荷兰“投降”,中方官宣国产光刻机,刚过15天,荷派人赴美摊牌

虽然28纳米的突破未能给美国和荷兰造成“心理阴影”，但全球顶级芯片正向7纳米、5纳米的制程迈进。中国的28纳米光刻机虽有所进展，但与ASML的EUV光刻机相比，仍显“低配”。2023年初，SMEE传来好消息，表示14纳米光刻机已经研发成功。这使得国内半导体公司十分欣喜，因为这意味着可以减少被“卡脖子”的情况，许多国...

国产氟化氩光刻机公开,回击荷兰新禁令,相当于ASML20年前水平

这也就是说，现在这款光刻机远远未能够达到可以生产28纳米芯片的程度，至于8纳米或者是7纳米的芯片，就更不用说了。看来这款光刻机与荷兰ASML目前最为先进的EUV光刻机产品还有着不小的差距。如果说真的要和荷兰方面的企业来进行对比，那么这款光刻机的性能与荷兰ASML的设备技术实际差距超过18年左右，相当于这家...

ASML曾预言中国将自主生产光刻机,三年期限已到,现状如何?

目前，上海微电子已能生产90纳米光刻机并开始商业化，这算是一个里程碑。更令人振奋的是，上海微电子正在积极研发14纳米甚至7纳米光刻机。然而，坦白说，和ASML相比，我们还有相当大的差距。在28纳米工艺上，尽管上海微电子掌握了技术，但尚未实现量产。ASML已经实现了2纳米技术，而上海微电子目前最顶尖的技术仍停留...

光刻机突然烂大街了?俄罗斯不声不响造出40万元人民币的光刻机?

显然比俄罗斯刚刚生产出第一台能够量产350纳米芯片的光刻机要强上太多。目前,上海微电子是国内最强的可能也是唯一的能够独立制造光刻机的企业。公开资料显示生产出的产品能够搞定90纳米芯片的量产,之前有传闻说已经取得28纳米甚至14纳米的突破,但一直没能看到官方正式宣布。因此,我们还无法确定国产光刻机是否取得了实质...

项立刚:光刻机这颗明珠很快要变成玻璃珠了!中国已拿下光刻机

而华为凭借这一技术实现了7纳米芯片的量产,结束了长期依赖进口的被动局面。中微半导体则专注于I-line(365纳米)光刻机的研发,经过十几年的努力,终于实现了国产替代,只不过距离真正的I-line光刻机还有有些差距。与此同时,中微半导体还在加紧推进14纳米技术的研发,有望在未来两到三年内投产。

【转单】英伟达7纳米转单三星代工,台积电股价重挫 ;ASML研发新代...

4.光刻机领域王者ASML研发新代机型,2025年1纳米工艺可期(文/kittykwoon),在2019年,台积电和三星都准备量产7纳米的EUV工艺了,并且明年也会是5纳米工艺的一个重要节点(www.e993.com)2024年11月1日。要知道,在半导体制造的工艺中,最重要而且最复杂的就是光刻步骤,往往光这部分的成本就能占到33%左右,所以半导体想要有突破性的发展,和光刻机的...

中国芯片加速5纳米量产,以现有设备实现先进工艺的突破

据了解北京一家企业正在研发一种利用现有光刻机生产5纳米工艺的技术,预计很快就能实现量产,该工艺的核心技术是自对准四重图案化(SAQP)技术,类似技术曾被台积电用于7纳米,Intel也曾试图利用该项技术。Intel是最早考虑多重曝光技术的,2014年它就已量产14纳米工艺,2016年ASML还没量产EUV光刻机,Intel就试图利用DUV光刻...

3年前ASML曾断言,中国将自产光刻机,如今三年到了,我国怎样了

目前,可以确定的是,上海微电子已经能生产出90纳米的光刻机,并且开始商业化生产了,这算是个里程碑。更振奋人心的是,上海微电子还正在大力研发14纳米甚至7纳米。不过实话实说,跟ASML比,我们还有着不小的差距。在28纳米,上海微电子虽然掌握了技术,却尚未量产。荷兰的ASML或已经打响了2.纳米的第一枪,而上海微电子现...

荷兰的“造芯”帝国

我们一般听得比较多的是技术名词是:纳米制程。比如5纳米制程、7纳米制程、14纳米制程、28纳米制程。数值越小,芯片性能越高。如果没有光刻机,就没有芯片的诞生。如果没有光刻机,硅片只是硅片,一块平平无奇的化学材料,不会拥有惊人的计算力量,也不会拥有驱动手机、电脑、汽车等智能设备的能力。就像铜如果不铸成...

希望来了!国产光刻机突破难关,将量产14纳米芯片

哈工大实验团队在国产DUV光刻机研发领域实现突破。成功解决了最后一个难关,现在能够自行建造光刻机的核心部件,这是一个重要的里程碑。此外,14纳米的光刻机,有望在今年内进行量产。这表明我国对于光刻机技术的研发一直在积极推动,并且取得了一定的成果。这对于我国的半导体产业和科技创新都具有重要意义。