺的光刻机设备中,ASML公司是唯一的供应商。Gartner数据显示,2020年,ASML在全球光刻机...

俄罗斯首台光刻机,真的制造成功了

因此在芯片制造技术中,好的设备很关键,尤其是需要高精度的光刻机,但有了好的工艺设备后,人才是最关键的。在芯片制造技术中,最难的在于如何建立一个能够齐心协力的团队,这需要整个公司上上下下所有人都是最敬业的。世界上没有任何一个人为制造出来的东西,可以像芯片这样要求百分之百精准度。

没有EUV光刻机,怎么做5nm芯片?

使用浸润式DUV光刻机+多重曝光技术生产5nm芯片完全可行,不计代价的情况下甚至能做到3nm。尽管理论上可行,且在7nm节点上已被部分晶圆厂验证过,但这需要诸多条件同时满足,比如多重曝光中关键的“套刻精度”——多次曝光之间图形对准的精度。此外,也涉及到许许多多的制程手段,比如相移光罩、模型光学临近效应修正、过...

正式确认,国内的光刻机完全可以生产5纳米,先进工艺不再是桎梏

对于中国芯片行业来说,用现有的DUV光刻机生产5纳米工艺则具有重要意义,如今先进芯片在诸多行业的应用都越来越广泛,先进芯片可以提供更强的性能、更低的功耗,除了手机需要之外,服务器、PC都需要先进工艺的芯片,特别是服务器行业,耗电量巨大,互联网企业为了降低功耗甚至在北极圈内建设数据中心。

美日都做不到的高端光刻机,荷兰为何可以?它远比你想象的还要牛

光刻机可是制造芯片中非常关键的设备,直接决定了芯片工艺的精细程度,也称为芯片业的“皇冠上的明珠”。而能够生产制造高端光刻机的公司非常少,其中最强大的则是荷兰的ASML公司。这家公司在全球高端光刻机市场可以说是霸主一般的存在,尤其是在最精密的EUV光刻机领域,ASML基本实现了垄断。