国产光刻机65nm节点有望突破!5~10年内研发重点在哪?

智能制造网了解到，极紫外光刻技术(EUVlithography)是一种使用波长为13.5纳米的极紫外光作为光源的下一代光刻技术，广泛应用于半导体制造中，是面向7nm及以下节点的主流光刻技术。东海证券认为，目前国产光刻机整机技术与海外差距较大，5~10年内90nm、28nm光刻机的研发量产较为关键。智能制造网坚信，只要不断提高...

“中国能否自主研发EUV光刻机?阿斯麦CEO深度解析!”

EUV光刻机被视作制造高端芯片的核心设备，若没有它，生产出的芯片质量和性能都会受到限制。目前，全球仅有荷兰的阿斯麦公司拥有制造这一设备的能力，而且它的生产还需依赖于美日韩等国的技术支持。因此，虽然中国在芯片制造上具备能力，但在短时间内也难以获得制造高端芯片所需的设备。阿斯麦的CEO在接受德国媒体采访时...

美论坛惊讶,中国怎敢擅自研发光刻机?国产光刻机官宣,打谁的脸

按套刻精度与量产工艺1:3的关系,这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片,虽然与国外先进的光刻机存在比较大的代差,但这是一个不小的进展。这个消息传出,美国论坛乱了,美国网友惊讶表示:“未获美国首肯,中国怎敢擅自研发DUV光刻机?”言下之意,能看出美国网友对中国自主创新“心有不甘”,现在中国成为全...

中国光刻机研发引关注,美荷双声同指画,这背后有何玄机?

总的来说，美国和荷兰对中国光刻机研发的焦虑，反映了他们对自身科技霸权的担忧。但不管他们怎么封锁，中国在光刻机领域的进步是不可阻挡的。未来，随着中国光刻机技术的不断突破，不仅国内的芯片产业会更加稳固，国际市场的竞争格局也将发生变化。这一天，可能比我们想象的来得更快。#深度好文计划#...

光刻机无望?美国都造不来,中国永远都不能造出来?为什么这样说

光刻机的制造需要用到特殊的材料,例如光刻机的镜片材料要特别均匀,打磨工艺加工精度可以达到0.001纳米。这种镜片通常由德国蔡司的工人手工打磨出来,而且制造光刻掩模的成本可能高达几百万美元,其材料也需要极其昂贵且具备高精度的特性。光刻机的研发和制造也是需要大量的资金投入,以极紫外光刻机为例,其研发过程需...

华为被动“手脚”光刻机闹剧:自主研发光刻机的可行性与挑战

首先,自主研发光刻机是否可行?答案是肯定的(www.e993.com)2024年11月6日。从技术角度来看,光刻机的制造虽然涉及多学科交叉、高精度制造等难题,但并非不可攻克。事实上,随着科技的不断进步,国内已经在光刻机相关领域积累了一定的技术基础。此外,国家政策对半导体产业的扶持,也为自主研发光刻机提供了有力的外部环境。从华为等企业的技术储备和管理...

没有EUV光刻机,怎么做5nm芯片?

1)提升sinθ:研发巨大复杂的镜头sinθ与镜头聚光角度有关,数值由镜头决定,sinθ越大,分辨率越高。光刻机所使用的镜头由非常多大大小小、不同厚薄及曲率的透镜,经过精确计算后,仔细堆叠组成的,需要靠起重机来吊装,目前光刻机的镜头系统接近6000万美元,EUV镜头系统甚至超过一亿美元。

EUV光刻机突破中的科技与产业创新是如何融合的?

EUV光刻机是研发出来的,实际上更是用出来的。每一台EUV光刻机的出售,都需要几十名技术人员到用户处进行运行调试;在调试过程中,ASML的核心工作之一就是及时且高效地解决技术不足和用户的定制化需求。例如,领先用户台积电提出EUV光刻系统的商用化需要将全新光罩的原生缺陷降低90%,否则晶圆的良品率难以达到市场要求。针...

ASML光刻机是怎样一步步走上绝路的

我们要解释光刻机的难度,同样需要理解它怎样处理各种印刷的精度和材料及温度特性等问题。二、光刻机从Aligner到Stepper(步进光刻机),是一次微机电的升级,从一次曝光一整片晶圆到光头在晶圆上一步一步(Stepandrepeat)移动曝光一个小方块,那时还用的是简单的汞灯。Stepper升级到Scanner(扫描光刻机),因为激光光源...

中国为何自行研发光刻机?西方国家被逼无奈,还是想实现技术升级

中国为何要自行研发光刻机?是技术的升级,也是“被逼无奈”的选择。当然,相对于这两种答案,我更倾向于前一种。虽然我们国家还没有研制出如此厉害的光刻机,但中国在这发展的道路是正确的。因为只有我们研发出光刻机之后再进行一定的升级,那么,我们的光刻机绝对会在该领域站稳脚跟的。