干货满满!荷兰刚宣布扩大管制,我国就公布2条重磅光刻机消息

这种技术既然已经成功搞出来了，就拿氟化氩光刻机问世的进度来比吧。氟化氩光刻机的技术20年研究出来的，到现在才四年多。这么看的话，只要给中国时间，肯定能做出最先进的光刻机。结语中国现在研发出的光刻机水平确实还比不上荷兰呢。不过跟以前比起来，那可是向前迈了一大步。我相信，用不了多久，中国就...

国产光刻机官宣突破,美荷却沉默了,究竟为啥?

不过,我们最喜欢做的就是闷声干大事,氟化氩光刻机只是我们想亮出来的牌,至于实际研发到底进行到了哪一步,又怎么可能轻易让美荷知道。比如前几天上海微电子更新的动态中提到,今年公司申请了一项重要技术的专利,但实际上,这个发明早在两年前就已经提交了申请,如今时机成熟了才公开。美国似乎也猜到了这一点,所以它...

国产光刻机65nm节点有望突破!5~10年内研发重点在哪?

2024年10月9日消息，阿斯麦(ASML)相关负责人近日公开表示，英特尔已经在波特兰工厂完成两台HighNAEUV光刻机(单台设备的售价约为3.5亿美元)的安装。据悉，HighNAEUV光刻机所需的所有基础设施已经到位并开始运行，并且用于HighNAEUV光刻机的光刻掩模检测工作也已经按计划开始进行。光刻机被誉为集成电路产业...

发明专利都公布了,中国版光刻机技术真的来了?

上海微电子公开了“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的发明专利。一石激起千层浪,中国版光刻机这次是真的要来了。从上海微电子公开的资料显示,发明专利与发明团队清晰可见。更加令人振奋的是这个专利技术是下一代光刻技术,广泛应用于半导体制造之中,是面向7nm及以下的主流光刻技术。既然这次是大大方方地公布消...

国产光刻机官宣后,一个奇怪现象:国外网友沸腾,美荷却沉默了

而在9月10日,上海微电子更新的一条动态,公司已经申请了“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的发明专利,而且提交时间是两年前,现在才正式公布。因此,今天公布的国产DUV光刻机或已经是1年前或者2年前的产品了,已经大量在用了,无需保密了。比较敏感的DUV先进光刻机等,外界也很难获得真正的进展信息。

国产首台DUV光刻机?工信部突然宣布,外媒:ASML彻底“破防”了

要知道,我们现在使用的几乎全都是ASML的光刻机,一旦ASML停止给我们提供售后服务,那么这对我们的芯片行业来说绝对是一个“重击”(www.e993.com)2024年11月2日。虽然ASML表示是受到了美方的施压才做出如此决定,但让ASML做梦也没有想到的是,刚刚宣布停止光刻机售后服务不久,我国光刻机行业就传来了一个好消息。根据人民网9月15日报道,为了促进首...

项目副总师:超分辨光刻机将助力“中国芯”跨越发展

光刻机是制造芯片的核心装备,我国在这一领域长期落后。该光刻装备将为中国未来新型国产纳米器件提供技术支持。项目副总设计师胡松30日对《环球时报》记者介绍说,光刻装备利用全新的紫外超分辨光学光刻技术,为超材料/超表面、光学器件、广义芯片等变革性战略领域的跨越式发展提供了制造工具。

中国光刻机技术突破:上海微电子在德申请EUV专利引关注

是的，咱们日常使用的手机、电脑、家电设备，其内部的核心——芯片，就是靠这台“天价神器”做出来的。它简直是半导体领域的技术宝贝，全球都在抢这么几台设备。而最近，上海微电子在德国申请了6项EUV光刻机的关键专利，让整个科技圈都沸腾了。“中国在EUV领域有重大突破了？”这个引发广泛猜测的事件，直接带来了...

芯碁微装获得发明专利授权:“一种用于直写光刻机曝光工序的纠偏...

证券之星消息,根据企查查数据显示芯碁微装(688630)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种用于直写光刻机曝光工序的纠偏对位方法”,专利申请号为CN202210158742.1,授权日为2024年7月26日。专利摘要:本发明涉及直写光刻机领域,公开了一种用于直写光刻机的纠偏对位方法,可以降低贴片精度的方式提高产能,通过介质层对...

发明光刻机的人简直是个天才

00:00/00:00倍速当前设备不支持播放你可以刷新试试70017001.199-fe48fe153f689a89190e2bda9d5df504发明光刻机的人简直是个天才2024-07-2115:33|1万观看33评论912手机看科普视界号粉丝6089|关注1+关注作者最新视频1783|02:29能防御核弹的末日坦克,如果投入战场后果不堪设...