重大突破!中国第一台芯片光刻机成功交付使用!

然而，近日我们迎来了一则令人振奋的消息：国内已成功研发出具有自主知识产权的光刻机，这款28纳米光刻机的顺利交付，被众多人士喻为学习骑车时迈出的第一步，标志着我国在自主芯片制造领域迈出了坚实的步伐。尽管这款光刻机与ASML的顶尖设备相比仍存在一定的差距，但它的诞生却意味着我们已掌握了生产的主动权。未来...

国产光刻机重大突破!28纳米芯片全流程国产化,龙头厂商梳理

想象一下,这台设备需要用极紫外光,将复杂的电路结构“刻”在芯片上,而每一道光都要精准到纳米级别,这对光源的稳定性和精度提出了极高要求。近年来,国产光刻机在光源系统上的突破,使得国内企业在高端设备制造上开始展现出新的实力。国产光刻机的未来展望然而,尽管技术进步显著,国产光刻机依然面临不少挑战。

国产光刻机终于来了!官方已正式发消息,不过

这不但意味着中国在低端光刻机这块已经完成了国产化的大跨越,还能看出中国有批量生产28纳米以及更厉cxrrl害的成熟芯片的本事呢,给市场打了一针强心剂。不过这才wofis刚开头呢。中国光刻机技术要是取得突破,能不能让咱摆脱对aanf外界的依赖呀?回想阿斯麦(ASML)不给中国卖光刻机的corumreplicainfo....

国产光刻机“套刻≤8nm”意味着什么

“光刻机套刻小于8纳米,逻辑上对应的区间,也能上到成熟区间,甚至更高一些。但别指望它覆盖手机用的处理器工艺,主要还是面向成熟区间。”半导体行业资深观察人士王如晨对记者表示,工信部文件表格里不止氟化氩光刻机,还有配套设备,是个小生态,“看工艺节点,都侧重成熟区间,尤其28纳米”。制造更小线宽芯片的办法需要...

「一水」国产光刻机落后20年?回答几个大家比较关心的问题。

好好好,国产光刻机终于官宣量产了。这回可不是搜集信息之后的推理,而是正八经儿工信部文件公布的信息。2024年9月2日,工信部印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》通知。在这份文件当中,首次出现了氟化氪KrF和氟化氩ArF光刻机。但要注意的是,这台

国产光刻机重大突破,半导体行业持续复苏!光刻机概念集体爆发

在《指导目录》中,“集成电路生产装备”板块列出了氟化氪光刻机和氟化氩光刻机(www.e993.com)2024年11月6日。其中,氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度,能够支持28纳米工艺芯片的量产。这表明我国在半导体设备领域获得了重大突破。光刻机作为半导体制造的核心设备,其技术水平直接影响到芯片的性能和成本。随着相关技术上的不...

中国不买就没人买了,2纳米光刻机也救不了ASML

ASML公布一季度的业绩,业绩显示营收同比下滑21.6%,净利润更是暴跌37.4%,营收环比更是从2023年Q4的91.9亿欧元暴跌近三分之二,导致如此结果就在于ASML无法对中国销售较为先进的DUV光刻机。之前ASML曾表示今年的业绩仍然将继续增长,它有如此信心就在于今年开始交付2纳米光刻机,2纳米EUV光刻机为ASML最先进的光刻机,...

国内首台大芯片先进封装专用光刻机交付入厂

据广州产投、越海集成官微消息,4月16日,由广东微技术工业研究院(广东微技术研发中心有限公司,简称“广东工研院”)组织的“曝光时刻——3D异构芯片封装技术研讨会”暨国内首台大芯片先进封装专用光刻机交付入厂仪式在广州市增城区广东越海集成技术有限公司举行。

俄罗斯成功造出光刻机:落后西方25年,吃光了老本,只能拥抱东方

根据官方公开的信息可知,中国上海微电子公司已经量产了90纳米分辨率的SSX600系列光刻机,28纳米分辨率光刻机大概率也会在2024年取得突破。而28纳米级芯片,正是目前制造业需求量最大的,毕竟5纳米、3纳米级芯片目前还存在成本高、良品率较低等问题,不适合在全社会铺开,家电、汽车、雷达、飞机使用28纳米级芯片已经完全...

首先得有,28nm/65nm突破为何被工信部列为“重大技术”

因此,尽管目前国产光刻机的套刻精度达到了8纳米,但这并不意味着可以直接生产8纳米制程的芯片,而是可能更适合于28纳米或更宽泛的应用范围。具体到芯片方面,以国际半导体技术路线图对套刻误差的要求为例,“套刻精度达到≤8nm”足以满足DRAM器件、Flash器件等存储相关芯片光刻环节的需要。