荷兰对中国禁售光刻机,然而15天后却反悔,连忙去美国表示抗议

中国科学院光电研究所成功研制出世界首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备。在365纳米光源波长下,单次曝光最高线宽分辨力达到了22纳米。国产28nm光刻机示意图结合多重曝光技术,这一装备可用于制造10纳米级别的芯片。这一成果填补了国内光刻机技术的部分空白,为我国在该领域的进一步发展奠定了基础。与此同时,上...

突破封锁:俄媒曝成功获取5台光刻机,应对西方技术制裁

近期，俄罗斯在光刻机领域取得重大进展，据俄媒CNews报道，该国自主设计的用于制造处理器的激光光刻机已投入生产，目标是自2026年起，每年产出5台此类设备，部分测试计划于2025年进行。此消息一出，引发了对西方封锁效果的讨论。随着激光光刻机的大规模生产，西方对俄罗斯的制裁开始显现薄弱环节。若生产顺利，俄罗斯将...

国产DUV光刻机研制成功,各国反应:荷兰气愤,韩国美国意外!

2024年9月15日，财大气粗的富豪报道：“国产DUV光刻机研制成功，各国反应不一，荷兰气愤，韩美意外。”

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

西方媒体的舆论阵地果然没有底线,从中国不可能自主研发出先进的光刻机,到中国不可能摆脱西方供应链,再到中国不可能完成光刻机整个生产线。如今随着我国成功制造出65纳米光刻机,西媒的话术又变成了中国不可能生产出28纳米的芯片。他们完全看不到,中国已经成为全球唯一一个拥有光刻机完整生产线的国家。自中美贸易...

唯一掌握5nm刻蚀机黑马,业绩大增,外资重仓5941万股,有望腾飞

清华大学借助前沿的“稳态微聚束”技术,成功研制出适用于高端极紫外(EUV)光刻机的核心光源,填补了国内在该领域的空白,为我国自主研发EUV光刻机筑牢了坚实根基。另一方面,有“中国刻蚀机之父”之称的尹志尧博士带领团队,成功研制出国内首台5纳米刻蚀机。这一成果标志着我国在芯片微观加工领域步入国际顶...

投资者提问:请问2023年成功采购到货了多少台光刻机,主要是几纳米...

投资者提问:请问2023年成功采购到货了多少台光刻机,主要是几纳米的,感谢投资者提问:请问2023年成功采购到货了多少台光刻机,主要是几纳米的,感谢董秘回答(华虹公司SH688347):尊敬的投资者,您好!如涉及需披露事项,公司将及时履行信息披露义务(www.e993.com)2024年11月2日。感谢您的关注与支持!

俄罗斯成功造出光刻机:落后西方25年,吃光了老本,只能拥抱东方

俄罗斯造出光刻机,可量产350纳米芯片5月22日,根据媒体报道,俄罗斯企业终于能成功造出,可以生产350纳米级芯片的光刻机。盲目相信西方、依赖所谓的全球化产业链有什么后果?俄罗斯就是最好的反面教材。俄罗斯曾经号称世界第二军事强国,但在半导体领域却落后西方至少25年。百业凋零的俄罗斯,越来越依赖中国。

EUV光刻机突破中的科技与产业创新是如何融合的?

5.坚持以用户为中心EUV光刻机是研发出来的,实际上更是用出来的。每一台EUV光刻机的出售,都需要几十名技术人员到用户处进行运行调试;在调试过程中,ASML的核心工作之一就是及时且高效地解决技术不足和用户的定制化需求。例如,领先用户台积电提出EUV光刻系统的商用化需要将全新光罩的原生缺陷降低90%,否则晶圆的良品...

科技产品发烧友_澎湃新闻-The Paper

#科技产品发烧友光博会:9nm三维激光直写系统发布,基于同技术的双光束超分辨率投影光刻机正在工程研发。这种直写式的激光光刻系统是基于华中科技大家成果产业化的商用技术产品,能做到最小线宽9nm,线间距52nm的微纳制造。而基于这种双光束超分辨率的投影式光刻机已经在2019年完成样机,目前正在进行大型工程机的研发工作...

哈工大再获突破!成功研制激光干涉仪,对光刻机贡献有多大?

高速超精密激光干涉仪的探测头体积小,可以嵌入到试验装置或精密装备中,在狭小的空间中进行测量任务,再加上它只需要单根光纤就可以连接探测头和主机,更容易完成超精密地测量目标,可以对晶圆、物镜系统、工作台位置的超精准定位,从而为我国高端光刻机研发提供嵌入式在线测量手段,为纳米计量测试提供核心仪器。