ASML突然暴雷,中国不买了,美国和日本芯片设备的好日子没了

全球三大芯片制造企业台积电、Intel和三星，都已大幅减少乃至不再采购DUV光刻机，第一代EUV光刻机也大幅减少采购了，2023年的数据显示台积电仅为ASML贡献了6%的收入，原因就在于这些先进芯片制造企业之前采购的DUV光刻机和第一代EUV光刻机已足以满足要求。台积电尤为特殊，目前台积电的3纳米工艺是以第一代EUV光刻机生...

中国高端光刻机问世,分辨率突破65纳米,能制造8纳米的芯片吗

没有先进光刻机的支持，我国的芯片制造业一直难以突破28纳米制程的限制，更不用说7纳米或更小的制程技术。因此，国际舆论普遍认为中国将长期依赖于国外进口设备，而光刻机自主研发几乎不可能实现。外国的质疑与唱衰：中国光刻机“无望”？伴随着科技战的升温，西方媒体对于中国光刻机发展的质疑愈发强烈。美国与欧洲的...

关于国家工信部突然官宣的“国产光刻机”,你需要知道的10件事

中国终于有了自己的7nm光刻机,可以造出自己的7nm芯片,不怕再被卡脖子了。可是,还有人说:别激动。只是误会。那个“8nm”不是重点,它上面那个“65nm”才是。国产芯片还只在65nm的水平,努努力最多也就能够到28nm,离7nm还远得很。两种声音,两种节奏。不知道,你听完是什么感觉?“造出7nm芯片”,到底是个什...

中国造不出光刻机?中科大副院长:美国造不出,中国永远都不可能

没有光刻机,就无法生产出现代社会所依赖的各种电子设备中的核心部件——芯片。然而,中国在光刻机技术方面面临着严峻的挑战。目前,全球最先进的光刻机技术掌握在荷兰ASML公司手中,而中国一直面临着来自美国及其盟友的技术封锁。在这样的背景下,朱士尧的言论无疑给正在努力突破技术壁垒的中国科研人员当头一棒。...

中科大教授:美国造不出光刻机,中国有机会吗?我国选择另开赛道

从以上分析中也可以看出，无论是光刻机，还是跟光刻机配套的产品，都被欧美各国牢牢控制。只要西方一不乐意，立马就挥动制裁大棒，将供应链给打断。然而，即便是这样，像台积电等下游企业，也只能对其听之任之。毕竟整个芯片上游产业链，都掌握在欧美手里。尤其是光刻机，更是有40%的零部件出自美国，像阿斯麦也...

没有EUV光刻机,怎么做5nm芯片?

使用浸润式DUV光刻机+多重曝光技术生产5nm芯片完全可行,不计代价的情况下甚至能做到3nm(www.e993.com)2024年11月9日。尽管理论上可行,且在7nm节点上已被部分晶圆厂验证过,但这需要诸多条件同时满足,比如多重曝光中关键的“套刻精度”——多次曝光之间图形对准的精度。此外,也涉及到许许多多的制程手段,比如相移光罩、模型光学临近效应修正、过...

2024,中国芯片还需更多DUV光刻机

当地时间1月1日,荷兰光刻机巨头ASML发布声明称,荷兰政府已于近期部分吊销了向中国大陆出口部分芯片制造设备的许可证,涉及设备型号为NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统,并遗憾表示“可能会对少数客户带来影响”。少数客户是谁,影响范围可能有多大?ASML没有答案。

台积电不用新一代EUV光刻机!2030年的1nm再说

相比之下,台积电对于采用高NAEUV光刻机的计划显得更为谨慎。多个消息来源指出,台积电正在评估该技术的引入,并不打算在短期内采用,可能要等到1纳米工艺时代才会开始使用,预计时间为2030年左右。目前,台积电正致力于开发2纳米工艺,预计在2025至2027年间实现量产。这一工艺将允许单芯片集成超过1000亿个晶体管,单个封装...

我国光刻机起步不算晚,为啥至今没超越荷兰?这一观念太害人!

中国的科技企业和研究机构,需要在光刻机技术研发上,保持持续的热情和创新,通过内外合作与自主创新相结合的方式,推动国产光刻机技术走向成熟。综上所述,ASML公司推出的先进2nm光刻机,我们见证了芯片制造技术的一次重大飞跃,这不仅是一个技术上的突破,更是推动整个行业向前迈进的一大步。

光刻机巨头爆雷,国产替代还远吗?

无论怎么看,我们都是第一大客户,因为从全球看,半导体行业整体低迷,手机、PC等产品需求疲软,抑制了芯片制造商对光刻机的需求。虽然,AI的发展让英伟达业绩爆发,但还是不能完全抵消其他方面的下滑。但是咱们得情况就完全不同了,现在能用到芯片的,基本都在咱们这边,芯片我们是正处在逆周期拉货阶段。